WO2011065054A1

WO2011065054A1 - 液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法および液晶表示装置

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Publication number: WO2011065054A1
Application number: PCT/JP2010/061559
Authority: WO
Inventors: 真也門脇
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2009-11-26
Filing date: 2010-07-07
Publication date: 2011-06-03
Also published as: US20120140148A1

Abstract

　ワイヤーグリッド偏光子（ＷＧ）には、直線状の導電性ワイヤーが、一定のピッチ（Ｐ）で周期的に繰り返されるように形成されている領域と一定のピッチ（Ｐ）より大きいピッチで形成されている領域（Ａ）とがあり、上記直線状の導電性ワイヤーが一定のピッチ（Ｐ）より大きいピッチで形成されている領域（Ａ）と、液晶表示パネルに備えられたブラックマトリクス（２ｂ）とは、少なくとも一部が平面視において重なるように形成されている。したがって、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域を有する大面積のワイヤーグリッド偏光子（ＷＧ）を備えた場合においても、表示品位の低下を抑制できる。

Description

液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法および液晶表示装置

　本発明は、ワイヤーグリッド（ｗｉｒｅ　ｇｒｉｄ）偏光子を備えた液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法と、この液晶表示パネルを備えた液晶表示装置に関するものである。

　近年、ブラウン管（ＣＲＴ）に代わり急速に普及している液晶表示装置は、省エネ型、薄型、軽量型等の特徴を活かしテレビ、モニター等に幅広く利用されている。

　このような液晶表示装置の分野においては、より美しい画像を表示できるように高輝度化が要求されており、高輝度化は、液晶表示装置に備えられたバックライトの輝度を上げることによっても実現することができるが、バックライトの輝度を上げると消費電力の増加を伴うこととなり、省エネを実現するのが困難となる。

　したがって、バックライト光の利用効率を向上させ、液晶表示装置の高輝度化を実現する必要があり、バックライト光の利用効率を向上させる手段として、液晶表示装置に備えられた偏光子を改善する方法がある。

　一般的な従来の液晶表示装置においては、２つの吸収型偏光子が、液晶表示パネルにおけるバックライト光が入射される面と出射される面とにそれぞれ設けられた構成が用いられていた。

　上記吸収型偏光子は、ある一偏光面においては光を透過するが、上記一偏光面と直交する偏光面においては、光を吸収するようになっており、上記吸収型偏光子に入射されるバックライト光は、理論的には最高で５０％の光のみが出射されることとなる。

　したがって、上述した２つの吸収型偏光子を備えた従来の液晶表示装置においては、実質的に、入射されるバックライト光の略３６～４０％の光のみが出射されるので、このような構成を用いることによっては、バックライト光の利用効率を向上させ、液晶表示装置の高輝度化を実現するのは困難である。

　そこで、ある一偏光面においては光を透過し、上記一偏光面と直交する偏光面においては、光を反射する反射偏光子を備えた液晶表示装置も提案されている。

　上記反射偏光子を備えた液晶表示装置においては、上記反射偏光子によって反射された光は、バックライトに備えられた拡散層によって、その偏光面がランダム化された後、再び上記反射偏光子を通るようになっている。

　しかし、上記反射偏光子は、偏光消滅比が非常に低いため、表示に必要とされるコントラストを満たすためには、上記反射偏光子の他に、上述した２つの吸収型偏光子を備える必要がある。

　したがって、上記反射偏光子を備えた液晶表示装置においては、ある程度バックライト光の利用効率を向上させることはできるが、満足できる程ではなかった。

　そこで、ガラス基板上に、バックライト光の波長よりも短い周期で、直線状の導電性ワイヤーを形成したワイヤーグリッド偏光板を備えた液晶表示装置が提案されている。

　上記ワイヤーグリッド偏光板は、上記直線状の導電性ワイヤーと平行な偏光成分は反射し、上記直線状の導電性ワイヤーと垂直な偏光成分は透過するようになっている。

　このようなワイヤーグリッド偏光板は、比較的に高い透過率と偏光消滅比とを有することが知られており、ワイヤーグリッド偏光板を備えた液晶表示装置が注目されている。

　一方、液晶表示装置の大型化に伴い、上記ワイヤーグリッド偏光板も大型化され、バックライト光の波長よりも短い周期の直線状の導電性ワイヤーパターン、すなわち、ナノスケールのパターンの形成が必要とされる面積も大きくなっている。

　大型化された大面積の基板に、上記ナノスケールのパターンを一括形成するのは、困難であるため、上記基板の一部領域にパターンを形成することができるサイズのマスクやスタンプなどを用いて、ステップ＆リピート方式により、大面積の基板に上記ナノスケールのパターンを分割形成するのが一般的である。

　例えば、特許文献１には、スタンプを用いて、ステップ＆リピート方式により、大面積のワイヤーグリッド偏光板を製造する方法について記載されている。

　図１５は、スタンプを用いて、ステップ＆リピート方式により形成されたワイヤーグリッド偏光板を示す。

　スタンプ１００には、ナノスケールのパターンを有するエラストマ層が備えられており、上記エラストマ層における上記パターン形成面には、レジストが被覆されている。

　一方、基板１０１の全面には、金、銅または銀などの金属層が形成されている。

　上記レジストが被覆されているエラストマ層における上記パターン形成面を基板１０１の金属層と接触させ、上記レジストを上記金属層に転写させる。

　基板１０１の略全体に上記転写工程を行った後、上記レジストのない部分の金属層をエッチングし、上記レジストをも除去することによって、ナノスケールの短い周期を有する直線状の導電性ワイヤーパターンに形成された金属層を備えた基板１０１（大面積のワイヤーグリッド偏光板）を作製することができる。

　このような大面積のワイヤーグリッド偏光板を用いることにより、バックライト光の利用効率を改善することができる。

日本国公表特許公報「特表２００８－５２２２２６号公報（２００８年６月２６日公表）」日本国公開特許公報「特開２００８－２９６５７９号公報（２００８年１２月１１日公開）」日本国公開特許公報「特開２００６－８４７７６号公報（２００６年３月３０日公開）」日本国公開特許公報「特開２００５－２０３７９７号公報（２００５年７月２８日公開）」米国特許公報「特許第７０７７９９２号公報」

　しかしながら、特許文献１に記載されているスタンプ１００のエラストマ層を基板１０１の金属層と接触させ、上記レジストを上記金属層に転写させる工程を基板１０１の略全体に複数回に渡って行う時に、スタンプ１００のエラストマ層と基板１０１の金属層との接触箇所をナノスケールで高精度に制御することはできない。

　したがって、スタンプ１００の大きさに該当する一回の上記転写工程によって形成される領域とこの領域と隣接する次回の上記転写工程によって形成される領域との境界領域（継ぎ目）においては、ナノスケールの短い周期を有する直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれ、光学特性が著しく低下してしまうという問題がある。

　図１６は、ナノスケールの短い周期を有する直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域Ａを有する大面積のワイヤーグリッド偏光板２０１が、ＴＦＴ基板２０２におけるＴＦＴ素子形成面とは反対面側に形成されている場合を示す図である。

　なお、図１６においては、ＴＦＴ素子に備えられたゲート電極層２０３のみを図示している。

　図示されているように、ワイヤーグリッド偏光板２０１には、ナノスケールの短い周期を有する直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域Ａが存在する。

　ワイヤーグリッド偏光板２０１は、上記直線状の導電性ワイヤーと平行な偏光成分Ｌｓは反射し、上記直線状の導電性ワイヤーと垂直な偏光成分Ｌｐは透過するようになっているが、上記領域Ａ（直線状の導電性ワイヤーパターンの周期が長くなった領域）においては、上記直線状の導電性ワイヤーと垂直でない偏光成分Ｌｓなども透過されるため、ワイヤーグリッド偏光板２０１を備えた液晶表示パネルおよび液晶表示装置においては、その表示品位が著しく低下してしまう。

