JP2017505531A - 有機電子デバイス中にp層を形成するためのインク - Google Patents

有機電子デバイス中にp層を形成するためのインク Download PDF

Info

Publication number
JP2017505531A
JP2017505531A JP2016534160A JP2016534160A JP2017505531A JP 2017505531 A JP2017505531 A JP 2017505531A JP 2016534160 A JP2016534160 A JP 2016534160A JP 2016534160 A JP2016534160 A JP 2016534160A JP 2017505531 A JP2017505531 A JP 2017505531A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ionomer
layer
nanoparticles
metal oxide
type semiconductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016534160A
Other languages
English (en)
Inventor
マチュー・マンソー
ソレン・ベルソン
Original Assignee
コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ
コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ, コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ filed Critical コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ
Publication of JP2017505531A publication Critical patent/JP2017505531A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/106Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/52Electrically conductive inks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/03Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/03Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • C09D11/037Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder characterised by the pigment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/30Inkjet printing inks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/12Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
    • H01B1/122Ionic conductors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/10Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising heterojunctions between organic semiconductors and inorganic semiconductors
    • H10K30/15Sensitised wide-bandgap semiconductor devices, e.g. dye-sensitised TiO2
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • H10K50/115OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/15Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating characterised by the solvent used
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/141Organic polymers or oligomers comprising aliphatic or olefinic chains, e.g. poly N-vinylcarbazol, PVC or PTFE
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/151Copolymers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/20Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
    • H10K85/211Fullerenes, e.g. C60
    • H10K85/215Fullerenes, e.g. C60 comprising substituents, e.g. PCBM
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02521Materials
    • H01L21/02565Oxide semiconducting materials not being Group 12/16 materials, e.g. ternary compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02587Structure
    • H01L21/0259Microstructure
    • H01L21/02601Nanoparticles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612Formation types
    • H01L21/02617Deposition types
    • H01L21/02623Liquid deposition
    • H01L21/02628Liquid deposition using solutions
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/40Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising a p-i-n structure, e.g. having a perovskite absorber between p-type and n-type charge transport layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/50Photovoltaic [PV] devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

本発明は、有機電子デバイス中にp型層を形成することができるインクであって、少なくともV2O5、NiO、MoO3、WO3、及びこれらの混合物の中から選択されるP型半導体金属酸化物のナノ粒子と、イオノマーとを含み、前記イオノマーは、パーフルオロスルホネートコポリマーであり、イオノマーと、V2O5、NiO、MoO3、WO3、及びこれらの混合物から選択されるP型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間であることを特徴とするインクに関する。本発明は、有機電子デバイスのP層、電子デバイス、及びその形成方法にも関する。

