CN102650823A - 具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法 - Google Patents

具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102650823A
CN102650823A CN2011101246823A CN201110124682A CN102650823A CN 102650823 A CN102650823 A CN 102650823A CN 2011101246823 A CN2011101246823 A CN 2011101246823A CN 201110124682 A CN201110124682 A CN 201110124682A CN 102650823 A CN102650823 A CN 102650823A
Authority
CN
China
Prior art keywords
grating
layer
polarization
black matrix
grating pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2011101246823A
Other languages
English (en)
Inventor
姚琪
曹占锋
戴天明
张锋
徐传祥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN2011101246823A priority Critical patent/CN102650823A/zh
Priority to US13/469,644 priority patent/US20120287506A1/en
Priority to EP12167751.2A priority patent/EP2523038B1/en
Priority to JP2012110602A priority patent/JP2012242831A/ja
Publication of CN102650823A publication Critical patent/CN102650823A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G02F1/133548—Wire-grid polarisers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明涉及液晶显示器技术领域，具体公开了一种具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法。该彩色滤光片的制作方法包括：步骤1、在基底上形成中间层；步骤2、在所述中间层上形成光刻胶；步骤3、在所述光刻胶上形成具有纳米尺寸的光栅图案；步骤4、对具有纳米尺寸的光栅图案的光刻胶进行刻蚀，将中间层形成为黑矩阵以及具有光栅图案的偏振层。本发明在形成黑矩阵的同时形成了具有偏振能力的偏振层。从而在保证了显示器的显示效果的同时省略了贴附偏光片的步骤，节省了工艺时间，降低了成本。