　図１７は、上述した周期性がくずれた領域Ａを有する大面積のワイヤーグリッド偏光板２０１が、対向基板２０４におけるブラックマトリクス２０５および赤・緑・青カラーフィルター層２０６Ｒ・２０６Ｇ・２０６Ｂの形成面とは反対面側に形成されている場合を示す図である。

　図１７の場合においても、図１６の場合と同様に、上記領域Ａ（直線状の導電性ワイヤーパターンの周期が長くなった領域）において、上記直線状の導電性ワイヤーと垂直でない偏光成分Ｌｓなども透過されるため、ワイヤーグリッド偏光板２０１を備えた液晶表示パネルおよび液晶表示装置においては、その表示品位が著しく低下してしまう。

　本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域を有する大面積のワイヤーグリッド偏光子を備えた場合においても、表示品位の低下を抑制することのできる液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法と液晶表示装置とを提供することを目的とする。

　本発明の液晶表示パネルは、上記の課題を解決するために、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンを有するワイヤーグリッド偏光子を備えた液晶表示パネルであって、上記ワイヤーグリッド偏光子には、上記直線状の導電性ワイヤーが、一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域とがあり、上記直線状の導電性ワイヤーが上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域と、上記液晶表示パネルに備えられた遮光層とは、少なくとも一部が平面視において重なるように形成されていることを特徴としている。

　一般的に大面積のワイヤーグリッド偏光子においては、その製造技術の精度の限界から、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンが一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域とが存在することとなる。

　このようなワイヤーグリッド偏光子において、上記直線状の導電性ワイヤーパターンが一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域では、上記直線状の導電性ワイヤーと平行な偏光成分は反射され、上記直線状の導電性ワイヤーと垂直な偏光成分は透過されるようになっている。

　しかし、上記直線状の導電性ワイヤーパターンが、上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域においては、上記直線状の導電性ワイヤーと垂直でない偏光成分なども透過されてしまうため、このようなワイヤーグリッド偏光子を備えた液晶表示パネルにおいては、その表示品位が著しく低下してしまう。

　上記構成によれば、上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域と、上記液晶表示パネルに備えられた遮光層とは、少なくとも一部が平面視において重なるように形成されている。

　したがって、液晶表示パネルにおいて、その表示品位の低下を招いてしまう上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域における透過光を上記遮光層が遮光することができるので、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域を有する大面積のワイヤーグリッド偏光子を備えた場合においても、表示品位の低下を抑制することのできる液晶表示パネルを実現することができる。

　なお、上記ピッチとは、上記直線状の導電性ワイヤーにおける上記直線の延びる方向とは垂直な方向の線幅と、上記直線状の導電性ワイヤー間の空隙における上記直線の延びる方向とは垂直な方向の幅とを合わせたものとする。

　本発明の液晶表示装置には、上記の課題を解決するために、上記液晶表示パネルと、上記液晶表示パネルに光を照射する面光源装置とが備えられ、上記面光源装置の発光面には、光を散乱させるための凹凸形状または、拡散部材中、少なくとも一方が設けられていることを特徴としている。

　上記構成によれば、上記液晶表示パネルを備えているため、表示に用いられる光の波長よりも短い周期の直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域を有する大面積のワイヤーグリッド偏光子を備えた場合においても、表示品位の低下を抑制することのできる液晶表示装置を実現することができる。

　さらに、上記構成によれば、上記面光源装置の発光面には、光を散乱させるための凹凸形状または、拡散部材中、少なくとも一方が設けられているため、上記ワイヤーグリッド偏光子によって反射された偏光成分が、上記凹凸形状および／または上記拡散部材で拡散され再利用できるので、光の利用効率の高い液晶表示装置を実現することができる。

　本発明の液晶表示パネルの製造方法は、上記の課題を解決するために、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンを有するワイヤーグリッド偏光子を備えた液晶表示パネルの製造方法であって、上記液晶表示パネルに備えられた一方の基板に所定形状にパターニングされた遮光層を形成し、上記一方の基板に導電性ワイヤーを形成する導電性膜を上記基板全面に平坦に形成し、上記導電性膜を覆うようにレジストを形成し、上記レジストに、上記光の波長よりも短い一定のピッチで周期的に繰り返される直線状のパターンが形成されている第１の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストの該当部分を硬化させ、上記レジストに上記パターン形成面の第１の転写面を形成し、上記第１の型を上記第１の転写面と隣接する位置に移動させ、上記レジストに、上記第１の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストの該当部分を硬化させ、上記レジストに上記パターン形成面の第２の転写面を形成し、上記第１の転写面および上記第２の転写面を形成する時には、上記第１の型を、上記第１の転写面と上記第２の転写面との境界が、上記遮光層と少なくとも一部で平面視において重なるように移動させ、上記硬化されたレジストパターンをマスクとして、上記導電性膜をエッチングし、上記硬化されたレジストパターンを除去することを特徴としている。

　上記光の波長よりも短い一定のピッチで周期的に繰り返される直線状のパターンが形成されているパターン形成面を有する第１の型（小型の型）を用いて、ステップ＆リピート方式により大面積のワイヤーグリッド偏光子を作製する場合においても、その製造技術の精度の限界から、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンが一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域（隣接する上記第１の転写面と上記第２の転写面との境界に該当）とが存在することとなる。

　上記構成によれば、隣接する上記第１の転写面と上記第２の転写面との境界が、上記遮光層と少なくとも一部で平面視において重なるように上記第１の型を移動させるようにしており、液晶表示パネルにおいて、その表示品位の低下を招いてしまう隣接する上記第１の転写面と上記第２の転写面との境界における透過光を上記遮光層が遮光することができるので、上記第１の型（小型の型）を用いて作製した大面積のワイヤーグリッド偏光子を備えた場合においても、表示品位の低下を抑制することのできる液晶表示パネルの製造方法を実現することができる。

　本発明の液晶表示パネルの製造方法は、上記の課題を解決するために、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンを有するワイヤーグリッド偏光子を備えた液晶表示パネルの製造方法であって、上記液晶表示パネルに備えられた一方の基板に所定形状にパターニングされた遮光層を形成し、上記一方の基板に導電性ワイヤーを形成する導電性膜を上記基板全面に平坦に形成し、上記導電性膜を覆うようにレジストを形成し、上記レジストに、上記光の波長よりも短い一定のピッチで周期的に繰り返される直線状のパターンが形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域とを有する第２の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストを硬化する時には、上記パターン形成面における上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域は、上記遮光層と少なくとも一部で平面視において重なるように上記第２の型を移動させ、上記硬化されたレジストパターンをマスクとして、上記導電性膜をエッチングし、上記硬化されたレジストパターンを除去することを特徴としている。

　大面積のワイヤーグリッド偏光子を作製するために用いられる第２の型（大型の型）は、その製造技術の精度の限界から、上記光の波長よりも短い一定のピッチで周期的に繰り返される直線状のパターンが形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域とが存在することとなる。

　上記構成によれば、上記第２の型のパターン形成面における上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域は、上記遮光層と少なくとも一部で平面視において重なるように上記第２の型を移動させるようにしているので、液晶表示パネルにおいて、その表示品位の低下を招いてしまう上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域における透過光を上記遮光層が遮光することができるので、上記第２の型（大型の型）を用いて作製した大面積のワイヤーグリッド偏光子を備えた場合においても、表示品位の低下を抑制することのできる液晶表示パネルの製造方法を実現することができる。

　本発明の液晶表示パネルは、以上のように、上記ワイヤーグリッド偏光子には、上記直線状の導電性ワイヤーが、一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域とがあり、上記直線状の導電性ワイヤーが上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域と、上記液晶表示パネルに備えられた遮光層とは、少なくとも一部が平面視において重なるように形成されている構成である。

