CN105182594B - 显示基板 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 48
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 39
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 120
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 47
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 29
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 16
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 12
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 12
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 10
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 6
- -1 Ehter bond Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 5
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229910017115 AlSb Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910004262 HgTe Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 claims description 3
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims description 3
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 5
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 4
- 230000028161 membrane depolarization Effects 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical group NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001062009 Indigofera Species 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005421 electrostatic potential Methods 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000005007 epoxy-phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- GRPQBOKWXNIQMF-UHFFFAOYSA-N indium(3+) oxygen(2-) tin(4+) Chemical compound [Sn+4].[O-2].[In+3] GRPQBOKWXNIQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004054 semiconductor nanocrystal Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/133514—Colour filters
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Abstract
一种显示基板，包括衬底基板和偏振层，其中偏振层包括同层设置且材料相同的线栅偏振器和遮光矩阵。该显示基板简化了生产环节，从而降低了成本，并减小了液晶显示装置的厚度。
Description
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及显示基板。
背景技术
已有的液晶显示装置(LCD)中，遮光矩阵和偏振片一般都是各自单独成为一层，这不但增加了制作成本，而且使得显示器件变厚。
此外，量子点材料已被用来制作液晶显示装置(LCD)中的彩膜基板。量子点是在三个空间方向上把导带电子、价带空穴及激子束缚住的半导体纳米结构。这种约束可以归结于静电势(由外部的电极、掺杂、应变、杂质产生)，两种不同半导体材料的界面(例如：在自组量子点中)，半导体的表面(例如：半导体纳米晶体)，或者以上三者的结合。量子点是一种由II－VI族或III－V族元素组成的纳米颗粒。量子点的粒径一般介于1～10nm之间，由于电子和空穴被量子限域，连续的能带结构变成具有分子特性的分立能级结构，受激后可以发射荧光。基于量子效应，量子点在太阳能电池，发光器件，光学生物标记等领域具有广泛的应用前景。
通常显示领域所采用的白光发光二极管(LED)背光源与普通彩色滤色片配合形成彩色显示光源利用率低，显示器的色域窄。而采用量子点充当彩膜材料，则可以有效提高显示色域。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示基板，包括衬底基板和偏振层，
其中所述偏振层包括同层设置且材料相同的线栅偏振器和遮光矩阵。
可选的，所述显示基板为彩膜基板，所述彩膜基板还包括量子点层，以及设置在所述量子点层和所述偏振层之间的平坦层。
可选的，所述显示基板为阵列基板，所述阵列基板还包括阵列排布的薄膜晶体管。
可选的，所述偏振层中的所述线栅偏振器和所述遮光矩阵由同一种金属材料形成。
可选的，所述金属材料选自下述集合：Al、Cu、Au、Ag和Cr。
可选的，所述平坦层由含有极性键的树脂材料形成。
可选的，所述极性键选自下述集合：羟基、羧基、羰基、醚键、异氰酸酯基和氨酯基。
可选的，所述含有极性键的树脂材料选自下述集合：环氧树脂、酚醛树脂、脲醛树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇、聚氨酯、橡胶、醋酸乙烯及其共聚物、聚苯乙烯及其共聚物、有机硅和环氧酚醛树脂。
