JP2017504190A5 - - Google Patents
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本開示の幾つかの実施形態では第一級アミノ基または第二級アミノ基および少なくとも1つの追加の窒素含有塩基性基を含む前記少なくとも1つのモノカルボン酸化合物は、上記の構造(I)の化合物であって、R1が少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する基であり、且つ、R2とR3の各々が水素原子である化合物から選択される。この構造を有する化合物の例にはリシン、2,3−ジアミノ酪酸、2,4−ジアミノ酪酸、オルニチン、2,3−ジアミノプロピオン酸、2,6−ジアミノヘプタン酸、4−メチルリシン、3−メチルリシン、5−ヒドロキシリシン、3−メチル−L−アルギニン、アルギニン、ホモアルギニン、N5−モノメチル−L−アルギニン、N5−[イミノ(メチルアミノ)メチル]−D−オルニチン、カナバニン、およびヒスチジンが含まれるがこれらに限定されない。
R10〜R13に適切な置換または非置換C3〜C10環状アルキルの例にはシクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ならびにノルボルニルおよび完全水素化ナフチレンなどの二環式系が含まれるがこれらに限定されない。適切な置換基にはハロゲン(例えば、Cl、Br、またはF)、C1〜C10直鎖または分岐アルキル、C3〜C10環状アルキル、および置換または非置換フェニルが含まれるがこれらに限定されない。
R10〜R13に適切な置換または非置換C1〜C10直鎖または分岐アルキルの例にはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、イソプロピル、イソブチル、t−ブチル、1,1,2,2−テトラメチルプロピル、およびデシルが含まれるがこれらに限定されない。適切な置換基にはハロゲン(例えば、Cl、Br、またはF)、C1〜C10直鎖または分岐アルコキシ、C1〜C10直鎖または分岐フルオロアルコキシ、C3〜C10環状アルコキシ、および置換または非置換アリールが含まれるがこれらに限定されない。
構造(III)のビスビグアニドの例には、エチレンジビグアニド、プロピレンジビグアニド、テトラメチレンジビグアニド、ペンタメチレンジビグアニド、ヘキサメチレンジビグアニド、ヘプタメチレンジビグアニド、オクタメチレンジビグアニド、1,6−ビス−(4−クロロベンジルビグアニド)−ヘキサン(フルオルヘキシジン(登録商標))、1,1’−ヘキサメチレンビス(5−(p−クロロフェニル)ビグアニド)(クロルヘキシジン)、2−(ベンジルオキシメチル)ペンタン−1,5−ビス(5−ヘキシルビグアニド)、2−(フェニルチオメチル)ペンタン−1,5−ビス(5−フェネチルビグアニド)、3−(フェニルチオ)ヘキサン−1,6−ビス(5−ヘキシルビグアニド)、3−(フェニルチオ)ヘキサン−1,6−ビス(5−シクロヘキシルビグアニド)、3−(ベンジルチオ)ヘキサン−1,6−ビス(5−ヘキシルビグアニド)、および3−(ベンジルチオ)ヘキサン−1,6−ビス(5−シクロヘキシルビグアニド)が含まれるがこれらに限定されない。
水溶性アルカンジオールの例には2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、ピナコール、およびアルキレングリコールが含まれるがこれらに限定されない。
水溶性ケトンの例にはアセトン、プロパノン、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、2−ブタノン、2,5−ヘキサンジオン、1,4−シクロヘキサンジオン、3−ヒドロキシアセトフェノン、1,3−シクロヘキサンジオン、およびシクロヘキサノンが含まれるがこれらに限定されない。
水溶性エステルの例にはエチルアセテート;エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテートなどのグリコールモノエステル;およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのグリコールモノエーテルモノエステルが含まれるがこれらに限定されない。