　また、本発明の液晶表示装置は、以上のように、上記液晶表示パネルと、上記液晶表示パネルに光を照射する面光源装置とが備えられ、上記面光源装置の発光面には、光を散乱させるための凹凸形状または、拡散部材中、少なくとも一方が設けられている構成である。

　また、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、以上のように、上記液晶表示パネルに備えられた一方の基板に所定形状にパターニングされた遮光層を形成し、上記一方の基板に導電性ワイヤーを形成する導電性膜を上記基板全面に平坦に形成し、上記導電性膜を覆うようにレジストを形成し、上記レジストに、上記光の波長よりも短い一定のピッチで周期的に繰り返される直線状のパターンが形成されている第１の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストの該当部分を硬化させ、上記レジストに上記パターン形成面の第１の転写面を形成し、上記第１の型を上記第１の転写面と隣接する位置に移動させ、上記レジストに、上記第１の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストの該当部分を硬化させ、上記レジストに上記パターン形成面の第２の転写面を形成し、上記第１の転写面および上記第２の転写面を形成する時には、上記第１の型を、上記第１の転写面と上記第２の転写面との境界が、上記遮光層と少なくとも一部で平面視において重なるように移動させ、上記硬化されたレジストパターンをマスクとして、上記導電性膜をエッチングし、上記硬化されたレジストパターンを除去する方法である。

　また、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、上記液晶表示パネルに備えられた一方の基板に所定形状にパターニングされた遮光層を形成し、上記一方の基板に導電性ワイヤーを形成する導電性膜を上記基板全面に平坦に形成し、上記導電性膜を覆うようにレジストを形成し、上記レジストに、上記光の波長よりも短い一定のピッチで周期的に繰り返される直線状のパターンが形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域とを有する第２の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストを硬化する時には、上記パターン形成面における上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域は、上記遮光層と少なくとも一部で平面視において重なるように上記第２の型を移動させ、上記硬化されたレジストパターンをマスクとして、上記導電性膜をエッチングし、上記硬化されたレジストパターンを除去する方法である。

　それゆえ、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域を有する大面積のワイヤーグリッド偏光子を備えた場合においても、表示品位の低下を抑制することのできる液晶表示パネルおよび液晶表示パネルの製造方法と液晶表示装置とを実現することができるという効果を奏する。

本発明の一実施の形態の液晶表示装置に備えられた液晶表示パネルにおける対向基板の概略構成を示す図である。本発明の一実施の形態の液晶表示装置の概略構成を示す図である。本発明の一実施の形態の液晶表示装置の変形例を示す図である。小型モールドの概略的な製造プロセスを示す図である。大型モールドの概略的な製造プロセスを示す図である。図４に示す小型モールドを用いて作製される図３に示す液晶表示装置に備えられたワイヤーグリッド偏光子の概略的な製造プロセスを示す図である。大型モールドを用いて作製される図３に示す液晶表示装置に備えられたワイヤーグリッド偏光子の概略的な製造プロセスを示す図である。大型モールドを用いて作製される図２に示す液晶表示装置に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子の概略的な製造プロセスを示す図である。小型モールドを用いて作製される図２に示す液晶表示装置に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子の製造プロセスの一部を示す図である。本発明の他の実施の形態の液晶表示装置に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子が形成された対向基板を示す図である。光源として青色光を放射するＬＥＤを用いた本発明のさらに他の実施の形態の液晶表示装置を説明するための図であり、（ａ）は、上記液晶表示装置の概略構成を示し、（ｂ）は、上記液晶表示装置に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子が形成された対向基板を示す。光源として青色光を放射するＬＥＤを用いた本発明のさらに他の実施の形態の液晶表示装置を説明するための図であり、（ａ）は、上記液晶表示装置の概略構成を示し、（ｂ）は、上記液晶表示装置に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子が形成された対向基板を示す。光源として紫外光を放射するＬＥＤを用いた本発明のさらに他の実施の形態の液晶表示装置を説明するための図であり、（ａ）は、上記液晶表示装置の概略構成を示し、（ｂ）は、上記液晶表示装置に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子が形成された対向基板を示す。光源として紫外光を放射するＬＥＤを用いた本発明のさらに他の実施の形態の液晶表示装置を説明するための図であり、（ａ）は、上記液晶表示装置の概略構成を示し、（ｂ）は、上記液晶表示装置に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子が形成された対向基板を示す。スタンプを用いて、ステップ＆リピート方式により形成された従来のワイヤーグリッド偏光板を示す図である。ナノスケールの短い周期を有する直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域を有する大面積のワイヤーグリッド偏光板が、ＴＦＴ基板におけるＴＦＴ素子形成面とは反対面側に形成されている場合を示す図である。周期性がくずれた領域を有する大面積のワイヤーグリッド偏光板が、対向基板におけるブラックマトリクスおよび赤・緑・青カラーフィルター層の形成面とは反対面側に形成されている場合を示す図である。

　以下、図面に基づいて本発明の実施の形態について詳しく説明する。ただし、この実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などはあくまで一実施形態に過ぎず、これらによってこの発明の範囲が限定解釈されるべきではない。

　〔実施の形態１〕
　以下、図１および図２に基づき、ワイヤーグリッド偏光子を備えた液晶表示装置の構成について説明する。

　図２は、本実施の形態の液晶表示装置１の概略構成を示す図である。

　図示されているように、液晶表示装置１は、液晶表示パネル６と、液晶表示パネル６に光を照射するための光源７と光源７からの光を面発光させる導光板８とを備えた面光源装置と、上記面光源装置から出射された光をさらに均一化する上記面光源装置の発光面に形成された拡散板９を含む光学シートとを備えている。

　液晶表示パネル６は、対向基板２とＴＦＴアレイ基板４とを備えており、上記両基板２・４は、図示されてないシール剤によって貼り合わせられ、上記両基板２・４間には液晶層３が封入されている。

　図示されているように、本実施の形態においては、ＴＦＴアレイ基板４における液晶層３と接する面の反対側の面、すなわち、液晶表示パネル６の表示面には、吸収型の偏光板５が設けられており、対向基板２における液晶層３と接する面には、図示されてない後述するワイヤーグリッド偏光子が形成されている。

　図１は、図２に図示した本実施の形態の液晶表示装置１に備えられた液晶表示パネル６における対向基板２の概略構成を示す図である。

　図示されているように、ガラス基板２ａ上には、遮光性を有するクロムなどの金属薄膜やカーボンブラックを含む感光性樹脂によって形成されるブラックマトリクス２ｂ（遮光層）が形成されている。

　なお、本実施の形態においては、ブラックマトリクス２ｂの幅は、５μｍ～２０μｍ程度で形成しており、ブラックマトリクス２ｂ・２ｂ間の開口部の幅は、２０μｍ～３００μｍ程度で形成しているが、これに限定されることはない。

　また、色制御層としての赤色の着色層（カラーフィルター層）２Ｒ、緑色の着色層（カラーフィルター層）２Ｇおよび青色の着色層（カラーフィルター層）２Ｂは、各色の境界が、ブラックマトリクス２ｂ上に位置するように形成されている。

　なお、本実施の形態においては、上記３色の着色層２Ｒ・２Ｇ・２Ｂを設けているが、色の種類や数はこれに限定されることはない。

　さらに、本実施の形態においては、着色層２Ｒ・２Ｇ・２Ｂの形成には、各色の顔料分散液が含有された３色の感光性レジストが用いられているが、これに限定されることはない。

　なお、本実施の形態においては、上記色制御層として、着色層（カラーフィルター層）を用いているが、入射光を異なる複数色として出射させることができるのであれば、これに限定されることはない。