可选的，在所述偏振层和所述平坦层之间设置粘接层。
可选的，所述粘接层材料包括ITO和/或IZO。
可选的，所述量子点层的材料选自下述集合：CdS、CdSe、CdTe、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、GaAs、GaP、GaSb、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InP、InSb、AlAs、AlP、CuInS、CuInSe、AlSb。
可选的，所述显示基板还包括：隔垫物，其中，所述隔垫物设置于所述显示基板上与所述衬底基板相对的一侧。
可选的，所述量子点层包括多个量子点彩色滤光单元。
本发明的实施例还提供一种液晶显示装置，包括如上所述的显示基板。
本发明的实施例还提供一种显示基板的制备方法，包括：
提供衬底基板，在所述衬底基板上沉积金属膜；
处理所述金属膜，形成线栅偏振器和遮光矩阵。
可选的，所述方法包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板上制备图案化的量子点层；
在所述图案化的量子点层上制备平坦层；
在所述平坦层上沉积金属膜；
处理所述金属膜，形成线栅偏振器和遮光矩阵。
可选的，所述处理所述金属膜，形成线栅偏振器和遮光矩阵包括：
在所述金属膜上涂覆抗刻蚀剂；
用模板在所述抗刻蚀剂上压出对应于所述线栅偏振器的结构和所述遮光矩阵的结构；
脱模、去除多余的抗刻蚀剂，以暴露出所述金属膜；
刻蚀金属膜以形成所述线栅偏振器和所述遮光矩阵。
可选的，所述模板的制作方法为：在衬底基板上，用电子束直写技术制作出对应于所述线栅偏振器的结构和所述遮光矩阵的结构。
可选的，所述金属膜的材料包括Al、Cu、Au、Ag和Cr。
可选的，在所述图案化的量子点层上制备平坦层的步骤之后且在沉积所述金属膜之前，还包括：
制备粘接层，然后在所述粘结层之上沉积所述金属膜。
可选的，所述粘接层材料选自ITO或IZO。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1为本发明一实施方式提供的显示基板结构示意图；
图2为本发明另一实施方式提供的显示基板结构示意图；
图3为本发明另一实施方式提供的显示基板结构示意图；
图4(a)-(f)为本发明一实施方式提供的显示基板制造过程示意图；
图5为本发明一实施方式提供的液晶显示装置结构示意图。
附图标记说明：
100、200-衬底基板；101、201-量子点层；1011、2011-红色量子点图案单元；1012、2012-绿色量子点图案单元；1013、2013-蓝色量子点图案单元；102、202-平坦层；103、203-偏振层；1031、2031-线栅偏振器；1032、2032-遮光矩阵；204-粘接层；105-金属膜；106-抗刻蚀剂层；107-模板；108、208-隔垫物；2-阵列基板；3-对置基板(彩膜基板)；4-液晶材料；5-背光源；6-封框胶；10-液晶显示装置。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另作定义，本公开所使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“一个”或者“一”等类似词语不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。
已有的液晶显示装置(LCD)中，遮光矩阵和偏振片一般都是各自单独成为一层，这不但增加了制作成本，而且使得显示器件变厚。
此外，量子点材料已被用来制作液晶显示装置(LCD)中的彩膜基板。但由于量子点受入射光激发发出的荧光是自然光，可以全部透过上偏光片，无法调节灰阶，即将量子点材料制作的彩膜基板应用在液晶显示装置(LCD)上存在退偏问题。这就需要在背光通过液晶之后、激发量子点之前增加一个偏光片，但增加偏光片工艺复杂，还需要增加一张玻璃基板，导致成本的升高。
针对上述问题，本发明的实施例提出了一种制备工艺简单的、将线栅偏振器(Gridpolarizer，GP)和遮光矩阵整合在同一层的显示基板，可应用在LCD中，使得制备工艺变得简单，减小了液晶显示装置的厚度，用作量子点彩膜基板则能够有效提高色域同时解决量子点退偏问题。
下面将结合附图具体说明本发明的实施方式。
如图1所示，本发明的实施例提供一种显示基板，包括衬底基板100和偏振层103，其中所述偏振层103包括同层设置且一体成型的线栅偏振器1031和遮光矩阵1032。
本发明的上述实施例的显示基板通过将线栅偏振器和遮光矩阵整合在同一层，不但简化了制备工艺，而且使得液晶显示装置更加轻薄化。
如图2所示，本发明的实施例提供一种显示基板，包括衬底基板100、量子点层101、偏振层103、设置在所述量子点层101和所述偏振层103之间的平坦层102、设置于所述偏振层103远离所述基板100的一侧的隔垫物108，其中所述偏振层103包括同层设置且一体成型的线栅偏振器1031和遮光矩阵1032。
所述偏振层103中的所述线栅偏振器1031和所述遮光矩阵1032可由同一种材料形成。可选的，所述偏振层103中的所述线栅偏振器1031和所述遮光矩阵1032可由同一种金属材料形成。
所述金属材料可选择本领域常用的金属材料，可以举出的例子如Al、Cu、Au、Ag和Cr，或者这些金属的合金。
在实际使用过程中，需要考虑金属材料的偏振层103与例如高分子材料的平坦层102之间的粘附力。若偏振层103与平坦层102之间的粘附力不够，使用过程中可能造成偏振层103的脱落。因此，为了增加偏振层103与平坦层102之间的粘附力，所述平坦层103可以选择含有较多极性键的树脂材料形成。所述极性键包括羟基、羧基、羰基、醚键、异氰酸酯基和氨酯基。例如，所述含有较多极性键的树脂材料包括环氧树脂、酚醛树脂、脲醛树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇、聚氨酯、橡胶、醋酸乙烯及其共聚物、聚苯乙烯及其共聚物、有机硅和环氧酚醛树脂。以聚氨酯类树脂材料为例，金属材料表面张力很大，属于高能表面，其表面通常含有吸附水、羟基及其他极性基团，聚氨酯类树脂材料可与吸附水、羟基等活性位点反应形成共价键；同时，聚氨酯类树脂材料中的氨基甲酸酯基、取代脲基等极性基团也会与金属材料表面的极性基团形成第二类化学键；此外，金属材料还能与芳香族聚氨酯中的苯环形成配位键。上述化学键或者配位键的形成，在偏振层103与平坦层102之间形成了有效的连接，从而增强了偏振层103与平坦层102之间的粘附力。