Description

具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示器技术领域，特别涉及一种使用纳米压印方法制作的彩色滤光片，及该彩色滤光片的制作方法。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，TFT-LCD)是目前平面显示器的主流，其具有功耗低、成本相对较低以及基本无辐射等优点。其原理是利用液晶分子的介电各向异性和导电各向异性，在外加电场时使液晶分子的排列状态转换，造成液晶薄膜产生各种光电效应。
TFT LCD面板由彩膜基板和阵列基板对盒而成。如图1所示，为现有技术彩膜基板的剖面图，在TFT-LCD的生产工艺中，通常采用下面的方法制作彩膜基板：首先在玻璃基板1上形成用于制作黑矩阵(Black Matrix，BM)2的金属层，然后在金属层上面涂敷一层光刻胶(Photo resistance，PR)，然后对光刻胶进行曝光，得到光刻胶层，再对光刻胶层进行刻蚀，得到BM2，然后在上述结构上依次形成彩色滤光层4、保护层5、透明公共电极6以及隔垫物7。由于现有技术中的掩模板在制作过程中精度不够，存在偏差，其曝光精度只能达到微米级而无法达到纳米级，因此，上述工艺形成的彩膜基板不具有偏振能力，在玻璃基板外侧还需要贴上具有偏振能力的偏光片。这种制作彩膜基板的工艺较为繁琐，耗时且耗费人力物力。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是如何在形成黑矩阵的同时，利用形成黑矩阵的金属层形成具有偏振能力的偏振层。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括：
步骤1、在基底上形成中间层；
步骤2、在所述中间层上形成光刻胶；
步骤3、在所述光刻胶上形成具有纳米尺寸的光栅图案；
步骤4、对具有纳米尺寸的光栅图案的光刻胶进行刻蚀，将中间层形成为黑矩阵以及具有光栅图案的偏振层。
其中，所述偏振层的光栅图案为平行排列的狭缝，所述光栅图案的光栅周期为60nm-300nm，光栅占空比为0.3-0.7，光栅深度为100nm-200nm。
优选地，所述偏振层的光栅图案的光栅占空比为0.5。
所述步骤3具体包括：采用具有纳米尺寸的光栅图案的模具，对所述光刻胶进行纳米压印，使得所述光刻胶上对应于黑矩阵以外的区域，印上所述光栅图案。
其中，所述中间层包括金属层，或含有导电物质的树脂层。
所述导电物质包括：纳米级金属丝线或金属粉。
在进一步的技术方案中，在所述步骤4之前或之后还包括：
步骤4’、形成彩色滤光层。
为了解决上述技术问题，本发明还提供了一种具有偏振能力的彩色滤光片，包括：
基底，形成于所述基底上的黑矩阵，所述基底上还形成有与黑矩阵同层的偏振层，所述偏振层包括互相间隔的多个区域，且具有纳米尺寸的平行排列的光栅图案。
其中，所述偏振层的光栅图案为平行排列的狭缝，所述光栅图案的光栅周期为60nm-300nm，光栅占空比为0.3-0.7，光栅深度为100nm-200nm。
优选地，所述偏振层的光栅图案的光栅占空比为0.5。
其中，用于形成所述黑矩阵和偏振层的材料包括金属层，或含有导电物质的树脂层。
所述导电物质包括：纳米级的金属丝线或金属粉。
还包括：位于所述黑矩阵和偏振层的上方或下方的彩色滤光层。
(三)有益效果
上述技术方案具有如下有益效果：通过在光刻胶上形成纳米尺寸的光栅图案，使得刻蚀光刻胶后得到黑矩阵的同时，在形成黑矩阵的金属层或树脂层上还形成了具有偏振能力的偏振层。从而在保证了显示器的显示效果的同时省略了贴附偏光片的步骤，节省了工艺时间，降低了成本。
附图说明
图1是现有技术彩膜基板的结构示意图；
图2是本发明实施例的彩色滤光片的制作方法流程图；
图3是本发明实施例的具有偏振能力的彩色滤光片的截面示意图；
图4是本发明实施例的黑矩阵和偏振层的俯视图。
其中，1：基底；2：黑矩阵；4：彩色滤光层；5：保护层；6：透明公共电极层；7：隔垫物；8：偏振层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
如图2所示，为本发明实施例的彩色滤光片的制作方法的流程图，包括：
步骤1、在基板上形成一层用于形成黑矩阵的中间层；
该基板可以为玻璃基板，该中间层在本实施例中为金属层，具体为铝、或铬、或金或银都可以，中间层还可以是含有导电物质的树脂层，该导电物质可以为纳米级的金属丝线，如银丝，铝线等等；或者金属粉状的添加剂，使得后续形成的偏振层具有一定的电磁特性即可。中间层用于在后续的步骤中形成BM；
步骤2、在黑矩阵层上形成一层光刻胶；
步骤3、在光刻胶上形成具有纳米尺寸的光栅图案；
具体地，可以采用纳米压印工艺，采用预先制作的具有纳米尺寸的光栅图案的模具，对光刻胶进行纳米压印；该模具预先根据偏振所需的平行排列的狭缝组成的光栅图案来制作；对光刻胶进行纳米压印后，光刻胶上对应于黑矩阵以外的区域就被印上了该光栅图案；该模具可以采用石英、玻璃或者塑料来制作；
步骤4、对具有纳米尺寸的光栅图案的光刻胶进行刻蚀，在金属层上或树脂层形成黑矩阵，以及具有光栅图案的偏振层；
该步骤中的刻蚀优选地采用干法刻蚀，也可以采用湿法刻蚀或其它刻蚀方法。
黑矩阵和偏振层形成于玻璃基板上。偏振层位于黑矩阵之中，且包括多个相互间隔的区域。对于光栅偏振器，即本实施例中的偏振层其主要结构参数是光栅周期、光栅占空比和光栅深度。其中决定光栅性能(TM透射效率和消光比)的关键参数是光栅周期与入射光波长的关系。当光栅周期大于入射光波长时.光栅具有多级衍射波，此时光栅可用作衍射光栅，但不能作为偏振器；当光栅周期远小于入射光波长时，光栅只有零级衍射波，偏振性很强，TM偏振光透射过去，TE偏振光反射回来，可作为性能良好的偏振器使用。本实施例的偏振层的光栅图案的光栅周期为60nm-300nm，光栅占空比为0.3-0.7，优选地其光栅占空比为0.5，光栅深度为100nm-200nm。因此该偏振层具有偏振能力，保证了该彩色滤光片最终形成的显示器能够正常显示；
在步骤4之前或之后，还包括：
步骤4’、形成彩色滤光层。
若该步骤在步骤4之前进行，则彩色滤光层，即RGB像素(Pixels)层位于基板上，黑矩阵和偏振层位于彩色滤光板上；若该步骤在步骤4之后进行，则黑矩阵和偏振层位于基板上，彩色滤光层位于黑矩阵和偏振层上；
当步骤4’在步骤4之后进行的情况下，进一步地，还可以在彩色滤光层上形成保护层(overcoat)，保护层的材质为树脂，用于对高低不平的彩色滤光层进行保护，还用于形成平坦的上表面，以便于其它结构层的形成。
进一步地，还可以在保护层上形成透明公共电极层(ITO CommonElectrode)。实际使用中，如果边缘场开关模式液晶显示器的透明公共电极层形成在阵列基板上，相应地，则彩色滤光片上就不需要形成透明公共电极层。
在透明公共电极层上还形成有隔垫物(Column Spacer)，用于在彩色滤光片和阵列基板对盒之后，使用隔垫物隔离出液晶注入的间隙，并维持盒厚。
实际上，隔垫物还可以位于保护层上，从透明公共电极层中穿出；或者位于彩色滤光层上，从保护层和透明公共电极层中穿出；还可以位于玻璃基板上，从黑矩阵或偏振层、彩色滤光层、保护层和透明公共电极层中穿出。
如图5所示，为本发明实施例的具有偏振能力的彩色滤光片的结构示意图，本实施例的彩色滤光片包括：基底1，形成于基底1上的黑矩阵2，与黑矩阵2同层且一体式形成的偏振层8，偏振层8位于黑矩阵2中且包括多个相互间隔的区域，且具有纳米尺寸的平行排列的光栅图案。黑矩阵2和偏振层8的上方或下方形成有彩色滤光层4，当彩色滤光层4位于黑矩阵2上方时，彩色滤光层4的上方还形成有保护层5，保护层5的上方形成有透明公共电极层6。在玻璃基板1、或彩色滤光层4、或保护层5、或透明公共电极层6上还具有隔垫物7。
由以上实施例可以看出，本发明实施例通过在光刻胶上形成纳米尺寸的光栅图案，使得刻蚀光刻胶后得到黑矩阵的同时，在形成黑矩阵的金属层或树脂层上还形成了具有偏振能力的偏振层。从而在保证了显示器的显示效果的同时省略了贴附偏光片的步骤，节省了工艺时间，降低了成本。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。