Description

本発明は、有機光起電力セル、有機発光ダイオード(OLED)、及び有機光検出器(OPD)等の、有機電子デバイスの分野に関する。
これらのデバイスは、「p型」層及び「n型」層に隣接する「活性」層を特に含んだいくつかの層の積層体の上方及び下方にそれぞれ位置決めされている、第1及び第2の電極からなる。
本発明は、改善されたp型層、したがってその安定性、特に熱安定性及び空気安定性が改善され且つ高性能を有する有機電子デバイスを得るのに有利なp型層を、提示することを目標とする。
有機電子デバイス、詳細には有機光起電力セルは、一般に、それらのアーキテクチャの標準構造又は逆構造に分類される。
標準構造では、層は、下記の順序:
− 基板、
− 第1の電極(アノード)としての伝導性層、
− 「正孔輸送層」と呼ばれるp型半導体層、
− 電気活性層、
− 「電子輸送層」と呼ばれるn型半導体層、
− 第2の電極(カソード)としての伝導性層
で堆積される。
逆構造では、積層体が逆になっており、層は、下記の順序:
− 基板、
− 第1の電極(カソード)としての伝導性層、
− 「電子輸送層」と呼ばれるn型半導体層、
− 電気活性層、
− 「正孔輸送層」と呼ばれるp型半導体層、
− 第2の電極(アノード)又は上方電極
で位置決めされる。
一般に、これらの構造で考慮されるp型半導体層は、大部分が、2種のポリマー、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)とポリスチレンスルホン酸ナトリウム(PSS)との混合物であってPEDOT:PSSと呼ばれるものから形成される。したがってこれらの層は、親水性である性質を有する。
この材料には、伝導率、透明度、及び安定性、特に光化学的安定性及び酸化安定性に関して多くの利点がある。
更に、これらの構造において従来より考慮されてきた電気活性層は、少なくとも2種の半導体材料:電子受容体、n型材料と、電子供与体(正孔輸送体)、p型材料とを含有する混合物からなる。したがってこれらの活性層は、一般に疎水性である。
したがって、これら2つのタイプの層の間には、自然に非相溶性がある。この親和性の欠如は、更に、その積層体を生成するのを難しくするという結果をもたらす。
更に、このPEDOT:PSS材料が、2種のポリマーと数種の溶媒及び添加剤との複合的な配合物から得られるという事実は、調節するのにあまり好ましくない。事実、配合において、それを不安定化させる恐れなしに介入するのは困難である。
ナノ粒子の形をとる、例えばV、NiO、MoO、及びWO等のP型半導体金属酸化物は、PEDOT:PSSの使用の代替例を構成してもよい。これらの金属酸化物は、一般に非常に透明でもあり、良好な濡れ性と、活性層に対する強力な接着性を有し得る。更に、それらの低い伝導率は、最終層の厚さを低減させることによって完全に補償されてもよい。
したがって、WOの使用は、非常に高い初期性能を実現することを可能にする。残念ながら、これには、光が存在しない状態を含む、空気中での非常に速い劣化、及び月並みの熱安定性という、2つの大きな欠点がある。両方の場合において、これは、p層の成分としてWO粒子を使用するデバイスの性能の急激な低下をもたらす。
その結果、特に空気、熱、及び水分に対して特に安定したp型層を得るための解決策が、依然として求められている。
Perrierら、Solar Energy Materials and Solar Cells、2012、6月、Vol. 101、210〜216頁
本発明の目的は、この必要性を特に満足させる。
本発明の目的は、p層を生成するための、より一般的には有機電子デバイス、したがって安定性、性能、及び耐用寿命に関して改善されたモジュールを生成するための、改善された解決策を提示することである。
本発明の別の目的は、有機電子デバイスを調製するための方法であって、特にPEDOT:PSSで作製されたp型層の場合に比べてp型層の使用が容易になる方法を提示することである。
したがって、本発明の主な対象は、有機電子デバイス中にp型層を形成するのに適切なインクであって、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子と、イオノマーとを含み、前記イオノマーがパーフルオロスルホン化コポリマーであり、イオノマーとp型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間であることを特徴とする、インクである。
好ましくは、イオノマーと、p型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が、0.01から0.055の間である。
有利には、p型半導体金属酸化物のナノ粒子は、WOで完全に又は部分的に形成される。