所述量子点层101的材料可以选择本领域常用的量子点材料，例如可以选自下述材料的一种或多种：CdS、CdSe、CdTe、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、GaAs、GaP、GaSb、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InP、InSb、AlAs、AlP、CuInS、CuInSe、AlSb。量子点的发射光谱可以通过改变量子点的尺寸大小来控制，即将量子点形成为不同尺寸，可以发射不同颜色的光。当然，该量子点的材料包括但并不局限于上述列举出来的几种，具有与上述物质具有相同或相似的其他材料也同样可以适用。以硫化锌(ZnS)量子点为例，发射红光的量子点尺寸主要为约9～10nm，发射黄光量子点尺寸为约8nm，发射绿光的量子点尺寸为约7nm。
所述量子点层101的图案可以根据实际需要进行设置。例如所述量子点层101可以包括红色量子点图案单元1011、绿色量子点图案单元1012和蓝色量子点图案单元1013，所述红色量子点图案单元1011、绿色量子点图案单元1012和蓝色量子点图案单元1013形成分立的红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。当然，所述量子点层101还可以包括其他颜色的量子点图案单元，例如黄色量子点图案单元。
本发明实施例中在偏振层103中同层设置了一体成型的线栅偏振器1031和遮光矩阵1032，无需在背光通过液晶之后、激发量子点之前增加一个偏光片，即解决了将显示基板应用在LCD上退偏的问题。这不但省略了增加偏光片的复杂步骤，简化了生产环节，而且不需要增加玻璃基板，从而降低了成本。
另一种增加偏振层与平坦层之间的粘附力的方式是在所述偏振层和所述平坦层之间进一步设置粘接层。
如图3所示，显示基板包括衬底基板200、量子点层201、偏振层203、设置在所述量子点层201和所述偏振层203之间的平坦层202、设置于所述偏振层203远离所述基板200的一侧的隔垫物208，其中所述偏振层203包括同层设置且一体成型的线栅偏振器2031和遮光矩阵2032。与上一实施例相同的内容将不再赘述。在所述偏振层203和所述平坦层202之间进一步设置粘接层204。所述粘接层204一般用无机材料制作，可以用无机材料例如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等。采用上述材料制备的粘接层204可以很好地同时对金属材料的偏振层203及高分子材料的平坦层202提供足够的粘附力，因而平坦层202可以不需要使用特定的树脂材料，任何本领域常用的平坦层材料均可满足需求。
如图4(a)-(f)所示，本发明的实施例还提供一种显示基板的制备方法。
如图4(a)所示，在基板100上制备量子点层101；在所述量子点层101上制备平坦层102。量子点层101可以是分立的不同颜色的量子点图案单元，如图4(a)示出了分立的3个量子点图案单元1011、1012和1013组成量子点层101。3个量子点图案单元在背光激发下，可以发出不同的光，如图案单元1011发射红光、图案单元1012发射绿光和图案单元1013发射蓝光，从而实现全彩显示。制备量子点层101和平坦层102的方法可以采用本领域通用的方法如涂覆-曝光-显影，此处不再赘述。然后，在所述平坦层102上沉积一层金属膜105。所述金属膜105的材料可选择本领域常用的金属材料，可以举出的例子如Al、Cu、Au、Ag和Cr，或者这些金属的合金。
如图4(b)所示，在所述金属膜105上涂覆抗刻蚀剂，形成抗刻蚀剂层106。抗刻蚀剂可选择本领域用来刻蚀金属的任何常规抗刻蚀剂，本实施例中采用的抗刻蚀剂为聚甲基丙希酸甲酯(PMMA)。
如图4(c)所示，例如对抗刻蚀剂层106进行加热或者紫外光照射，使其软化，用模板107在所述抗刻蚀剂层106上压出对应于所述线栅偏振器的结构和所述遮光矩阵的结构。所述模板107的制作方法例如可以为：在例如SiO2或者Si基板的衬底基板上，用电子束直写技术制作出对应于所述所述线栅偏振器的结构和对应于所述遮光矩阵的结构。
如图4(d)所示，移除模板107，留下了压印上对应于所述线栅偏振器的结构和对应于所述遮光矩阵的结构的抗刻蚀剂层106。
如图4(e)所示，去除多余的抗刻蚀剂，以暴露出所述金属膜105。
如图4(f)所示，刻蚀金属膜，随后清洗，形成所述线栅偏振器1031。金属膜层105则变为集成了所述线栅偏振器1031和所述遮光矩阵1032的所述偏振层103。
本发明的上述实施例采用纳米压印技术将线栅偏振器1031和遮光矩阵1032整合制作在偏振层103上，减少了一次遮光矩阵图案化步骤，简化了制作工艺，减少了成本，同时整合了线栅偏振器1031和遮光矩阵1032的偏振层103可以解决量子点退偏的问题，无需在背光通过液晶之后、激发量子点之前增加一个偏光片，使得发光器件的结构更加简单，同样进一步节约了成本。
对于在偏振层和平坦层之间进一步设置了粘接层的显示基板的制备方法，与上述方法基本相同，只需在制备平坦层之后且在沉积所述金属膜之前，增加一个在平坦层上制备粘接层的步骤，此处不再赘述。
本发明的另一个实施例提供了一种液晶显示装置。如图5所示，该液晶显示装置10包括阵列基板2和与该阵列基板2相对设置自动对置基板3，二者彼此对置以形成液晶盒并通过封框胶6密封，在液晶盒中填充有液晶材料4。该对置基板3为上述任一的彩膜基板。阵列基板2包括像素单元的阵列，每个像素单元的像素电极用于施加电场对液晶材料的旋转的程度进行控制从而进行显示操作。该液晶显示装置10还包括为阵列基板提供背光的背光源5，该背光源5发出的光从阵列基板2一侧进入液晶盒之中，然后从对置基板(彩膜基板)3一侧出射。
该液晶显示装置例如可以实现为液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。
Claims (19)
1.一种显示基板，包括衬底基板和偏振层，
其中所述偏振层包括同层设置且材料相同的线栅偏振器和遮光矩阵；所述显示基板为彩膜基板，所述彩膜基板还包括量子点层，以及设置在所述量子点层和所述偏振层之间的平坦层。
2.根据权利要求1所述的显示基板，所述显示基板为阵列基板，所述阵列基板还包括阵列排布的薄膜晶体管。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述偏振层中的所述线栅偏振器和所述遮光矩阵由同一种金属材料形成。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其中，所述金属材料选自下述集合：Al、Cu、Au、Ag和Cr。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述平坦层由含有极性键的树脂材料形成。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其中，所述极性键选自下述集合：羟基、羧基、羰基、醚键、异氰酸酯基和氨酯基。