Claims (13)

1.彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括：
步骤1、在基底上形成中间层；
步骤2、在所述中间层上形成光刻胶；
步骤3、在所述光刻胶上形成具有纳米尺寸的光栅图案；
步骤4、对具有纳米尺寸的光栅图案的光刻胶进行刻蚀，将中间层形成为黑矩阵以及具有光栅图案的偏振层。
2.如权利要求1所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述偏振层的光栅图案为平行排列的狭缝，所述光栅图案的光栅周期为60nm-300nm，光栅占空比为0.3-0.7，光栅深度为100nm-200nm。
3.如权利要求2所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述偏振层的光栅图案的光栅占空比为0.5。
4.如权利要求1所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤3具体包括：采用具有纳米尺寸的光栅图案的模具，对所述光刻胶进行纳米压印，使得所述光刻胶上对应于黑矩阵以外的区域，印上所述光栅图案。
5.如权利要求5所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述中间层包括金属层，或含有导电物质的树脂层。
6.如权利要求5所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述导电物质包括：纳米级的金属丝线或金属粉。
7.如权利要求1所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，在所述步骤4之前或之后还包括：
步骤4’、形成彩色滤光层。
8.具有偏振能力的彩色滤光片，包括：基底，形成于所述基底上的黑矩阵，其特征在于，所述基底上还形成有与黑矩阵同层的偏振层，所述偏振层包括互相间隔的多个区域，且具有纳米尺寸的平行排列的光栅图案。
9.如权利要求8所述的具有偏振能力的彩色滤光片，其特征在于，所述偏振层的光栅图案为平行排列的狭缝，所述光栅图案的光栅周期为60nm-300nm，光栅占空比为0.3-0.7，光栅深度为100nm-200nm。
10.如权利要求9所述的具有偏振能力的彩色滤光片，其特征在于，所述偏振层的光栅图案的光栅占空比为0.5。
11.如权利要求8所述的具有偏振能力的彩色滤光片，其特征在于，用于形成所述黑矩阵和偏振层的材料包括金属层，或含有导电物质的树脂层。
12.如权利要求11所述的具有偏振能力的彩色滤光片，其特征在于，所述导电物质包括：纳米级的金属丝线或金属粉。
13.如权利要求11所述的具有偏振能力的彩色滤光片，其特征在于，还包括：位于所述黑矩阵和偏振层的上方或下方的彩色滤光层。
CN2011101246823A 2011-05-13 2011-05-13 具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法 Pending CN102650823A (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2011101246823A CN102650823A (zh) 2011-05-13 2011-05-13 具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法
US13/469,644 US20120287506A1 (en) 2011-05-13 2012-05-11 Color filter substrate capable of polarizing and manufacturing method thereof
EP12167751.2A EP2523038B1 (en) 2011-05-13 2012-05-11 Color filter substrate capable of polarizing and manufacturing method thereof
JP2012110602A JP2012242831A (ja) 2011-05-13 2012-05-14 偏光機能を有するカラーフィルター及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2011101246823A CN102650823A (zh) 2011-05-13 2011-05-13 具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102650823A true CN102650823A (zh) 2012-08-29