本発明の態様の別のものによれば、本発明は、有機電子デバイスのp型層であって、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子と、パーフルオロスルホン化コポリマーであるイオノマーとを含み、イオノマーとp型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間であることを特徴とする、p型層に関する。
本発明の態様の更に別のものによれば、本発明は、上記にて定義されたp型層を含む有機電子デバイスを目標とする。
本発明の態様の更に別のものによれば、本発明は、有機電子デバイス中でp型層を形成するための、WOナノ粒子の使用であって、前記ナノ粒子が、好ましくはパーフルオロスルホン化コポリマーである少なくとも1種のイオノマーと、前記p型層において、0.005から0.115の間のイオノマー/WOナノ粒子の質量比で配合されることを特徴とする使用に関する。
したがって、全く予期せぬことであるが、本発明者らは、イオノマーと組み合わせた形でのWO等のp型半導体金属酸化物のナノ粒子の、有機電子デバイスの製作中の使用が、特に有利であることをはっきりと示すことに気付いた。そのような組合せは特に、同じWOナノ粒子から形成されるがイオノマーと組み合わせていない形のp型層と比較して、著しく改善された熱安定性及び空気安定性に関する性質を示すp型層を得ることを可能にする。これらの利点は、以下に記述される実施例でより詳細に例示される。
更に、その他の予期される性質、即ち活性層上のp層の均一性及び均質性と、OPVセルにおける性能は、更に、そのような組合せによって損なわれないことを証明する。
本発明による有機電子デバイスは、標準構造又は逆(NIP)の構造にある有機光起電力セル、有機発光ダイオード(OLED)、又は有機光検出器(OPD)であってもよい。
その他の利点及び特徴は、以下の説明及び実施例を読むことによって明らかにされるだろう。
既に述べたように、本発明によるインクは、p型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子とイオノマーとを含む。
イオノマーとp型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比は、0.005から0.115の間である。
好ましくは、イオノマーとp型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比は、0.01から0.055の間である。
P型半導体金属酸化物のナノ粒子は、有利には、下記の金属酸化物、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択される。
好ましくは、p型半導体金属酸化物のナノ粒子は、完全に又は部分的にWOで形成される。
それらは、有利には2nmから200nmの間のサイズを有する。「サイズ」という用語は、好ましくは粒子の最大寸法を意味すると理解される。
ある特定の実施形態によれば、p型半導体金属酸化物のナノ粒子は、水和物の形をとってもよい。
好ましくは、p型半導体金属酸化物のナノ粒子の量は、p型半導体金属酸化物のナノ粒子とイオノマーとの合計質量に対して、90%から99.5%、好ましくは95%から99質量%まで様々である。
本発明の意味の範囲内で、「イオノマー」という用語は、カルボキシレート、スルホネート、又はホスホネート官能基のようなイオン性基又はイオン化可能な基を含む、合成ポリマー、ホモポリマー、又はコポリマーを意味すると理解される。この用語は、「イオン性ポリマー」と呼んでもよい。
本発明により使用されるイオノマーは、導電性ポリマーではない。
本発明により使用されるイオノマーは、有利には、パーフルオロスルホン化コポリマーであり、特にスルホン化テトラフルオロエチレンコポリマーである。
より好ましくは、イオノマーは、パーフルオロビニルエーテル基を含むテトラフルオロエチレン主鎖を有し、その末端がスルホネート基又はスルホン酸官能基により官能化されている、コポリマーである。
有利には、本発明により使用されるイオノマーは、Dupontから販売されているNafion(登録商標)である。
好ましくは、イオノマーの量は、p型半導体金属酸化物のナノ粒子とイオノマーとの合計質量に対し、0.5%から10%、好ましくは1%から5質量%まで様々である。
詳細には、本発明によるインクは、インクの全質量に対して固形分を0.5%から20質量%含んでいてもよい。
「固形分」という用語は、溶媒以外のインクの構成成分、即ち本質的にp型半導体金属酸化物のナノ粒子とイオノマーとを意味すると理解される。