7.根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述含有极性键的树脂材料选自下述集合：环氧树脂、酚醛树脂、脲醛树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯醇、聚氨酯、橡胶、醋酸乙烯及其共聚物、聚苯乙烯及其共聚物、有机硅和环氧酚醛树脂。
8.根据权利要求1所述的显示基板，其中，在所述偏振层和所述平坦层之间设置粘接层。
9.根据权利要求8所述的显示基板，其中，所述粘接层材料包括ITO和/或IZO。
10.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述量子点层的材料选自下述集合：CdS、CdSe、CdTe、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、GaAs、GaP、GaSb、HgS、HgSe、HgTe、InAs、InP、InSb、AlAs、AlP、CuInS、CuInSe、AlSb。
11.根据权利要求1所述的显示基板，还包括：隔垫物，其中，所述隔垫物设置于所述显示基板上与所述衬底基板相对的一侧。
12.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述量子点层包括多个量子点彩色滤光单元。
13.一种液晶显示装置，包括权利要求1-12任一项所述的显示基板。
14.一种显示基板的制备方法，包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板上制备图案化的量子点层；
在所述图案化的量子点层上制备平坦层；
在所述平坦层上沉积金属膜；
处理所述金属膜，形成线栅偏振器和遮光矩阵。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述处理所述金属膜，形成线栅偏振器和遮光矩阵包括：
在所述金属膜上涂覆抗刻蚀剂；
用模板在所述抗刻蚀剂上压出对应于所述线栅偏振器的结构和所述遮光矩阵的结构；
脱模、去除多余的抗刻蚀剂，以暴露出所述金属膜；
刻蚀金属膜以形成所述线栅偏振器和所述遮光矩阵。
16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述模板的制作方法为：在衬底基板上，用电子束直写技术制作出对应于所述线栅偏振器的结构和所述遮光矩阵的结构。
17.根据权利要求14所述的方法，其中，所述金属膜的材料包括Al、Cu、Au、Ag和Cr。
18.根据权利要求14所述的方法，在所述图案化的量子点层上制备平坦层的步骤之后且在沉积所述金属膜之前，还包括：
制备粘接层，然后在所述粘接 层之上沉积所述金属膜。
19.根据权利要求18所述的方法，其中，所述粘接层材料选自ITO或IZO。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510527566.4A CN105182594B (zh) | 2015-08-25 | 2015-08-25 | 显示基板 |
| US15/126,020 US10209557B2 (en) | 2015-08-25 | 2016-01-29 | Display substrate |
| EP16760636.7A EP3343280A4 (en) | 2015-08-25 | 2016-01-29 | DISPLAY SUBSTRATE |
| PCT/CN2016/072826 WO2017031951A1 (zh) | 2015-08-25 | 2016-01-29 | 显示基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510527566.4A CN105182594B (zh) | 2015-08-25 | 2015-08-25 | 显示基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105182594A CN105182594A (zh) | 2015-12-23 |
| CN105182594B true CN105182594B (zh) | 2018-07-31 |
Family
ID=54904769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510527566.4A Active CN105182594B (zh) | 2015-08-25 | 2015-08-25 | 显示基板 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10209557B2 (zh) |
| EP (1) | EP3343280A4 (zh) |
| CN (1) | CN105182594B (zh) |
| WO (1) | WO2017031951A1 (zh) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105182594B (zh) * | 2015-08-25 | 2018-07-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板 |
| KR20170136109A (ko) * | 2016-05-31 | 2017-12-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 색변환 패널 및 이를 포함하는 표시 장치 |
| CN105911628B (zh) * | 2016-06-07 | 2018-08-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线栅偏振器结构、显示基板母板及制作方法 |
| CN106597762A (zh) * | 2016-10-28 | 2017-04-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 线栅偏光电极及其压印模具和制作方法、显示基板 |