　また、図示されてないが、本実施の形態においては、着色層２Ｒ・２Ｇ・２Ｂ上には、熱硬化性の透明樹脂や光硬化性の透明樹脂からなるオーバコート（Ｏｖｅｒ　Ｃｏａｔ）を平坦化層として設けているが、上記着色層２Ｒ・２Ｇ・２Ｂが段差なく平坦に形成されている場合には、設けなくてもよい。

　上記オーバコート上には、表示に用いられる上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチＰの直線状の導電性ワイヤーパターンを有するワイヤーグリッド偏光子ＷＧが形成されている。

　さらに、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧ上には、保護膜２ｃと保護膜２ｃ上にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ）からなる透明電極２ｄが形成されている。

　なお、上記ピッチＰとは、上記直線状の導電性ワイヤーにおける上記直線の延びる方向とは垂直な方向の線幅と、上記直線状の導電性ワイヤー間の空隙における上記直線の延びる方向とは垂直な方向の幅とを合わせたものである。

　図１に図示されているように、一般的に大面積のワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおいては、その製造技術の精度の限界から、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチＰの直線状の導電性ワイヤーパターンが一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域Ａとが存在することとなる。

　このようなワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおいて、上記直線状の導電性ワイヤーパターンが一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域では、上記直線状の導電性ワイヤーと平行な偏光成分Ｌｓは反射され、上記直線状の導電性ワイヤーと垂直な偏光成分Ｌｐは透過されるようになっている。

　しかし、上記直線状の導電性ワイヤーパターンが、上記一定のピッチＰより大きいピッチで形成されている領域Ａにおいては、上記直線状の導電性ワイヤーと垂直でない偏光成分、例えば、上記直線状の導電性ワイヤーと平行な偏光成分Ｌｓなども透過されてしまうため、このようなワイヤーグリッド偏光子ＷＧを備えた液晶表示パネルにおいては、その表示品位が著しく低下してしまう。

　図１に図示されているように、本実施の形態の液晶表示装置１に備えられた液晶表示パネル６における対向基板２においては、上記ワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおける上記一定のピッチＰより大きいピッチで形成されている領域Ａと、対向基板２に備えられたブラックマトリクス２ｂとは、平面視において完全に重なるように形成されているが、上記領域Ａとブラックマトリクス２ｂとは、平面視において部分的に重なるように形成しても効果を得ることができる。

　このような構成であるため、液晶表示パネル６において、その表示品位の低下を招いてしまう上記一定のピッチＰより大きいピッチで形成されている領域Ａにおける透過光をブラックマトリクス２ｂが遮光することができるので、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチＰの直線状の導電性ワイヤーパターンの周期性がくずれた領域Ａを有する大面積のワイヤーグリッド偏光子ＷＧを備えた場合においても、表示品位の低下を抑制することのできる液晶表示パネル６を実現することができる。

　また、本実施の形態においては、遮光層として、ブラックマトリクス２ｂを用いているが、これに限定されることはなく、図示されてないが、ＴＦＴアレイ基板４に備えられたＴＦＴ素子に接続されている金属配線を用いることもできる。また、ブラックマトリクス２ｂや上記金属配線以外に別途、遮光層を形成することもできる。

　さらには、遮光層として、例えば、ブラックマトリクス２ｂと上記金属配線とを共に用いることもできる。すなわち、例えば、ブラックマトリクスと上記金属配線とがＴＦＴアレイ基板に設けられているＣＯＡ（Ｃｏｌｏｒ　Ｆｉｌｔｅｒ　Ｏｎ　Ａｒｒａｙ）構造などにおいては、上記ワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおける上記一定のピッチＰより大きいピッチで形成されている領域Ａの一部を、ブラックマトリクスと平面視において部分的に重なるように形成し、上記領域Ａの他の一部を、上記金属配線と平面視において部分的に重なるように形成することもできる。

　なお、本実施の形態においては、液晶表示パネル６の薄型化やワイヤーグリッド偏光子ＷＧの耐久性の向上を考慮し、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧは、対向基板２のガラス基板２ａとＴＦＴアレイ基板４との間に形成されている。すなわち、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧがインセル化されている構成を用いているが、これに限定されることはない。

　図３は、本実施の形態の液晶表示装置の変形例を示す図である。

　図示されているように、液晶表示装置１ａに備えられた液晶表示パネル６ａにおいては、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧが、対向基板１０ではなく、別途の基板１１に設けられている点が、図２に示す液晶表示装置１に備えられた液晶表示パネル６とは異なる。

　このような構成においても、基板１１に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおける上記一定のピッチＰより大きいピッチで形成されている領域Ａと、対向基板１０に備えられたブラックマトリクスとを、平面視において少なくとも一部重なるように形成することにより、表示品位の低下を抑制することのできる液晶表示パネル６ａを実現することができる。

　なお、図２および図３に図示されている液晶表示装置１・１ａは、液晶表示パネル６・６ａと、液晶表示パネル６・６ａに光を照射する光源７と光源７からの光を面発光させる導光板８とを備えた面光源装置と、上記面光源装置から出射された光をさらに均一化する上記面光源装置の発光面上に形成された拡散板９を含む光学シートとを備えている。

　上記構成によれば、上記面光源装置の発光面上には、拡散板９を含む光学シートが設けられているため、上記ワイヤーグリッド偏光子ＷＧによって反射された偏光成分Ｌｓが、拡散板９を含む光学シートで拡散され再利用できるので、光の利用効率の高い液晶表示装置１・１ａを実現することができる。

　（小型モールドの製造プロセス）
　以下、図４に基づいて、大面積のワイヤーグリッド偏光子ＷＧや大型モールド（第２の型）の作製に用いることのできる小型モールド（第１の型）の製造方法について説明する。

　図４は、小型モールド１２の概略的な製造プロセスを示す図である。

　先ず、図４の（ａ）に図示されているように、基板１２全面に感光性レジスト１３を塗布する。本実施の形態においては、基板１２として石英を用いているが、これに限定されることなくＳｉウェハーなどを用いることもできる。また、感光性レジスト１３としては、露光された箇所が硬化するネガ型用いているが、露光された箇所が現像されるポジ型を用いることもできる。

　なお、基板１２のサイズは、電子ビームの描画時間が長くなり製造コストが高くなることを考慮し、１辺が数ｍｍから数ｃｍ程度であることが好ましい。

　次に、図４の（ｂ）に図示されているように、感光性レジスト１３に直線状のパターンが形成できるように、電子ビームを描画しながら感光性レジスト１３を露光する。

　次に、図４の（ｃ）に図示されているように、感光性レジスト１３を現像し、基板１２上に、上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチを有する感光性レジスト１３の直線状のパターンを形成した。

　本実施の形態においては、上記直線状のパターンのピッチを１００ｎｍとしているが、これに限定されることはなく、上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチであればよく、さらには、そのピッチは、１００ｎｍ～２００ｎｍであることが好ましい。

　その後、図４の（ｄ）に図示されているように、感光性レジスト１３の直線状のパターンをマスクとし、ドライエッチングを行い、基板１２における感光性レジスト１３の形成面に、上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチＰを有する直線状のパターンを形成した。

　最後に、図４の（ｅ）に図示されているように、上記ドライエッチング工程において、マスクとして用いた感光性レジスト１３の直線状のパターンを除去することによって、その一面に上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチＰを有する直線状のパターンが形成された石英からなる小型モールド１２を作製することができる。

　（大型モールドの製造プロセス）
　以下、図５に基づいて、大面積のワイヤーグリッド偏光子ＷＧの作製に用いることのできる大型モールド（第２の型）の製造方法について説明する。