本発明によるインクは更に、アルコール性溶媒、詳細には低級アルコール、好ましくはC〜C低級モノアルコール、詳細にはエタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、又はメチルプロパノールを含んでいてもよい。
詳細には、本発明によるインクは、インクの全質量に対してアルコール性溶媒を80%から99.5質量%含んでいてもよい。
インクは一般に界面活性剤なしで配合される。
インクの配合中、p型半導体金属酸化物のナノ粒子のイオノマーとの混合後、混合物を均質化するのに又は2次粒子を沈降させるのに適切な処理等の、いくつかの後処理を実施してもよい。より詳細には、これらの処理は、撹拌又は遠心分離からなるものであってもよい。
ある特定の実施形態によれば、本発明によるインクは、有機溶媒と、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属化合物の少なくとも多少のナノ粒子と、パーフルオロスルホン化コポリマーである少なくとも1種のイオノマーとからなり、イオノマーと、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属化合物のナノ粒子との質量比が、0.005から0.115の間である。
上記にて指定されたように、このように形成されたインクは、有機電子デバイスのp層を構成するのに有用である。
したがって、本発明の態様の別のものによれば、本発明は、有機電子デバイスのp型層であって、p型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子とイオノマーとを含み、イオノマーとp型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間、好ましくは0.01から0.055の間であることを特徴とする、p型層に関する。
ある特定の実施形態によれば、本発明による層は、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子と、パーフルオロスルホン化コポリマーである少なくとも1種のイオノマーとからなり、イオノマーと、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間である。
一般にp層は、溶液コーティング、浸漬、インクジェット印刷、スピンコーティング、ディップコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング等の任意の湿式プロセスによって、考慮される基板の表面にインクの層を堆積することによって形成されてもよい。堆積は、スピンコーティングによって、テープキャスティングによって、例えばドクターブレード、浸漬、スピンコーティングによって、スロットダイによって、インクジェットによって、フォトグラビアによって、又はそうでない場合にはスクリーン印刷によって実施されることになる。
層の厚さは、堆積中に制御されてもよい。具体的には、予測されるp層の構成成分は液体に溶解するので、流体層を、薄膜として支持体全面に拡げてもよい。
堆積後、乾燥工程が有利には実施される。
インクの溶媒は、この乾燥工程中に容易に蒸発してもよい。
この工程は、1分から30分の範囲の期間にわたり80℃から140℃の範囲の温度で特に実施される。
当然ながら、本発明によるインクのいくつかの層の重ね合わせを介して、p層の形成を実施することが可能である。
一般に、同様に前記p層の両側に接する層の間に存在する隙間によって表される、本発明によるp層の厚さは、0.01ミクロンから約50ミクロンまで様々である。
好ましくは、p層の厚さは、20ミクロン未満であり、好ましくは5ミクロン未満であり、有利には1ミクロン未満である。
更により好ましくは、p層の厚さは0.05ミクロンから0.1ミクロンの間である。
本発明は、有機電子デバイス中にp型層を形成するための方法であって、下記の工程:
− 支持体を用意する工程、
− 本発明によるインクを用意する工程、
− 前記支持体の表面で、インクの層の堆積を実施する工程、及び適切な場合には、p層を形成するためにこの層を乾燥させる工程、
を含む方法にも関する。
得ることが望まれるセルのアーキテクチャ、標準又は逆構造に応じて、支持体はそれぞれアノード型の電極又は活性層である。
支持体上のインクの堆積は、任意の適切な湿式プロセスによって実施されてもよい。
次いでインクの堆積物を乾燥し又は放置して乾燥させる。
本発明は、上記定義されたp型層を含むことを特徴とする、有機電子デバイスも目標とする。
本発明による有機電子デバイスは、標準構造又は逆構造を有する。
上述のように、デバイスは、有機光起電力セル、有機発光ダイオード(OLED)、又は有機光検出器(OPD)であってもよい。
本発明は、p型層の形成を促す条件下、上記にて定義されたインクの層を堆積する工程を含むことを特徴とする、有機電子デバイスを形成するための方法も目標とする。
第1の変形例によれば、本発明は、逆構造にある有機電子デバイスを形成するための方法であって、下記の工程:
− 下記の層:基板、カソード、n型層、活性層が、この順序にある層から構成された積層体を用意する工程、
− 前記活性層上に、p型層の形成を促す条件下、本発明によるインクの層を堆積する工程、
を含む方法に関する。
次いでアノード、好ましくは銀電極を、このp型層上に重ね合わせる。
第2の変形例によれば、本発明は、下記の工程:
− 電極(アノード)でコーティングされた基板を用意する工程
− 前記アノード上に、p型層の形成を促す条件下、本発明によるインクの層を堆積する工程
を含む、標準構造の有機電子デバイスを形成するための方法に関する。
次いで一般に、下記の層:活性層、n型層、カソードを、このp型層上に続けて重ねる。
(実施例1)
インクの配合
インクを、Nanograde Llcにより流通されたWOナノ粒子の商用分散体(2.5質量%、界面活性剤なし、2−プロパノールベース、粒径10〜20nm、結晶質構造:三斜晶系)、及びNafion(登録商標)(約5%固形分を有するNafion(登録商標)117溶液、Sigma−Aldrich製)の商用配合物から調製する。
このように形成されたインクは、イソプロパノール96.5質量%、n−プロパノール1質量%、WO 2.45質量%、及びNafion(登録商標)0.1質量%を含む。
(実施例2)
p層を形成するための実施例1によるインクの使用
考慮される有機電子デバイスは、下記の構造
を有するNIP(逆)型のデバイスである。
そのn層は酸化亜鉛(ZnO)層であり、その活性層はポリマー/メチル[6,6]−フェニル−C61−ブチレート(PCBM)層である。
積層体の活性層の表面にある、p層の形成に専用の実施例1からのインクは、スピンコーティングによって付着され、120℃の温度で2分間乾燥させる。このように形成されたp層は、Nafion(登録商標)4質量%及びWO96質量%を含有する。
次いで銀電極を、その表面に形成する。
デバイスの活性表面積は0.28cmである。
同じ手法で、同じ構造を有するが対照であるNIP(逆)型のデバイスを、WOのみを含むp層で形成する。このp層を形成するのに使用したインクは、イソプロパノールを97.5質量%、及びWOを2.5質量%含む。次いで対応するp層は、WOを100質量%含有する。
(実施例3)
デバイスの性能及び安定性
実施例2からのNIP(逆)型のデバイスの性能を、標準照明条件下(1000W/m、AM 1.5G)、不活性雰囲気中で、25℃で測定する。
試験をしたパラメータは、下記の通りである。
Voc:開路電圧、
Jsc:短絡電流密度、
FF:フィルファクタ、
PCE:電力変換効率。
これらのパラメータを、Perrierら、Solar Energy Materials and Solar Cells、2012、6月、Vol. 101、210〜216頁に記載されているプロトコルに従い試験する。
下記のTable 1(表2)は、本発明によるp層を備えたデバイスの性能をまとめる。Table 2(表3)は、対照デバイスの性能をまとめる。
− 性能1:考慮されるデバイスの初期性能、
− 性能2:光が存在しない状態で、空気に2時間曝露した後の、考慮されるデバイスの性能、及び
− 性能3:グローブボックス内で、150℃で2時間の熱処理後、考慮されるデバイスの性能。
本発明によるp層を備えたデバイスの場合、Nafion(登録商標)の有益な効果は、光が存在しない状態で空気に2時間曝露した後、セルの効率が低下しないので、明確に明らかである。
同様に、効率の増大は、グローブボックス内で、150℃で2分間熱処理した後に示され、初期性能が最適化されたことを実証する。したがって、Nafion(登録商標)の有益な効果が検証される。
逆に、対照デバイスに関しては、空気に2時間曝露した後、光が存在しない状態で、セルの効率が著しく低下することが明らかにわかる。
更に、グローブボックス内で、150℃で2分間熱処理した後、その性能は事実上ゼロである。
(実施例4)
WOと組み合わせたNafion(登録商標)の濃度範囲
更に、デバイスの初期性能を、乾燥層内のNafion(登録商標)/WOの質量比の関数として評価する。
試験パラメータは、実施例3の場合と同一である。
結果を、下記のtable 3(表4)に列挙する。
Nafion(登録商標)/WO質量比が0.01から0.111の間である場合、デバイスの性能は非常に良好である。
対照的に、乾燥層内のNafion(登録商標)/WO質量比が0.25又は1に等しい場合、デバイスの性能は不十分である。