リンス工程の後に半導体基板を乾燥させてもよい。当技術分野において知られているあらゆる適切な乾燥手段を用いてよい。適切な乾燥手段の例には遠心乾燥、半導体基板上での乾燥ガスの流動、またはホットプレートもしくは赤外線灯などの加熱手段を用いる半導体基板の加熱、マランゴニ乾燥、ロタゴニ乾燥、IPA乾燥またはそれらのあらゆる組合せが含まれる。乾燥時間は採用される特定の方法に依存するが、典型的には30秒から最大で数分の程度である。
約200ミリリットルの本開示の洗浄用組成物を含む500mlの容積のガラスビーカー中に試験片を浮遊させることができるように4インチ長のプラスチック製ロッキングピンセットを使用して試験片を保持した。その試験片をその洗浄用組成物に浸漬する前に制御撹拌しながらその組成物を所望の試験条件温度(上で述べたように通常は40℃または60℃)まで予備加熱した。その後、その試験片のPER層を含む面が撹拌子に対面するようにプラスチック製ピンセットによって保持するその試験片をその加熱組成物の中に入れることで洗浄試験を実施した。その洗浄用組成物を制御撹拌して試験温度に保ちながらその組成物の中にその試験片を一定の期間(典型的には2〜5分)にわたって静置した。所望の洗浄時間が完了したところでその試験片をその洗浄用組成物から直ぐに取出し、環境温度(約17℃)で穏やかに撹拌されている約400mlのDI水で満たされた500mlのプラスチックビーカーの中に入れた。その試験片をそのビーカーのDI水の中に約30秒間にわたって放置し、続いて直ぐに取出し、環境温度で約30秒間にわたってDI水流下でリンスした。その試験片を直ぐに携帯型窒素吹きつけ器からの窒素ガス流に曝露し、それによってその試験片表面上のあらゆる液滴をその試験片から吹き飛ばし、さらにその試験片素子表面を完全に乾燥させた。この最後の窒素乾燥工程の後にプラスチック製ピンセットの保持部分からその試験片を取り外し、約2時間以下の短期間の保管のために素子面を上にして蓋付きプラスチック製保管箱に入れた。その後、洗浄した試験片素子表面上の重要な特徴について走査型電子顕微鏡(SEM)写真を収集した。
基本手順3
ビーカー試験による材料適合性評価
材料適合性試験のためにシリコン基板上のブランケットCo、シリコン基板上のW、シリコン基板上のSiO2上のTiOx、シリコン基板上のSiN、シリコン基板上のILDを約1インチ×1インチ四方の試験片に切断した。最初にそれらの試験片について金属膜(Co、W)用に4点プローブCDE Resmap273によって、または誘電体膜(TiOx、SiNおよびILD)用にWoollam M−2000Xを使用しエリプソメトリーによって厚みまたはシート抵抗を測定した。その後、それらの試験片を4インチ長のプラスチック製ロッキングピンセットに取り付け、その試験片のCo層、W層、TiOx層、SiN層、またはILD層を含む面が撹拌子に対面するようにして基本手順2の洗浄手順に記載されているように10分間にわたって処理した。
ビーカー試験による材料適合性評価
材料適合性試験のためにシリコン基板上のブランケットCo、シリコン基板上のW、シリコン基板上のSiO2上のTiOx、シリコン基板上のSiN、シリコン基板上のILDを約1インチ×1インチ四方の試験片に切断した。最初にそれらの試験片について金属膜(Co、W)用に4点プローブCDE Resmap273によって、または誘電体膜(TiOx、SiNおよびILD)用にWoollam M−2000Xを使用しエリプソメトリーによって厚みまたはシート抵抗を測定した。その後、それらの試験片を4インチ長のプラスチック製ロッキングピンセットに取り付け、その試験片のCo層、W層、TiOx層、SiN層、またはILD層を含む面が撹拌子に対面するようにして基本手順2の洗浄手順に記載されているように10分間にわたって処理した。
Claims (48)
- 1)少なくとも1つの酸化還元剤、
2)ポリアミノポリカルボン酸である少なくとも1つの第1のキレート剤、
3)前記第1のキレート剤と異なり、少なくとも2つの窒素含有基を含む少なくとも1つの第2のキレート剤、
4)置換または非置換ベンゾトリアゾールである少なくとも1つの金属腐食抑制剤、
5)水溶性アルコール、水溶性ケトン、水溶性エステル、および水溶性エーテルからなる群より選択される少なくとも1つの有機溶媒、
6)水、および
7)所望により、金属イオンを含まない塩基である少なくとも1つのpH調整剤、
を含む洗浄用の組成物。 - 前記組成物のpHが6と11の間である、請求項1に記載の組成物。
- 前記酸化還元剤がヒドロキシルアミンである、請求項1に記載の組成物。