　図５は、大型モールド１４・１６の概略的な製造プロセスを示す図である。

　先ず、図５の（ａ）に図示されているように、基板１４全面にレジスト１５を塗布する。本実施の形態においては、基板１４として石英を用いているが、これに限定されることなくＳｉウェハーなどを用いることもできる。また、レジスト１５としては、光硬化性のレジストや熱硬化性のレジスト何れも用いることができるが、本実施の形態においては、ネガ型の光硬化性のレジストを用いている。

　なお、基板１４のサイズは、液晶表示装置の画面のサイズに応じて設定することができ、本実施の形態においては、１辺が数ｃｍ以上となるようにしている。

　次に、図５の（ｂ）に図示されているように、基板１４上に形成されたレジスト１５の一部に、図４の工程によって製造された石英からなる小型モールド１２のパターン形成面を押し付けて、ＵＶ光を石英からなる小型モールド１２を介して露光し、基板１４上に、小型モールド１２のパターン形成面に形成されたパターンとは逆のレジスト１５のパターン（小型モールド１２のパターン形成面の転写面）を形成する。すなわち、ＵＶインプリント工程を用いて基板１４上にレジスト１５のパターンを形成している。

　次に、図５の（ｃ）に図示されているように、小型モールド１２を移動させながら、図５の（ｂ）に図示されている工程を繰り返すことによって、基板１４上に形成されたレジスト１５の全面に、小型モールド１２のパターン形成面に形成されたパターンとは逆のレジスト１５のパターン（小型モールド１２のパターン形成面の転写面）を形成することができる。すなわち、ステップ＆リピート方式を用いて基板１４上に形成されたレジスト１５の全面にパターンを形成することができる。

　なお、本実施の形態においては、小型モールド１２を介してＵＶ光の照射を行うため、石英からなる小型モールド１２を用いているが、レジスト１５が熱硬化性のレジストである場合には、ＵＶ光の透過性（光透過性）を有しない材質からなる小型モールドを用いることもできる。また、レジスト１５が熱硬化性のレジストである場合には、上述した図５の（ｂ）および図５の（ｃ）の工程において、ＵＶ光を照射する代わりに、小型モールド１２が押し付けられている基板１４上のレジスト１５に局所的に熱処理を行えばよい。

　その後、図５の（ｄ）に図示されているように、レジスト１５の直線状のパターンをマスクとし、ドライエッチングを行い、基板１４におけるレジスト１５の形成面に、上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチを有する直線状のパターンを形成した。

　そして、図５の（ｅ）に図示されているように、上記ドライエッチング工程において、マスクとして用いたレジスト１５の直線状のパターンを除去することによって、その一面に上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチを有する直線状のパターンが形成された石英からなる大型モールド１４を作製することができる。

　さらに、図５の（ｆ）に図示されているように、例えば、ニッケルなどの金属を含んだ溶液に大型モールド１４を浸漬し、電気分解により大型モールド１４の表面に上記ニッケルなどの金属層を０．３ｍｍ程度の厚みで析出させることによって、大型モールド１４上に電鋳によりニッケルなどの金属層１６を形成した。

　その後、図５の（ｇ）に図示されているように、大型モールド１４から金属層１６を離型することによって、ニッケルを含む金属からなるさらに別の大型モールド１６を作製することができる。

　図６は、小型モールド１２を用いて作製される図３に示す液晶表示装置１ａに備えられたワイヤーグリッド偏光子ＷＧの概略的な製造プロセスを示す図である。

　先ず、図６の（ａ）に図示されているように、基板１７全面に後ほど、導電性ワイヤーパターンとなる金属膜（導電性膜）１８を成膜し、金属膜１８を覆うようにレジスト１９を塗布する。

　本実施の形態においては、基板１７としてガラス基板を用いているが、これに限定されることはない。また、金属膜１８としては、本実施の形態においては、アルミニウムを用いているが、これに限定されることはなく、銀などを用いてもよい。

　また、レジスト１９としては、光硬化性のレジストや熱硬化性のレジスト何れも用いることができるが、本実施の形態においては、ネガ型の光硬化性のレジストを用いている。

　次に、図６の（ｂ）に図示されているように、基板１７における金属膜１８上に形成されたレジスト１９の一部に、図４の工程によって製造された石英からなる小型モールド１２のパターン形成面を押し付けて、ＵＶ光を石英からなる小型モールド１２を介して露光し、小型モールド１２のパターン形成面に形成されたパターンとは逆のレジスト１９のパターン（小型モールド１２のパターン形成面の転写面）を形成する。すなわち、ＵＶインプリント工程を用いてレジスト１９のパターンを形成している。

　次に、図６の（ｃ）に図示されているように、小型モールド１２を移動させながら、図６の（ｂ）に図示されている工程を繰り返すことによって、基板１７上に形成されたレジスト１９の全面に、小型モールド１２のパターン形成面に形成されたパターンとは逆のレジスト１９のパターン（小型モールド１２のパターン形成面の転写面）を形成することができる。すなわち、ステップ＆リピート方式を用いて基板１７上に形成されたレジスト１９の全面にパターンを形成することができる。

　なお、本実施の形態においては、小型モールド１２を介してＵＶ光の照射を行うため、石英からなる小型モールド１２を用いているが、レジスト１９が熱硬化性のレジストである場合には、ＵＶ光の透過性を有しない材質からなる小型モールドを用いることもできる。また、レジスト１９が熱硬化性のレジストである場合には、上述した図６の（ｂ）および図６の（ｃ）の工程において、ＵＶ光を照射する代わりに、小型モールド１２が押し付けられている基板１７上のレジスト１９を局所的に熱処理すればよい。

　その後、図６の（ｄ）に図示されているように、レジスト１９の直線状のパターンをマスクとし、エッチングを行い、金属膜１８に、上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチを有する直線状のパターンを形成した。

　そして、図６の（ｅ）に図示されているように、上記エッチング工程において、マスクとして用いたレジスト１９の直線状のパターンを除去することによって、基板１７上にワイヤーグリッド偏光子ＷＧを形成することができる。

　最後に、図６の（ｆ）に図示されているように、図６の（ｅ）の工程によって形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧ上に保護膜２ｃが形成され、図３に示す液晶表示装置１ａに備えられたワイヤーグリッド偏光子ＷＧを備えた基板１１を作製することができる。

　図７は、大型モールド１４ａを用いて作製される図３に示す液晶表示装置１ａに備えられたワイヤーグリッド偏光子ＷＧの概略的な製造プロセスを示す図である。

　図７の（ａ）および図７の（ｃ）～図７の（ｅ）の工程は、図６の（ａ）および図６の（ｄ）～図６の（ｆ）工程と同様であるため、その説明は省略する。

　なお、図７の（ｂ）に図示されている工程においては、図５の工程によって作製された大型モールド１４とはパターン形成面の形状が異なる大型モールド１４ａが用いられている。

　基板１７における金属膜１８上に形成されたレジスト１９に、大型モールド１４ａのパターン形成面を押し付けて、ＵＶ光を石英からなる大型モールド１４ａを介して露光し、大型モールド１４ａのパターン形成面に形成されたパターンとは逆のレジスト１９のパターン（大型モールド１４ａのパターン形成面の転写面）を形成する。すなわち、ＵＶインプリント工程を用いてレジスト１９のパターンを形成している。

　図８は、大型モールド１４ｂを用いて作製される図２に示す液晶表示装置１に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧの概略的な製造プロセスを示す図である。

　図８の（ａ）に図示されているように、ガラス基板２ａ上には、遮光性を有するクロムなどの金属薄膜やカーボンブラックを含む感光性樹脂によって形成されるブラックマトリクス２ｂが形成されており、赤色の着色層２Ｒ、緑色の着色層２Ｇおよび青色の着色層２Ｂは、各色の境界が、ブラックマトリクス２ｂ上に位置するように形成されている。