| CN108241187B (zh) * | 2016-12-23 | 2024-03-15 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 量子点偏光片、液晶面板及液晶显示装置 |
| KR20180085854A (ko) * | 2017-01-19 | 2018-07-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
| CN106855648A (zh) * | 2017-02-04 | 2017-06-16 | 苏州星烁纳米科技有限公司 | 量子点偏光元件、背光模组及液晶显示装置 |
| CN106773228B (zh) * | 2017-03-09 | 2020-01-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板的制造方法、线栅偏光片及其制造方法 |
| CN106842404A (zh) * | 2017-03-29 | 2017-06-13 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板、线栅偏光片及其制造方法 |
| US10509257B2 (en) | 2017-03-29 | 2019-12-17 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Display panels, wire grid polarizers, and the manufacturing methods thereof |
| CN107141484B (zh) * | 2017-05-11 | 2020-12-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机树脂及其制备方法、显示基板及其制备方法 |
| US10302990B2 (en) | 2017-07-26 | 2019-05-28 | A.U. Vista, Inc. | Display cell structure and display device using quantum dot |
| CN109422987B (zh) | 2017-08-30 | 2021-03-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 平坦层用组合物、其制备方法、平坦层材料及显示装置 |
| CN107807470A (zh) * | 2017-10-19 | 2018-03-16 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 金属栅偏光片及显示面板 |
| CN108169950A (zh) * | 2017-12-26 | 2018-06-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 彩膜基板及其制作方法、液晶面板 |
| CN108415192A (zh) * | 2018-03-26 | 2018-08-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示面板、显示装置及其制作方法 |
| CN108508521A (zh) * | 2018-03-30 | 2018-09-07 | 武汉华星光电技术有限公司 | 具有遮光层的偏振光栅及其制作方法、阵列基板、显示面板、显示模组及终端 |
| CN108363135B (zh) * | 2018-04-19 | 2020-08-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 柔性偏光片及制作方法、显示装置 |
| CN109445247B (zh) * | 2018-11-16 | 2020-06-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 压印模板及其制备方法和压印方法 |
| CN110137184B (zh) | 2019-05-27 | 2021-09-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板、显示面板和显示装置 |
| CN111338124A (zh) * | 2020-04-13 | 2020-06-26 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种量子点显示面板、量子点显示装置及其制备方法 |
| CN113093430B (zh) * | 2021-04-01 | 2023-12-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
| KR20230063687A (ko) * | 2021-11-02 | 2023-05-09 | 삼성전자주식회사 | 양자점 박막 및 그 제조 방법, 이를 포함하는 광전 소자 및 이미지 센서 |
| CN114994821A (zh) * | 2022-06-16 | 2022-09-02 | 昆山国显光电有限公司 | 偏光片以及显示模组 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101231364A (zh) * | 2007-01-24 | 2008-07-30 | 株式会社日立制作所 | 偏光元件及采用该偏光元件的液晶显示装置 |
| CN102650823A (zh) * | 2011-05-13 | 2012-08-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3165100B2 (ja) * | 1998-02-09 | 2001-05-14 | 日本電気株式会社 | 液晶表示装置とその製造方法 |
| JP2009042319A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Sony Corp | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| US8294848B2 (en) * | 2008-10-01 | 2012-10-23 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display having light diffusion layer |