Claims (15)

  1. 有機電子デバイス中にp型層を形成するのに適切なインクであって、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子と、イオノマーとを含み、前記イオノマーがパーフルオロスルホン化コポリマーであり、
    前記イオノマーと、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択される前記p型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間であることを特徴とする、インク。
  2. 前記イオノマーと前記p型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が、0.01から0.055の間である、請求項1に記載のインク。
  3. 前記p型半導体金属酸化物のナノ粒子が、完全に又は部分的にWOで形成される、請求項1又は2に記載のインク。
  4. 前記イオノマーが、スルホン化テトラフルオロエチレンコポリマーであり、より詳細には、パーフルオロビニルエーテル基を含むテトラフルオロエチレン主鎖を有し且つその末端がスルホネート基又はスルホン酸官能基によって官能化されたコポリマーである、請求項1から3のいずれか一項に記載のインク。
  5. アルコール性溶媒、詳細には低級アルコール、好ましくはC〜C低級モノアルコール、詳細にはエタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、又はメチルプロパノールを更に含む、請求項1から4のいずれか一項に記載のインク。
  6. 有機溶媒と、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子と、パーフルオロスルホン化コポリマーである少なくとも1種のイオノマーとからなり、前記イオノマーと、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択される前記p型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間であることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載のインク。
  7. 有機電子デバイスのp型層であって、
    、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子と、イオノマーとを含み、前記イオノマーがパーフルオロスルホン化コポリマーであり、
    前記イオノマーと、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間であり、好ましくは0.01から0.055の間であることを特徴とする、層。
  8. 前記p型半導体金属酸化物のナノ粒子が、完全に又は部分的にWOで形成される、請求項7に記載の層。
  9. 前記イオノマーが、スルホン化テトラフルオロエチレンコポリマーであり、より詳細には、パーフルオロビニルエーテル基を含むテトラフルオロエチレン主鎖を有し且つその末端がスルホネート基又はスルホン酸官能基によって官能化されたコポリマーである、請求項7又は8に記載の層。
  10. 、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物の少なくとも多少のナノ粒子と、パーフルオロスルホン化コポリマーである少なくとも1種のイオノマーとからなり、前記イオノマーと、V、NiO、MoO、WO、及びこれらの混合物から選択されるp型半導体金属酸化物のナノ粒子との質量比が0.005から0.115の間であることを特徴とする、請求項7から9のいずれか一項に記載の層。
  11. 請求項7から10のいずれか一項に記載のp型層を含むことを特徴とする、有機電子デバイス。
  12. 標準構造又は逆構造を有することを特徴とする、請求項11に記載の有機電子デバイス。
  13. 有機光起電力セル、有機発光ダイオード(OLED)、又は有機光検出器(OPD)であることを特徴とする、請求項11又は12に記載の有機電子デバイス。
  14. p型層の形成を促す条件下、請求項1から6のいずれか一項に記載のインクの層を堆積する工程を含むことを特徴とする、有機電子デバイスを形成するための方法。
  15. 有機電子デバイス中にp型層を形成するための、WOナノ粒子の使用であって、前記ナノ粒子が、前記p型層内で、パーフルオロスルホン化コポリマーである少なくとも1種のイオノマーと、0.005から0.115のイオノマー/WOナノ粒子の質量比で配合されることを特徴とする使用。
JP2016534160A 2013-11-26 2014-11-25 有機電子デバイス中にp層を形成するためのインク Pending JP2017505531A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1361621 2013-11-26
FR1361621A FR3013719B1 (fr) 2013-11-26 2013-11-26 Encre pour former des couches p dans des dispositifs electroniques organiques
PCT/IB2014/066313 WO2015079378A1 (fr) 2013-11-26 2014-11-25 Encre pour former des couches p dans des dispositifs electroniques organiques