- 前記組成物が0.5重量%〜20重量%の前記酸化還元剤を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記ポリアミノポリカルボン酸がモノ−またはポリ−アルキレンポリアミンポリカルボン酸、ポリアミノアルカンポリカルボン酸、ポリアミノアルカノールポリカルボン酸、およびヒドロキシアルキルエーテルポリアミンポリカルボン酸からなる群より選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記ポリアミノポリカルボン酸がブチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミンテトラプロピオン酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、l,3−ジアミノ−2−ヒドロキシプロパン−N,N,N’,N’−四酢酸、プロピレンジアミン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸、trans−1,2−ジアミノシクロヘキサン四酢酸、エチレンジアミン二酢酸、エチレンジアミンジプロピオン酸、1,6−ヘキサメチレン−ジアミン−N,N,N’,N’−四酢酸、N,N−ビス(2−ヒドロキシベンジル)エチレンジアミン−N,N−二酢酸、ジアミノプロパン四酢酸、1,4,7,10−テトラアザシクロドデカン−四酢酸、ジアミノプロパノール四酢酸、および(ヒドロキシエチル)エチレンジアミン三酢酸からなる群より選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記組成物が0.01重量%〜1重量%の前記ポリアミノポリカルボン酸を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記第2のキレート剤が第一級アミノ基または第二級アミノ基および少なくとも1つの追加の窒素含有塩基性基を含むモノカルボン酸である、請求項1に記載の組成物。
- 前記モノカルボン酸が構造(I):
(R3NH)C(R1)(R2)CO2H (I)
を有する化合物であって、式中、
R1とR2の各々は独立して水素原子、C1〜C4アルキル、または少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する基であり、且つ、
R3は水素原子、C1〜C10アルキル、または少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する基であり、
R1、R2、およびR3のうちの少なくとも1つは、少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する基である、請求項8に記載の組成物。 - R1が少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する基であり、少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する前記基がアミノ、グアニジニル、またはイミダゾリルによって置換されており、且つ、OHによってさらに置換されていてもよいC1〜C10アルキルである、請求項9に記載の組成物。
- R2がHまたはC1〜C 4 アルキルであり、R3がH、C1〜C10アルキル、または少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する基であり、少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する前記基がアミノ、グアニジニル、またはイミダゾリルによって置換されていてもよく、且つ、OHによってさらに置換されていてもよいC1〜C10アルキルである、請求項10に記載の組成物。
- R3が少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する基であり、少なくとも1つの窒素含有塩基性基を有する前記基がアミノ、グアニジニル、またはイミダゾリルによって置換されており、且つ、OHによってさらに置換されていてもよいC1〜C10アルキルである、請求項9に記載の組成物。
- R1とR2の各々が独立してHまたはC1〜C4アルキルである、請求項12に記載の組成物。