| US20120057106A1 (en) * | 2010-09-07 | 2012-03-08 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Polarizer and liquid crystal display |
| WO2012169629A1 (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-13 | 富士フイルム株式会社 | 剥離性積層フィルム、剥離性積層フィルムロール、それらの製造方法、フィルム、光学フィルム、偏光板、偏光板の製造方法、及び液晶表示装置 |
| KR101841619B1 (ko) * | 2011-11-14 | 2018-03-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 금속선 격자 편광소자를 포함하는 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| KR20140096383A (ko) * | 2011-11-30 | 2014-08-05 | 리얼디 인크. | 레이저 빔 스캔식 디스플레이 장치 및 그 방법 |
| KR101942363B1 (ko) * | 2012-07-26 | 2019-04-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 편광 소자, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 표시 패널 및 이를 포함하는 표시 장치 |
| KR101961427B1 (ko) * | 2012-10-29 | 2019-03-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 이를 제조하는 방법 |
| CN102944943B (zh) | 2012-11-09 | 2016-03-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 量子点彩色滤光片、液晶面板及显示装置 |
| CN103412436B (zh) * | 2013-07-24 | 2015-09-30 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种彩膜基板、液晶显示屏及单色量子点的分散方法 |
| JP2015051084A (ja) * | 2013-09-06 | 2015-03-19 | 淑子 山敷 | 洗濯補助具 |
| JP6404036B2 (ja) * | 2014-03-05 | 2018-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 偏光板の製造方法 |
| JP2017517019A (ja) * | 2014-03-26 | 2017-06-22 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ | 偏光放射デバイス |
| KR20160056460A (ko) * | 2014-11-11 | 2016-05-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 곡면 표시 장치 |
| CN104330918A (zh) * | 2014-11-28 | 2015-02-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板和显示装置 |
| JPWO2016093280A1 (ja) * | 2014-12-10 | 2017-09-14 | 積水化学工業株式会社 | 透明接着剤付き偏光板、及び、タッチパネル |
| CN104516164B (zh) * | 2015-01-05 | 2018-03-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板及其制作方法和显示装置 |
| CN104808383A (zh) * | 2015-05-15 | 2015-07-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、其制作方法、显示面板及显示装置 |
| CN105182594B (zh) | 2015-08-25 | 2018-07-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板 |
-
2015
- 2015-08-25 CN CN201510527566.4A patent/CN105182594B/zh active Active
-
2016
- 2016-01-29 WO PCT/CN2016/072826 patent/WO2017031951A1/zh active Application Filing
- 2016-01-29 US US15/126,020 patent/US10209557B2/en active Active
- 2016-01-29 EP EP16760636.7A patent/EP3343280A4/en not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101231364A (zh) * | 2007-01-24 | 2008-07-30 | 株式会社日立制作所 | 偏光元件及采用该偏光元件的液晶显示装置 |
| CN102650823A (zh) * | 2011-05-13 | 2012-08-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20170261806A1 (en) | 2017-09-14 |
| US10209557B2 (en) | 2019-02-19 |
| EP3343280A4 (en) | 2019-03-06 |
| EP3343280A1 (en) | 2018-07-04 |
| WO2017031951A1 (zh) | 2017-03-02 |
| CN105182594A (zh) | 2015-12-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |