JP2017517019A - 偏光放射デバイス - Google Patents
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Abstract
Description
1.高い偏光比を具備する偏光光を放射することができる偏光放射デバイスが望ましい。
2.生産コストおよび/または生産ステップを減少させる、複数の無機蛍光性半導体量子ロッドを含む前記偏光放射デバイスを製造するための簡単な加工プロセスが必要である。
驚くべき事に、本発明者は、新規な偏光放射デバイス(100)であって、複数の溝を含む基質(110);および基質の複数の溝の表面に整列する複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(120)を含み、複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(120)は、自己組織化コロイド状超素粒子ではない、前記偏光放射デバイスが、上記問題1および2を同時に解決する事を見出した。
別の側面において、本発明はさらに、偏光放射デバイス(100)を含む光学デバイス(130)に関し、ここで、前記偏光放射デバイス(100)は、複数の溝を含む基質(110);および基質の複数の溝の表面に整列する複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(120)を含み、複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(120)は、自己組織化コロイド状超素粒子ではない。
(a)複数の無機蛍光性半導体量子ロッドを溶媒中へ分散させること;
(b)ステップ(a)で生成された溶液を複数の溝上に提供すること;および
(c)コートされた溶液における溶媒を蒸発させて、偏光放射デバイス(100)を提供することを含む。
本発明のさらなる利点は、以下の詳細な説明から明らかになるであろう。
100.偏光放射デバイス
110.基質
120.複数の溝
130.複数の無機蛍光性半導体量子ロッド
一般的な側面において、偏光放射デバイス(100)は、複数の溝(120)を含む基質(110);および基質(110)の複数の溝(120)の表面に整列する複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(130)を含み、複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(130)は、自己組織化コロイド状超素粒子ではない。
基質のための材料は、特に限定されない。
本発明の好ましい態様において、前記基質(100)および複数の溝(120)は、透明である。
より好ましくは、透明な基質として、透明ポリマー基質、ガラス基質、透明ポリマーフィルム上に積層された薄ガラス基質、透明金属酸化物(例えば、シリコーン酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物)が使用可能である。
本発明の好ましい態様において、光反射層は、基質および複数の溝の間、または基質における、複数の溝上に配置され得る。
好ましくは、それは70%以上、より好ましくは75%以上、もっとも好ましくは80%以上である。
光反射層のための材料は、特に限定されない。光反射層のための既知の材料を、好ましくは所望されるだけ使用でき得る。
いくつかの態様において、光反射層は、単層または多層であり得る。
一般的に、光反射層を製造する方法は、所望されるだけ多様であり、既知の技術から選択される。
本発明のいくつかの態様においては、好適なものとして、複数の溝は、複数の並行なマイクロ溝(microgroove)である。
本発明の好ましい態様において、複数の溝の軸方向ピッチは、10nm〜1.2μmであり、複数の溝の底部から上部の高さは、10nm〜1μmである。より好ましくは、軸方向ピッチは、50nm〜1μmであり、高さは、20nm〜500nmである。
さらにより好ましくは、軸方向ピッチは、260nm〜420nmであり、高さは、50nm〜100nmである。
複数のマイクロ溝は、基質の一体部分として加工され得るか、または、別に加工され、公的に知られている技術によって、透明なバインダー(binder)で基質上に接着され得る。本発明の好ましい態様において、複数のマイクロ溝は、レーザー光干渉法によって加工され得る。
いくつかの態様において、複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(130)は、II−VI、III−VまたはIV−VI族半導体およびこれらいずれかの組み合わせから成る群から選択される。
本発明の好ましい態様において、無機蛍光性半導体量子ロッドの全体構造の長さは、8nm〜500nmである。より好ましくは、10nm〜160nmである。前記無機蛍光性半導体量子ロッドの全体の直径は、1nm〜20nmの範囲である。より好ましくは、1nm〜10nmである。
好ましくは、無機蛍光性半導体量子ロッドの表面は、1種以上の表面配位子でオーバーコートされ得る。
学説によって縛られようとするるものではないが、かかる表面配位子は、無機蛍光性半導体量子ロッドを溶媒により簡単に分散する助けとなると考えられる。
いくつかの態様において、偏光放射デバイス(100)は、光源によって照射されている。好ましくは、紫外、近紫外、または、青色LED、CCFL、EL、OLED、キセノンランプ、または、これらいずれかの組み合わせなどの、紫外線、近紫外線、または、青色光源である。
本発明の目的のために、用語“近紫外線”は、300nmと410nmとの間の光波長を意味する。
学説によって縛られようとするものではないが、かかる透明パッシベーション層は、偏光放射デバイス(100)の複数の溝(120)の表面に整列する、複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(130)の保護を増大することに繋がると考えられる
好ましい態様において、透明パッシベーション層は、透明基質において上記で説明したように、透明ポリマー、透明金属酸化物(例えば、シリコーン酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物)から成る群から選択される。
いくつかの態様において、透明パッシベーション層は、気相ベースのコーティングプロセス(スパッタリング、化学蒸着、蒸着、フラッシュ蒸発など)、または液体ベースのコーティングプロセスによって、製造され得る。
別の側面において、本発明は、偏光放射デバイス(100)の光学デバイスにおける使用に関する。
より好ましくは、偏光放射デバイス(100)は、偏光LCDバックライトユニットとして使用され得る。
(a)複数の無機蛍光性半導体量子ロッドを溶媒中へ分散させること;
(b)ステップ(a)で生成された溶液を複数の溝上に提供すること;および
(c)コートされた溶液における溶媒を蒸発させて、偏光放射デバイス(100)を提供することを含む。
本発明のいくつかの態様において、方法は、さらにステップ(b)の後およびステップ(c)の前に、ステップ:(d)複数の溝上に提供された生成された溶液を平らにすることを含む。
既知の均し方法が、好ましくはこの点で使用でき得る。例えば、日本国特許4782863Bで説明されている、送風、スクイージ、ブレード、密閉条件でのヒーティングなどがある。
さらに好ましい態様において、超音波処理器は、好ましくは空調下でミキシングにおいて使用される。
好適なものとして、ステップ(b)において、生成された溶液は、上記で説明したように液体ベースのコーティングプロセスによって、複数の溝上にコートされ、好ましくは空調下で、偏光放射デバイスを得る。
より好ましくは、蒸発は、好ましくは空調下で、30℃以上および200℃以下、より好ましくは、空調中で50℃以上および90℃以下の条件で焼成することで実施され、偏光放射デバイスを得る。
以下の実施例1−9は、本発明の偏光放射デバイスの説明、およびそれらの加工の詳細な説明を提供する。
本発明によれば、用語“自己組織化コロイド状超素粒子”は、特に、Tibert van der Loop, Master thesis for Master of Physical Sciences FNWI Universiteit van Amsterdam Roeterseiland Complex; Nieuwe achtergracht 166 1018WV Amsterdamで説明されている、コロイド粒子の形態における半導体ナノロッドアセンブリを意味する。
好ましくは、それは70%以上、より好ましくは75%以上、もっとも好ましくは80%以上である。
用語“無機”は、炭素原子を含まない、または、一酸化炭素、二酸化炭素、炭酸塩、シアン化物、シアン酸塩、炭化物およびチオシアン酸塩などの他の原子にイオン結合する炭素原子を含むいずれかの化合物を含まない、いずれかの材料を意味する。
用語“放射”は、原子および分子における電子遷移による電磁波の放射を意味する。
本発明は、以下の実施例を参照してより詳細に説明されるが、これらは例証であり、本発明の範囲を限定するものではない。
0.003gのトリ−n−オクチルホスフィンオキシド(TOPO)−カバーロッド−形状ナノ結晶(Qlight Technologies社)が、チップ超音波処理器(Branson Sonifier 250)を使用した超音波処理によって、トルエン(3g)中に分散された。
ホログラフィック回折格子は、5mmのガラス基質、レーザー光干渉によって作成されたマイクロ溝を具備するエポキシ樹脂、およびアルミニウム反射板から成る。
コーティングの後に生成された溶液が、環境大気中でスパチュラで平らにされた。平らにした後で、コートされた溶液におけるトルエンを、空調下で5分間、20℃で蒸発させた。
そして、反射ホログラフィック光回折格子を有する偏光放射デバイスが作成された。
0.003gのトリ−n−オクチルホスフィンオキシド(TOPO)−カバーロッド−形状ナノ結晶(Qlight Technologies社)が、チップ超音波処理器(Branson Sonifier 250)を使用した超音波処理によって、トルエン(3g)中に分散された。
260nmのピッチおよび62.4nmの高さのマイクロ溝を有するホログラフィック光回折格子(Edmund Optics社から入手)が、アセトン中で超音波処理によって洗浄された。
そして、生成された溶液が、ドロップキャスティング法によって、光回折格子上にコートされた。100マイクロリットルの生成された溶液が、25mm×25mmの光回折格子上にドロップされ、回折格子の全域を均一にカバーした。
コートされた溶液におけるトルエンを、空調下で5分間、20℃で蒸発させた。
反射ホログラフィック光回折格子を有する偏光放射デバイス2が、実施例2で説明されたデバイス1と同様に作成され、50nmの高さを具備する420nmピッチの互いに異なるピッチおよび高さのマイクロ溝を有するホログラフィック光回折格子(Edmund Optics社から入手)が期待される(デバイス2)。
0.003gのトリ−n−オクチルホスフィンオキシド(TOPO)−カバーロッド−形状ナノ結晶(Qlight Technologies社)が、チップ超音波処理器(Branson Sonifier 250)を使用した超音波処理によって、トルエン(3g)中に分散された。
そして、生成された溶液が、ドロップキャスティング法によって、光回折格子上にコートされた。100マイクロリットルの生成された溶液が、25mm×25mmの光回折格子上にドロップされ、回折格子の全域を均一にカバーした。
コートされた溶液におけるトルエンを、空調下で5分間、20℃で蒸発させた。
0.003gのトリ−n−オクチルホスフィンオキシド(TOPO)−カバーロッド−形状ナノ結晶(Qlight Technologies社)が、Bransonチップ超音波処理器を使用した超音波処理によって、トルエン(3g)中に分散された。
アルミニウム反射コーティングを具備し、機械的に線引きされたマイクロ溝から複製された0.84μmのピッチおよび100nmの高さのマイクロ溝を有する、ガラスブレーズド光回折格子(Edmund Optics社から入手)が、アセトン中で超音波処理によって洗浄された。
コートされた溶液におけるトルエンを、空調下で5分間、20℃で蒸発させた。
CdSeコアおよびCdSシェルを有する、0.003gのトリ−n−オクチルホスフィンオキシド(TOPO)−カバーロッド−形状ナノ結晶(Qlight Technologies社)が、Bransonチップ超音波処理器を使用した超音波処理によって、トルエン(3g)中に分散された。
1μmのピッチおよび100nmの高さのマイクロ溝を有する光回折格子PETフィルム(コーヨー社から)が、アセトン中で超音波処理によって洗浄された。
コートされた溶液におけるトルエンを、空調下で5分間、20℃で蒸発させた。
0.003gのポリエチレンイミン−カバーロッド−形状ナノ結晶(Qlight Technologies社)が、Bransonチップ超音波処理器を使用した超音波処理によって、水(3g)中に分散された。
光回折格子から複製された、0.84μmのピッチおよび100nmの高さのマイクロ溝を有するPDMS(信越化学工業社から入手)が、エタノール中で超音波処理によって洗浄された。
そして、生成された溶液が、ドロップキャスティング法によって、光回折格子上にコートされた。100マイクロリットルの生成された溶液が、25mm×25mmのマイクロ溝を有するPDMSシート上にドロップされ、回折格子の全域を均一にカバーした。
コートされた溶液における水を、空調下で10分間、80℃で蒸発させた。
0.003gのポリエチレンイミン−カバーロッド−形状ナノ結晶(Qlight Technologies社)が、Bransonチップ超音波処理器を使用した超音波処理によって、水(3g)中に分散された。
光回折格子から複製された、0.84μmのピッチおよび100nmの高さのマイクロ溝を有するPMMA(Sigma-Aldrich社から)が、エタノール中で超音波処理によって洗浄された。
そして、生成された溶液が、ドロップキャスティング法によって、光回折格子上にコートされた。100マイクロリットルの生成された溶液が、25mm×25mmのマイクロ溝を有するPMMAシート上にドロップされ、回折格子の全域を均一にカバーした。
コートされた溶液における水を、空調下で10分間、80℃で蒸発させた。
偏光放射デバイスは、スペクトル計を具備する偏光顕微鏡によって評価された。