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017505531A true JP2017505531A (ja) 2017-02-16

Family

ID=50102024

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016534160A Pending JP2017505531A (ja) 2013-11-26 2014-11-25 有機電子デバイス中にp層を形成するためのインク

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10174216B2 (ja)
EP (1) EP3074471A1 (ja)
JP (1) JP2017505531A (ja)
KR (1) KR20160090858A (ja)
FR (1) FR3013719B1 (ja)
WO (1) WO2015079378A1 (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11961875B2 (en) 2017-12-20 2024-04-16 Lumileds Llc Monolithic segmented LED array architecture with islanded epitaxial growth
ES2722475B2 (es) * 2018-02-09 2020-03-25 Torrecid Sa Juego de tintas para obtener dispositivos hibridos electroluminiscentes
US11271033B2 (en) 2018-09-27 2022-03-08 Lumileds Llc Micro light emitting devices
FR3089969B1 (fr) * 2018-12-13 2023-02-24 Genesink Méthode de synthèse de nanoparticules d’oxyde de tungstène
CN109749507B (zh) * 2019-01-23 2021-11-19 纳晶科技股份有限公司 功能层墨水、光电器件功能层的制备方法及光电器件
CN110350091A (zh) * 2019-07-02 2019-10-18 上海大学 有机光电探测器及其制备方法
US11777059B2 (en) 2019-11-20 2023-10-03 Lumileds Llc Pixelated light-emitting diode for self-aligned photoresist patterning
US11848402B2 (en) 2020-03-11 2023-12-19 Lumileds Llc Light emitting diode devices with multilayer composite film including current spreading layer
US11569415B2 (en) 2020-03-11 2023-01-31 Lumileds Llc Light emitting diode devices with defined hard mask opening
US11942507B2 (en) 2020-03-11 2024-03-26 Lumileds Llc Light emitting diode devices
US11735695B2 (en) 2020-03-11 2023-08-22 Lumileds Llc Light emitting diode devices with current spreading layer
US11626538B2 (en) 2020-10-29 2023-04-11 Lumileds Llc Light emitting diode device with tunable emission
US11901491B2 (en) 2020-10-29 2024-02-13 Lumileds Llc Light emitting diode devices
US11705534B2 (en) 2020-12-01 2023-07-18 Lumileds Llc Methods of making flip chip micro light emitting diodes
US11955583B2 (en) 2020-12-01 2024-04-09 Lumileds Llc Flip chip micro light emitting diodes
US11600656B2 (en) 2020-12-14 2023-03-07 Lumileds Llc Light emitting diode device
US11935987B2 (en) 2021-11-03 2024-03-19 Lumileds Llc Light emitting diode arrays with a light-emitting pixel area

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003331869A (ja) * 2002-05-14 2003-11-21 Hitachi Ltd プロトン伝導性材料
JP2004095263A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 燃料電池用電極触媒、燃料電池および燃料電池システム
JP2007336790A (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Kuraray Co Ltd 高分子電気化学素子
JP2009059575A (ja) * 2007-08-31 2009-03-19 Toshiba Corp 燃料電池用アノードおよびそれを用いた燃料電池
JP2010118214A (ja) * 2008-11-12 2010-05-27 Toyota Motor Corp 燃料電池
JP2010534739A (ja) * 2007-07-27 2010-11-11 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 無機ナノ粒子を含有する導電性ポリマーの水性分散体
WO2011058306A1 (en) * 2009-11-10 2011-05-19 Cambridge Display Technology Limited Organic optoelectronic device and method
JP2013127865A (ja) * 2011-12-16 2013-06-27 Toyota Motor Corp 燃料電池用電極触媒、電極触媒に用いられるアイオノマーの製造方法、膜電極接合体の製造方法、膜電極接合体、および燃料電池
JP2013161882A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Konica Minolta Inc 有機光電変換素子、および太陽電池
WO2013137274A1 (ja) * 2012-03-12 2013-09-19 三菱化学株式会社 有機薄膜太陽電池モジュールの製造方法、及び有機薄膜太陽電池モジュール

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3937113B2 (ja) * 1998-06-05 2007-06-27 日産化学工業株式会社 有機−無機複合導電性ゾル及びその製造法
US7390438B2 (en) * 2003-04-22 2008-06-24 E.I. Du Pont De Nemours And Company Water dispersible substituted polydioxythiophenes made with fluorinated polymeric sulfonic acid colloids
US20090320894A1 (en) * 2006-02-17 2009-12-31 Fabio Angiuli Method for preparing nanocrystalline transparent films of tungsten oxide
EP2631008A1 (en) * 2012-02-22 2013-08-28 nanograde AG Solution-processable tungsten oxide buffer layers and electronics comprising same
US10270050B2 (en) * 2012-07-27 2019-04-23 Daicel Corporation Photoelectric conversion layer composition and photoelectric conversion element