Family

ID=46395459

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2011101246823A Pending CN102650823A (zh) 2011-05-13 2011-05-13 具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20120287506A1 (zh)
EP (1) EP2523038B1 (zh)
JP (1) JP2012242831A (zh)
CN (1) CN102650823A (zh)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105182594A (zh) * 2015-08-25 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 显示基板
CN105448197A (zh) * 2016-01-04 2016-03-30 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法、显示装置
CN105789118A (zh) * 2016-04-14 2016-07-20 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法
CN106249337A (zh) * 2016-08-04 2016-12-21 深圳市华星光电技术有限公司 金属线栅偏光片与液晶显示装置
CN106855648A (zh) * 2017-02-04 2017-06-16 苏州星烁纳米科技有限公司 量子点偏光元件、背光模组及液晶显示装置
CN108445668A (zh) * 2018-03-09 2018-08-24 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
CN108983515A (zh) * 2018-10-12 2018-12-11 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示器件及其制备方法和显示装置
CN109254449A (zh) * 2018-11-26 2019-01-22 厦门天马微电子有限公司 显示面板、显示装置和显示面板的制作方法
CN109324439A (zh) * 2018-11-22 2019-02-12 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制作方法，以及显示装置
CN109557713A (zh) * 2019-01-14 2019-04-02 合肥京东方光电科技有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板
CN109828407A (zh) * 2019-04-10 2019-05-31 惠科股份有限公司 彩色滤光片基板、显示装置和背光式显示装置
CN110824602A (zh) * 2018-08-14 2020-02-21 群创光电股份有限公司 电子装置
WO2020051964A1 (zh) * 2018-09-11 2020-03-19 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled显示装置
WO2020258765A1 (zh) * 2019-06-28 2020-12-30 成都辰显光电有限公司 色彩转化组件及其制作方法、显示面板

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150014671A (ko) * 2013-07-30 2015-02-09 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치
KR102096622B1 (ko) 2013-08-19 2020-04-03 삼성디스플레이 주식회사 유기발광 표시장치
KR20150121391A (ko) * 2014-04-18 2015-10-29 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN104102043B (zh) * 2014-07-08 2017-03-22 京东方科技集团股份有限公司 一种双视场显示器及其驱动方法
KR20160056460A (ko) * 2014-11-11 2016-05-20 삼성디스플레이 주식회사 곡면 표시 장치
KR102259048B1 (ko) 2014-11-20 2021-06-03 삼성디스플레이 주식회사 컬러 필터 일체형 편광자 및 이의 제조방법
JP2016127333A (ja) * 2014-12-26 2016-07-11 株式会社リコー 撮像素子および撮像装置および撮像情報認識システム
CN107037629A (zh) * 2017-05-26 2017-08-11 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示装置和彩膜基板的制造方法
CN109273508B (zh) * 2018-10-11 2021-03-30 京东方科技集团股份有限公司 显示装置及其制造方法
CN111965884A (zh) * 2020-08-12 2020-11-20 Tcl华星光电技术有限公司 液晶面板用黑色矩阵和液晶面板

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101295090A (zh) * 2007-04-27 2008-10-29 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示装置
JP2009042319A (ja) * 2007-08-07 2009-02-26 Sony Corp 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
US20090290105A1 (en) * 2008-05-26 2009-11-26 Sony Corporation Liquid crystal apparatus, color filter substrate, and array substrate

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5751388A (en) * 1995-04-07 1998-05-12 Honeywell Inc. High efficiency polarized display
JP3544069B2 (ja) * 1996-08-05 2004-07-21 株式会社東芝 光計測装置及びその製造方法
US20050035361A1 (en) * 2003-08-15 2005-02-17 Peterson Charles M. Polarized light emitting devices and methods
US7480017B2 (en) * 2004-09-17 2009-01-20 Radiant Images, Inc. Microdisplay
US20060114370A1 (en) * 2004-11-29 2006-06-01 Peterson Charles M Color display device and method
JP4275691B2 (ja) * 2005-10-17 2009-06-10 旭化成株式会社 ワイヤグリッド偏光板の製造方法
KR101282323B1 (ko) * 2006-10-26 2013-07-04 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR101270200B1 (ko) * 2006-10-30 2013-05-31 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광 패턴의 제조 방법 및 이에 의해 제조된액정 표시 장치
KR100863570B1 (ko) * 2006-12-19 2008-10-15 삼성전자주식회사 와이어 그리드 편광자의 제조방법
WO2011065054A1 (ja) * 2009-11-26 2011-06-03 シャープ株式会社 液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法および液晶表示装置
US8964012B2 (en) * 2011-02-14 2015-02-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Display panel having a polarizing layer and display apparatus having the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101295090A (zh) * 2007-04-27 2008-10-29 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示装置
JP2009042319A (ja) * 2007-08-07 2009-02-26 Sony Corp 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法
US20090290105A1 (en) * 2008-05-26 2009-11-26 Sony Corporation Liquid crystal apparatus, color filter substrate, and array substrate