　次に図８の（ｂ）に図示されているように、赤色の着色層２Ｒ、緑色の着色層２Ｇおよび青色の着色層２Ｂ上には、金属膜１８と金属膜１８を覆うようにレジスト１９とが形成されている。

　なお、上記着色層２Ｒ・２Ｇ・２Ｂ上には、熱硬化性の透明樹脂や光硬化性の透明樹脂からなるオーバコートを平坦化層として設けてもよい。

　次に図８の（ｃ）に図示されている工程においては、図５の工程によって作製された大型モールド１４とはパターン形成面の形状が異なる大型モールド１４ｂが用いられている。

　ガラス基板２ａにおける金属膜１８上に形成されたレジスト１９に、大型モールド１４ｂのパターン形成面を押し付けて、ＵＶ光を石英からなる大型モールド１４ｂを介して露光し、図８の（ｄ）に図示されているように、大型モールド１４ｂのパターン形成面に形成されたパターンとは逆のレジスト１９のパターン（大型モールド１４ｂのパターン形成面の転写面）を形成する。すなわち、ＵＶインプリント工程を用いてレジスト１９のパターンを形成している。

　なお、図８の（ｃ）に図示されている工程においては、大型モールド１４ｂのパターン形成面において、そのパターンが一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域Ａは、ブラックマトリクス２ｂと平面視において重なるように大型モールド１４ｂを移動させている。

　したがって、図８の（ｄ）に図示されているように、レジスト１９のパターンにおいて、一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域は、ブラックマトリクス２ｂ上に位置するようになっている。

　その後、図８の（ｅ）に図示されているように、レジスト１９の直線状のパターンをマスクとし、エッチングを行い、金属膜１８に、上記面光源装置から出射された光の波長よりも短いピッチを有する直線状のパターンを形成した。

　そして、図８の（ｆ）に図示されているように、上記エッチング工程において、マスクとして用いたレジスト１９の直線状のパターンを除去することによって、赤色の着色層２Ｒ、緑色の着色層２Ｇおよび青色の着色層２Ｂ上にワイヤーグリッド偏光子ＷＧを形成することができる。

　最後に、図８の（ｇ）に図示されているように、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧ上に、保護膜２ｃを形成し、保護膜２ｃ上にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ）からなる透明電極２ｄを形成し、液晶表示装置１に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧを作製した。

　図９は、小型モールド１２を用いて作製される図２に示す液晶表示装置１に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧの製造プロセスの一部を示す図である。

　図９に図示されているように、ガラス基板２ａにおける金属膜１８上に形成されたレジスト１９の一部に、小型モールド１２のパターン形成面を押し付けて、ＵＶ光を石英からなる小型モールド１２を介して露光し、小型モールド１２のパターン形成面に形成されたパターンとは逆のレジスト１９のパターン（小型モールド１２のパターン形成面の転写面）を形成する（転写工程）。すなわち、ＵＶインプリント工程を用いてレジスト１９のパターンを形成している。

　さらに、小型モールド１２を移動させながら、この工程を繰り返すことによって、ガラス基板２ａ上に形成されたレジスト１９の全面に、小型モールド１２のパターン形成面に形成されたパターンとは逆のレジスト１９のパターン（小型モールド１２のパターン形成面の転写面）を形成することができる。すなわち、ステップ＆リピート方式を用いてガラス基板２ａ上に形成されたレジスト１９の全面にパターンを形成することができる。

　但し、上記工程においては、小型モールド１２のパターン形成面の大きさに該当する一回の上記転写工程によって形成される領域（第１の転写面）とこの領域（第１の転写面）と隣接する次回の上記転写工程によって形成される領域（第２の転写面）との境界領域（継ぎ目）が、ブラックマトリクス２ｂと平面視において重なるように小型モールド１２を移動させながら、ステップ＆リピート方式を用いてレジスト１９の全面にパターンを形成した。

　なお、小型モールド１２の大きさは、１辺が数ｍｍから数ｃｍ程度であることが好ましいことから、本実施の形態においては、小型モールド１２の１辺の大きさを５ｍｍとしたがこれに限定されることはない。

　また、本実施の形態においては、赤色の着色層２Ｒ、緑色の着色層２Ｇおよび青色の着色層２Ｂとブラックマトリクス２ｂとを、１画素ピッチＰｐが５０μｍとなるように設けており、小型モールド１２を用いた一回の転写工程で、レジスト１９の１００画素分に該当する領域にパターンを形成することができる。

　なお、本実施の形態においては、光源７と光源７からの光を面発光させる導光板８とを備えた面光源装置の発光面に、拡散部材として拡散板９を含む光学シート、すなわち、拡散板９と拡散、屈折、集光および偏光を含む各種光学的機能から選択された複数の光学的機能を備えている光学シートとを設けているが、これに限定されることはなく、上記面光源装置の発光面には、光を散乱させるための凹凸形状または、拡散部材中、少なくとも一方が設けられていればよい。

　また、上記凹凸形状の加工方法や処理方法としては、例えば、プリズム加工、シボ加工、印刷処理などが挙げられるが、特に限定されず、適宜公知の方法を用いることができる。

　〔実施の形態２〕
　次に、図１０に基づいて、本発明の第２の実施形態について説明する。本実施の形態は、赤色の着色層２Ｒ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチＰｒは、相対的に長く設定され、青色の着色層２Ｂ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチＰｂは、相対的に短く設定され、緑色の着色層２Ｇ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチＰｇは、上記ピッチＰｒとＰｂとの間で設定されている点において実施の形態１とは異なっており、その他の構成については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、上記の実施の形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１０は、本発明の他の実施の形態の液晶表示装置に備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧが形成された対向基板２０を示す。

　ワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおいて、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーが、一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域に、主たる波長が異なる各色の光が入射された場合、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧに、上記直線状の導電性ワイヤーと平行な偏光成分の光が入射された場合における入射光量と透過光量との比である偏光消滅比にばらつきが生じ、液晶表示パネルの表示品位の低下を招いてしまう。

　したがって、図１０に図示されているように、上記偏光消滅比が、略等しくなるように、赤色の着色層２Ｒ、緑色の着色層２Ｇおよび青色の着色層２Ｂを通ってワイヤーグリッド偏光子ＷＧに入射される赤色・緑色・青色の光毎に、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチＰｒ・Ｐｇ・Ｐｂが異なるように設定されている。

　すなわち、赤色の着色層２Ｒ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチＰｒは、相対的に長く設定され、青色の着色層２Ｂ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチＰｂは、相対的に短く設定され、緑色の着色層２Ｇ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチＰｇは、上記ピッチＰｒとＰｂとの間で設定されている。

　上記構成によれば、上述したような液晶表示パネルの表示品位の低下を抑制することができる。

　〔実施の形態３〕
　次に、図１１～図１４に基づいて、本発明の第３の実施形態について説明する。本実施の形態は、色制御層の形成に入射光を入射光の波長とは別の波長に変換させて出射させる蛍光体が用いられている点において実施の形態１および実施の形態２とは異なっており、その他の構成については実施の形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、上記の実施の形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１１の（ａ）は、光源７ａとして青色光を放射するＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ：発光ダイオード）を用いた液晶表示装置１ｂを示しており、図１１の（ｂ）は、液晶表示装置１ｂに備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧが形成されている対向基板２１を示している。

　図１１の（ａ）に図示されているように、液晶表示装置１ｂにおいては、対向基板２１におけるインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧの形成面の反対側の面が液晶表示装置１ｂの表示面となっている。

　また、図１１の（ｂ）に図示されているように、色制御層としての光源７ａからの青色光を緑色光に変換する緑色蛍光体層２１Ｇ、光源７ａからの青色光を赤色光に変換する赤色蛍光体層２１Ｒおよび光源７ａからの青色光をそのまま透過させる透明樹脂層２１Ｗは、各層２１Ｇ・２１Ｒ・２１Ｗの境界が、ブラックマトリクス２ｂと一致するように形成されている。