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003331869A (ja) * 2002-05-14 2003-11-21 Hitachi Ltd プロトン伝導性材料
JP2004095263A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 燃料電池用電極触媒、燃料電池および燃料電池システム
JP2007336790A (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Kuraray Co Ltd 高分子電気化学素子
JP2010534739A (ja) * 2007-07-27 2010-11-11 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 無機ナノ粒子を含有する導電性ポリマーの水性分散体
JP2009059575A (ja) * 2007-08-31 2009-03-19 Toshiba Corp 燃料電池用アノードおよびそれを用いた燃料電池
JP2010118214A (ja) * 2008-11-12 2010-05-27 Toyota Motor Corp 燃料電池
WO2011058306A1 (en) * 2009-11-10 2011-05-19 Cambridge Display Technology Limited Organic optoelectronic device and method
JP2013127865A (ja) * 2011-12-16 2013-06-27 Toyota Motor Corp 燃料電池用電極触媒、電極触媒に用いられるアイオノマーの製造方法、膜電極接合体の製造方法、膜電極接合体、および燃料電池
JP2013161882A (ja) * 2012-02-02 2013-08-19 Konica Minolta Inc 有機光電変換素子、および太陽電池
WO2013137274A1 (ja) * 2012-03-12 2013-09-19 三菱化学株式会社 有機薄膜太陽電池モジュールの製造方法、及び有機薄膜太陽電池モジュール

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
SHI,MEIQIN ET AL.: "Preparation of the WO3/TiO2 using microwave-heating in ionic liquid and its application in electroca", 2013 INTERNATIONAL CONFERENCE ON MATERIALS FOR RENEWABLE ENERGY AND ENVIRONMENT, JPN6018038733, 19 September 2014 (2014-09-19), US, pages 436 - 439, ISSN: 0003892301 *

Also Published As

Publication number Publication date
EP3074471A1 (fr) 2016-10-05
FR3013719A1 (fr) 2015-05-29
KR20160090858A (ko) 2016-08-01
US20170137645A1 (en) 2017-05-18
FR3013719B1 (fr) 2018-01-12
US10174216B2 (en) 2019-01-08
WO2015079378A1 (fr) 2015-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10174216B2 (en) Ink for forming P layers in organic electronic devices
Hou et al. Improvement of the power conversion efficiency and long term stability of polymer solar cells by incorporation of amphiphilic Nafion doped PEDOT-PSS as a hole extraction layer
US9882155B2 (en) Organic electronic devices
US9515274B2 (en) Photovoltaic cells
WO2016095828A1 (zh) 聚合物-金属化合物复合墨水及其制备方法与应用
JP2014513443A (ja) 多接合型光電池
KR101679729B1 (ko) 3차원 나노 리플 구조의 금속산화물 박막, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 유기태양전지
WO2019243864A1 (en) Organic solar module and/or fabrication method
JP5701975B2 (ja) 電気的活性層を含みかつ垂直分離を有する有機バルクヘテロ接合太陽電池
KR101131564B1 (ko) 코어/쉘 금속산화물 나노입자를 이용한 효율적인 유기태양전지 및 이의 제조방법
Yu et al. Heterojunction solar cells based on silicon and composite films of polyaniline and carbon nanotubes
Hsu et al. Enhancing Si/organic hybrid solar cells via optimizing PEDOT: PSS optical properties and anode surface contacts
KR101543258B1 (ko) 불규칙한 나노구조 표면의 전극을 가지는 역상 폴리머 태양전지 및 그 제조 방법
WO2013059948A1 (en) Solution-processable tungsten oxide buffer layers and organic electronics comprising same
US11139433B2 (en) Tungstate ion solution and hybrid photovoltaic device
Zhang et al. An easily prepared self-assembled interface layer upon active layer doping facilitates charge transfer in polymer solar cells
KR101572061B1 (ko) 금 나노입자가 분산되는 버퍼층을 포함하는 유기태양전지 및 그 제조방법
KR101364018B1 (ko) 유기태양전지 및 그의 제조방법
KR101316237B1 (ko) 용액 공정 기반의 정공 전도층 제조방법 및 이를 이용한 유기태양전지의 제조방법
CN110911562A (zh) 聚合物-多金属氧酸盐复合涂布液及其应用
Al-Dainy et al. Improved efficiency of inverted planar perovskite solar cells with an ultrahigh work function doped polymer as an alternative hole transport layer
Shirasaka et al. Performance and stability improvement of perovskite solar cells using a nanopillar conductive polymer formed via electropolymerisation
Youyu et al. An alcohol-dispersed conducting polymer complex for fully printable organic solar cells with improved stability
CN103928614A (zh) 一种高填充因子的有机薄膜太阳能电池

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160726

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171109

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180926

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181005

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190304

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190523

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20191007