デバイスは、1W、405nmの発光ダイオードによって励起され、デバイスからの放射は、10×の対物レンズを具備する顕微鏡によって観察された。対物レンズからの光は、ロングパスフィルタ;そのカットオフ波長は、420nm、および偏光子を通してスペクトル計に導かれた。ロングパスフィルタの目的は、405nmの励起光を遮断することである。マイクロ溝に並行して垂直に偏光された放射波長のピークの光強度は、スペクトル計によって観察された。
放射の偏光比(以下PR)は、方程式1(式1)から決定され、実施例2で作成されたデバイスのPRおよび溝のピッチが、図4に示される。
方程式1
0.003gのトリ−n−オクチルホスフィンオキシド(TOPO)−カバーロッド−形状ナノ結晶(Qlight Technologies社)が、チップ超音波処理器(Branson Sonifier 250)を使用した超音波処理によって、トルエン(3g)中に分散された。
260nmのピッチおよび62.4nmの高さのマイクロ溝を有するホログラフィック光回折格子(Edmund Optics社から入手)が、アセトン中で超音波処理によって洗浄された。
ホログラフィック回折格子は、5mmのガラス基質、レーザー光干渉によって作成されたマイクロ溝を具備するエポキシ樹脂、およびアルミニウム反射板から成る。
コートされた溶液におけるトルエンを、空調下で5分間、20℃で蒸発させた。
図5は、実施例9において作成された各デバイスのドロップキャストの容量と総放射強度との関係を示し、また、各デバイスのドロップキャストの容量と偏光比との関係を示す。
Claims (13)
- 偏光放射デバイス(100)であって、複数の溝(120)を含む基質(110);および基質の複数の溝の表面に整列する複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(130)を含み、複数の無機蛍光性半導体量子ロッドは、自己組織化コロイド状超素粒子ではない、前記偏光放射デバイス。
- 基質(110)および複数の溝(120)が透明である、請求項1に記載の偏光放射デバイス。
- 偏光放射デバイス(100)が、光反射層をさらに含む、請求項1または2に記載の偏光放射デバイス。
- 複数の溝(120)が、複数の並行するマイクロ溝である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の偏光放射デバイス。
- 複数の溝(120)が、基質(110)の表面に周期的に配置される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の偏光放射デバイス。
- 複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(130)が、II−VI、III−VまたはIV−VI族半導体およびこれらいずれかの組み合わせから成る群から選択される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の偏光放射デバイス。
- 複数の無機蛍光性半導体量子ロッドが、表面配位子を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の偏光放射デバイス。
- 偏光放射デバイス(100)が、透明パッシベーション層(140)をさらに含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の偏光放射デバイス。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の偏光放射デバイス(100)の光学デバイスにおける使用。
- 光学デバイス(150)であって、光学デバイスは、複数の溝(120)を含む基質(110);および基質(110)の複数の溝の表面に整列する複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(130)を含む、偏光放射デバイス(100)を含み、複数の無機蛍光性半導体量子ロッド(130)は、自己組織化コロイド状超素粒子ではない、前記光学デバイス。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の偏光放射デバイス(100)を製造する方法であって、方法が、以下の逐次的なステップ:
(a)複数の無機蛍光性半導体量子ロッドを溶媒中へ分散させること;
(b)ステップ(a)で生成された溶液を複数の溝上に提供すること;および
(c)コートされた溶液における溶媒を蒸発させて、偏光放射デバイス(100)を提供することを含む、前記方法。 - ステップ(b)の後であってステップ(c)の前に、ステップ:(d)複数の溝上に提供された生成された溶液を平らにすること、をさらに含む、請求項11に記載の偏光放射デバイス(100)を製造する方法。
- 溶媒が、水または有機溶媒である、請求項11または12に記載の偏光放射デバイス(100)を製造する方法。
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