　なお、図１１の（ｂ）に図示されているように、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧには、光源７ａからの青色光のみが入射されるため、上記各層２１Ｇ・２１Ｒ・２１Ｗにそれぞれ形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧのピッチは、同じに設定されている。

　一方、図１２の（ａ）は、光源７ａとして青色光を放射するＬＥＤを用いた液晶表示装置１ｃを示しており、図１２の（ｂ）は、液晶表示装置１ｃに備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧが形成されている対向基板２１を示している。

　図１２の（ａ）に図示されているように、液晶表示装置１ｃにおいては、対向基板２１におけるインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧの形成面の反対側の面が、光源７ａと導光板８とを備えた面光源装置の照射対象面となっている。

　また、図１２の（ｂ）に図示されているように、色制御層としての光源７ａからの青色光を緑色光に変換する緑色蛍光体層２１Ｇ、光源７ａからの青色光を赤色光に変換する赤色蛍光体層２１Ｒおよび光源７ａからの青色光をそのまま透過させる透明樹脂層２１Ｗは、上記各層２１Ｇ・２１Ｒ・２１Ｗの境界が、ブラックマトリクス２ｂと一致するように形成されている。

　なお、図１２の（ｂ）においては、上記各層２１Ｇ・２１Ｒ・２１Ｗ上にそれぞれ形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧのピッチが、同じ場合を図示しているが、既に実施の形態２において説明したように、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧに入射される赤色・緑色・青色の光毎に、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチを異なるように設定することが好ましい。

　すなわち、赤色蛍光体層２１Ｒ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチは、相対的に長く設定され、透明樹脂層２１Ｗ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチは、相対的に短く設定され、緑色蛍光体層２１Ｇ上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチは、上記２つのピッチの間で設定されていることが好ましい。

　図１３の（ａ）は、光源７ｂとして紫外光を放射するＬＥＤを用いた液晶表示装置１ｄを示しており、図１３の（ｂ）は、液晶表示装置１ｄに備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧが形成されている対向基板２２を示している。

　図１３の（ａ）に図示されているように、液晶表示装置１ｄにおいては、対向基板２２におけるインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧの形成面の反対側の面が液晶表示装置１ｄの表示面となっている。

　また、図１３の（ｂ）に図示されているように、色制御層としての光源７ｂからの紫外光を緑色光に変換する緑色蛍光体層２１Ｇ’、光源７ｂからの紫外光を赤色光に変換する赤色蛍光体層２１Ｒ’および光源７ｂからの紫外光を青色光に変換する青色蛍光体層２１Ｂ’は、上記各層２１Ｇ’・２１Ｒ’・２１Ｂ’の境界が、ブラックマトリクス２ｂと一致するように形成されている。

　なお、図１３の（ｂ）に図示されているように、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧには、光源７ｂからの紫外光のみが入射されるため、上記各層２１Ｇ’・２１Ｒ’・２１Ｂ’にそれぞれ形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧのピッチは、同じに設定されている。

　一方、図１４の（ａ）は、光源７ｂとして紫外光を放射するＬＥＤを用いた液晶表示装置１ｅを示しており、図１４の（ｂ）は、液晶表示装置１ｅに備えられたインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧが形成されている対向基板２２を示している。

　図１４の（ａ）に図示されているように、液晶表示装置１ｅにおいては、対向基板２２におけるインセル型ワイヤーグリッド偏光子ＷＧの形成面の反対側の面が、光源７ｂと導光板８とを備えた面光源装置の照射対象面となっている。

　また、図１４の（ｂ）に図示されているように、色制御層としての光源７ｂからの紫外光を緑色光に変換する緑色蛍光体層２１Ｇ’、光源７ｂからの紫外光を赤色光に変換する赤色蛍光体層２１Ｒ’および光源７ｂからの紫外光を青色光に変換する青色蛍光体層２１Ｂ’は、上記各層２１Ｇ’・２１Ｒ’・２１Ｂ’の境界が、ブラックマトリクス２ｂと一致するように形成されている。

　なお、図１４の（ｂ）においては、上記各層２１Ｇ’・２１Ｒ’・２１Ｂ’上にそれぞれ形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧのピッチが、同じ場合を図示しているが、既に実施の形態２において説明したように、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧに入射される赤色・緑色・青色の光毎に、ワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチを異なるように設定することが好ましい。

　すなわち、赤色蛍光体層２１Ｒ’上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチは、相対的に長く設定され、青色蛍光体層２１Ｂ’上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチは、相対的に短く設定され、緑色蛍光体層２１Ｇ’上に形成されたワイヤーグリッド偏光子ＷＧにおけるピッチは、上記２つのピッチの間で設定されていることが好ましい。

　本発明の液晶表示パネルにおいて、上記遮光層は、ブラックマトリクスであることが好ましい。

　上記構成によれば、上記遮光層は、ブラックマトリクスであるため、上記液晶表示パネルにおいて、その表示品位の低下を招いてしまう上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域における透過光を遮光するための遮光膜を別途設ける必要がない。

　本発明の液晶表示パネルにおいて、上記遮光層は、金属配線であることが好ましい。

　上記構成によれば、上記遮光層は、例えば、上記液晶表示パネルに備えられたアクティブ素子に接続されている金属配線であるため、上記液晶表示パネルにおいて、その表示品位の低下を招いてしまう上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域における透過光を遮光するための遮光膜を別途設ける必要がない。

　本発明の液晶表示パネルは、液晶層を挟持した２つの基板を備えており、上記ワイヤーグリッド偏光子は、上記２つの基板間に形成されていることが好ましい。

　上記構成によれば、上記ワイヤーグリッド偏光子は、上記２つの基板間に形成されている構成（すなわち、インセル化されている構成）であるため、液晶表示パネルを薄型化できるとともに、上記ワイヤーグリッド偏光子の耐久性も向上させることができる。

　本発明の液晶表示パネルにおいて、上記ワイヤーグリッド偏光子は、上記液晶表示パネルに備えられた入射された光を異なる複数色として出射させる色制御層上に形成されており、上記ワイヤーグリッド偏光子に、上記直線状の導電性ワイヤーと平行な偏光成分の光が入射された場合における入射光量と透過光量との比である偏光消滅比が、略等しくなるように、上記色制御層を通って上記ワイヤーグリッド偏光子に入射される各色の光毎に、上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチが異なるように設定されていることが好ましい。

　ワイヤーグリッド偏光子において、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーが、一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域に、上記色制御層を通って主たる波長が異なる各色の光が入射された場合、上記偏光消滅比にばらつきが生じ、上記液晶表示パネルの表示品位の低下を招いてしまう。

　上記構成によれば、上記偏光消滅比が、略等しくなるように、上記色制御層を通って上記ワイヤーグリッド偏光子に入射される各色の光毎に、上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチが異なるように設定されている。

　したがって、上述したような液晶表示パネルの表示品位の低下を抑制することができる。

　なお、上記色制御層は、例えば、上記色制御層に入射された入射光の一部の波長を選択的に透過させたり、入射光の波長とは別の波長に変換させて出射させる層であるが、入射光を異なる複数色として出射させることができるのであれば、これらに限定されることはない。

　本発明の液晶表示パネルにおいて、上記色制御層は、入射された光を赤色、緑色および青色として出射させ、入射された光を赤色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、相対的に長く設定され、入射された光を青色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、相対的に短く設定され、入射された光を緑色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、上記入射された光を赤色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチと上記入射された光を青色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチとの間で設定されていることが好ましい。

　ワイヤーグリッド偏光子において、表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーが、一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域に、上記色制御層を通って主たる波長が異なる赤色、緑色および青色の光が入射された場合、主たる波長が最も長い赤色の光の偏光消滅比が最も高く、主たる波長が最も短い青色の光の偏光消滅比が最も低くなることが知られている。

　このように偏光消滅比にばらつきが生じた場合、上記液晶表示パネルの表示品位の低下を招いてしまう。

　上記構成によれば、上記入射された光を赤色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、相対的に長く設定され、上記入射された光を青色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、相対的に短く設定され、上記入射された光を緑色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、上記入射された光を赤色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチと上記入射された光を青色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチとの間で設定されているので、上記偏光消滅比のばらつきを抑制することができる。

　本発明の液晶表示パネルにおいて、上記色制御層は、着色層または、蛍光体層であることが好ましい。

　上記構成によれば、上記色制御層を、入射光の一部の波長を選択的に透過させる着色層または、入射光を入射光の波長とは別の波長に変換させて出射させる蛍光体層で形成することができる。

　本発明の液晶表示パネルの製造方法おいて、上記レジストは、熱硬化性のレジストであり、上記熱硬化性のレジストは、熱処理によって硬化されることが好ましい。

　本発明の液晶表示パネルの製造方法おいて、上記レジストは、光硬化性のレジストであり、上記第１の型は、光透過性の材質で形成されており、上記光硬化性のレジストは、光の露光によって硬化されることが好ましい。

　本発明の液晶表示パネルの製造方法おいて、上記レジストは、光硬化性のレジストであり、上記第２の型は、光透過性の材質で形成されており、上記光硬化性のレジストは、光の露光によって硬化されることが好ましい。

　本発明は上記した各実施の形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施の形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施の形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

　本発明は、液晶表示パネルや、液晶表示装置に適用することができる。

　１、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ、１ｅ　液晶表示装置
　２、２０、２１、２２　　　　　　　対向基板（基板）
　２ｂ　　　　　　　　　　　　　　　ブラックマトリクス（遮光層）
　２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ　　　　　　　　　着色層（色制御層）
　３　　　　　　　　　　　　　　　　液晶層
　９　　　　　　　　　　　　　　　　拡散板（拡散部材）
　１２　　　　　　　　　　　　　　　小型モールド（第１の型）
　１４、１４ａ、１４ｂ、１６　　　　大型モールド（第２の型）
　１８　　　　　　　　　　　　　　　金属膜（導電性膜）
　１９　　　　　　　　　　　　　　　レジスト
　２１Ｒ、２１Ｇ　　　　　　　　　　蛍光体層（色制御層）
　２１Ｒ’、２１Ｇ’、２１Ｂ’　　　蛍光体層（色制御層）
　２１Ｗ　　　　　　　　　　　　　　透明樹脂層（色制御層）
　ＷＧ　　　　　　　　　　　　　　　ワイヤーグリッド偏光子
　Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　周期性がくずれた領域
　Ｌｐ　　　　　　　　　　　　　　　導電性ワイヤーと垂直な偏光成分
　Ｌｓ　　　　　　　　　　　　　　　導電性ワイヤーと平行な偏光成分
　Ｐ　　　　　　　　　　　　　　　　ピッチ

Claims

　表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンを有するワイヤーグリッド偏光子を備えた液晶表示パネルであって、
　上記ワイヤーグリッド偏光子には、上記直線状の導電性ワイヤーが、一定のピッチで周期的に繰り返されるように形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域とがあり、
　上記直線状の導電性ワイヤーが上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域と、上記液晶表示パネルに備えられた遮光層とは、少なくとも一部が平面視において重なるように形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
　上記遮光層は、ブラックマトリクスであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
　上記遮光層は、金属配線であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
　上記液晶表示パネルは、液晶層を挟持した２つの基板を備えており、
　上記ワイヤーグリッド偏光子は、上記２つの基板間に形成されていることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の液晶表示パネル。
　上記ワイヤーグリッド偏光子は、上記液晶表示パネルに備えられた入射された光を異なる複数色として出射させる色制御層上に形成されており、
　上記ワイヤーグリッド偏光子に、上記直線状の導電性ワイヤーと平行な偏光成分の光が入射された場合における入射光量と透過光量との比である偏光消滅比が、略等しくなるように、
　上記色制御層を通って上記ワイヤーグリッド偏光子に入射される各色の光毎に、上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチが異なるように設定されていることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の液晶表示パネル。
　上記色制御層は、入射された光を赤色、緑色および青色として出射させ、
　入射された光を赤色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、相対的に長く設定され、
　入射された光を青色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、相対的に短く設定され、
　入射された光を緑色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチは、上記入射された光を赤色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチと上記入射された光を青色として出射させる色制御層上に形成された上記ワイヤーグリッド偏光子における上記一定のピッチとの間で設定されていることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネル。
　上記色制御層は、着色層または、蛍光体層であることを特徴とする請求項５または６に記載の液晶表示パネル。
　請求項１から７の何れか１項に記載の液晶表示パネルと、上記液晶表示パネルに光を照射する面光源装置とが備えられ、
　上記面光源装置の発光面には、光を散乱させるための凹凸形状または、拡散部材中、少なくとも一方が設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
　表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンを有するワイヤーグリッド偏光子を備えた液晶表示パネルの製造方法であって、
　上記液晶表示パネルに備えられた一方の基板に所定形状にパターニングされた遮光層を形成し、
　上記一方の基板に導電性ワイヤーを形成する導電性膜を上記基板全面に平坦に形成し、
　上記導電性膜を覆うようにレジストを形成し、
　上記レジストに、上記光の波長よりも短い一定のピッチで周期的に繰り返される直線状のパターンが形成されている第１の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストの該当部分を硬化させ、上記レジストに上記パターン形成面の第１の転写面を形成し、
　上記第１の型を上記第１の転写面と隣接する位置に移動させ、上記レジストに、上記第１の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストの該当部分を硬化させ、上記レジストに上記パターン形成面の第２の転写面を形成し、
　上記第１の転写面および上記第２の転写面を形成する時には、上記第１の型を、上記第１の転写面と上記第２の転写面との境界が、上記遮光層と少なくとも一部で平面視において重なるように移動させ、
　上記硬化されたレジストパターンをマスクとして、上記導電性膜をエッチングし、
　上記硬化されたレジストパターンを除去することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
　表示に用いられる光の波長よりも短いピッチの直線状の導電性ワイヤーパターンを有するワイヤーグリッド偏光子を備えた液晶表示パネルの製造方法であって、
　上記液晶表示パネルに備えられた一方の基板に所定形状にパターニングされた遮光層を形成し、
　上記一方の基板に導電性ワイヤーを形成する導電性膜を上記基板全面に平坦に形成し、
　上記導電性膜を覆うようにレジストを形成し、
　上記レジストに、上記光の波長よりも短い一定のピッチで周期的に繰り返される直線状のパターンが形成されている領域と上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域とを有する第２の型のパターン形成面を押し付けながら上記レジストを硬化する時には、
　上記パターン形成面における上記一定のピッチより大きいピッチで形成されている領域は、上記遮光層と少なくとも一部で平面視において重なるように上記第２の型を移動させ、
　上記硬化されたレジストパターンをマスクとして、上記導電性膜をエッチングし、
　上記硬化されたレジストパターンを除去することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
　上記レジストは、熱硬化性のレジストであり、
　上記熱硬化性のレジストは、熱処理によって硬化されることを特徴とする請求項９または１０に記載の液晶表示パネルの製造方法。
　上記レジストは、光硬化性のレジストであり、
　上記第１の型は、光透過性の材質で形成されており、
　上記光硬化性のレジストは、光の露光によって硬化されることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示パネルの製造方法。
　上記レジストは、光硬化性のレジストであり、
　上記第２の型は、光透過性の材質で形成されており、
　上記光硬化性のレジストは、光の露光によって硬化されることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示パネルの製造方法。