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10209557B2 (en) 2015-08-25 2019-02-19 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate
CN105182594B (zh) * 2015-08-25 2018-07-31 京东方科技集团股份有限公司 显示基板
CN105182594A (zh) * 2015-08-25 2015-12-23 京东方科技集团股份有限公司 显示基板
CN105448197A (zh) * 2016-01-04 2016-03-30 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法、显示装置
CN105789118A (zh) * 2016-04-14 2016-07-20 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法
CN105789118B (zh) * 2016-04-14 2019-03-22 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法
CN106249337A (zh) * 2016-08-04 2016-12-21 深圳市华星光电技术有限公司 金属线栅偏光片与液晶显示装置
CN106249337B (zh) * 2016-08-04 2019-01-22 深圳市华星光电技术有限公司 金属线栅偏光片与液晶显示装置
CN106855648A (zh) * 2017-02-04 2017-06-16 苏州星烁纳米科技有限公司 量子点偏光元件、背光模组及液晶显示装置
CN108445668A (zh) * 2018-03-09 2018-08-24 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
CN110824602A (zh) * 2018-08-14 2020-02-21 群创光电股份有限公司 电子装置
WO2020051964A1 (zh) * 2018-09-11 2020-03-19 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 Oled显示装置
CN108983515A (zh) * 2018-10-12 2018-12-11 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示器件及其制备方法和显示装置
CN108983515B (zh) * 2018-10-12 2022-04-22 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示器件及其制备方法和显示装置
CN109324439A (zh) * 2018-11-22 2019-02-12 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制作方法，以及显示装置
CN109324439B (zh) * 2018-11-22 2021-10-01 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制作方法，以及显示装置
CN109254449A (zh) * 2018-11-26 2019-01-22 厦门天马微电子有限公司 显示面板、显示装置和显示面板的制作方法
CN109557713A (zh) * 2019-01-14 2019-04-02 合肥京东方光电科技有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板
CN109828407A (zh) * 2019-04-10 2019-05-31 惠科股份有限公司 彩色滤光片基板、显示装置和背光式显示装置
WO2020258765A1 (zh) * 2019-06-28 2020-12-30 成都辰显光电有限公司 色彩转化组件及其制作方法、显示面板

Also Published As

Publication number Publication date
EP2523038B1 (en) 2016-08-03
US20120287506A1 (en) 2012-11-15
EP2523038A1 (en) 2012-11-14
JP2012242831A (ja) 2012-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102650823A (zh) 具有偏振能力的彩色滤光片及其制作方法
CN105572780B (zh) 线栅偏振器件及其制作方法、显示装置
EP2713204A1 (en) Electrochromic color filter substrate, method of fabricating the same, and LCD panel comprising the same
US20140055715A1 (en) Liquid crystal display and fabrication method of the same
US20160363812A1 (en) Array Substrate, Liquid Crystal Display Panel and Display Device
CN101339336B (zh) 液晶显示器及其制造方法
CN103838044B (zh) 基板及其制造方法、显示装置
WO2017193417A1 (zh) 显示面板及其制作方法
CN103869526A (zh) 显示基板及其制作方法、显示面板和显示装置
CN202330949U (zh) 液晶显示面板
CN104087315B (zh) 一种组合物、取向层及其制备方法、液晶取向单元、液晶显示面板
CN106597762A (zh) 线栅偏光电极及其压印模具和制作方法、显示基板
CN104865744A (zh) 一种3d显示装置及其制作方法
CN203894511U (zh) 显示母板和显示面板
CN104181736A (zh) 显示基板及其制造方法、显示装置
US20140024280A1 (en) Method for making liquid crystal display module
CN105974644B (zh) 液晶显示器
US5852486A (en) Liquid crystal display with alternative electrode structure
TWI453509B (zh) 雙光軸相位差膜及其製造方法
TWI333100B (en) Mother substrate of display panel and menufacturing method thereof
US9753334B2 (en) Display device and method of manufacturing the same
CN111176012A (zh) 曲面显示面板及其制备方法
CN102981310B (zh) 一种液晶显示装置及其制造方法
CN105242460B (zh) 阵列基板和显示面板及其制作方法、显示装置
Bryan‐Brown et al. The Zenithal Bistable Display: A grating aligned bistable nematic liquid crystal device

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20120829