- 前記モノカルボン酸がリシン、2,3−ジアミノ酪酸、2,4−ジアミノ酪酸、オルニチン、2,3−ジアミノプロピオン酸、2,6−ジアミノヘプタン酸、4−メチルリシン、3−メチルリシン、5−ヒドロキシリシン、3−メチル−L−アルギニン、アルギニン、ホモアルギニン、N5−モノメチル−L−アルギニン、N5−[イミノ(メチルアミノ)メチル]−D−オルニチン、カナバニン、ヒスチジン、N−(2−アミノエチル)グリシン、N−(2−アミノプロピル)グリシン、N2−メチルリシン、N2−メチル−L−アルギニン、N2−(2−アミノエチル)−D−アルギニン、N2−(2−アミノエチル)−L−アルギニン、2−メチルリシン、2−メチル−L−アルギニン、3,4−ジアミノ酪酸、および3−アミノ−5−[(アミノイミノメチル)メチルアミノ]ペンタン酸からなる群より選択される、請求項8に記載の組成物。
- 前記第2のキレート剤が構造(II):
を有する化合物であって、式中、
R10、R11、R12、およびR13は水素、置換または非置換アリール、置換または非置換C3〜C10環状アルキル、および置換または非置換C1〜C10直鎖または分岐アルキルからなる群より独立して選択され、且つ、
R14は水素、またはR13と共にイミダゾール環を形成する単結合であり、
ただしR10、R11、R12、およびR13のうちの少なくとも1つはアリール基であるかまたはアリール置換基を含み、且つR10、R11、R12、およびR13のうちの少なくとも2つは水素である、
請求項1に記載の組成物。 - 前記第2のキレート剤が構造(III):
(III)
を有する化合物であり、式中、
R20、R21、R22、およびR23は水素、置換または非置換アリール、置換または非置換C3〜C10環状アルキル、および置換または非置換C1〜C10直鎖または分岐アルキルからなる群より独立して選択され、
各R24は水素、置換または非置換アリール、置換または非置換フェニルエチル、または置換もしくは非置換ベンジルアルキルからなる群より独立して選択され、且つ、
mは1〜10の整数であり、
ただしR20、R21、R22、R23およびR24のうちの少なくとも1つはアリール基であるかまたはアリール置換基を含み、且つR20、R21、R22、およびR23のうちの少なくとも2つは水素である、
請求項1に記載の組成物。 - 前記第2のキレート剤がクロルヘキシジン、アルキレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、またはポリエチレンイミンである、請求項1に記載の組成物。
- 前記第2のキレート剤が高分子ビグアニドである、請求項1に記載の組成物。
- 前記高分子ビグアニドが構造(IV):
を有する化合物またはその塩であり、式中、
nは2以上の整数であり、
各R25は独立してHまたはC1〜C6アルキルであり、且つ、
R26は置換されていてもよいC1〜C20アルキレンである、
請求項18に記載の組成物。 - 各R26が独立してC4〜C10アルキレンである、請求項19に記載の組成物。
- 各R26が独立してC6アルキレンである、請求項19に記載の組成物。
- nが5〜300の整数である、請求項19に記載の組成物。
- nが5〜50の整数である、請求項22に記載の組成物。
- nが10〜20の整数である、請求項23に記載の組成物。
- nが12または15である、請求項24に記載の組成物。
- 0.01重量%〜1.8重量%の前記第2のキレート剤を含む、請求項1に記載の組成物。
- 前記金属腐食抑制剤が、アルキル基、アリール基、ハロゲン基、アミノ基、ニトロ基、アルコキシ基、およびヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも1つの置換基によって置換されていてもよいベンゾトリアゾールである、請求項1に記載の組成物。
- 前記金属腐食抑制剤がベンゾトリアゾール、5−アミノテトラゾール、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、5−フェニルチオール−ベンゾトリアゾール、5−クロロベンゾトリアゾール、4−クロロベンゾトリアゾール、5−ブロモベンゾトリアゾール、4−ブロモベンゾトリアゾール、5−フルオロベンゾトリアゾール、4−フルオロベンゾトリアゾール、ナフトトリアゾール、トリルトリアゾール、5−フェニル−ベンゾトリアゾール、5−ニトロベンゾトリアゾール、4−ニトロベンゾトリアゾール、3−アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、2−(5−アミノ−ペンチル)−ベンゾトリアゾール、1−アミノ−ベンゾトリアゾール、5−メチル−1H−ベンゾトリアゾール、ベンゾトリアゾール−5−カルボン酸、4−メチルベンゾトリアゾール、4−エチルベンゾトリアゾール、5−エチルベンゾトリアゾール、4−プロピルベンゾトリアゾール、5−プロピルベンゾトリアゾール、4−イソプロピルベンゾトリアゾール、5−イソプロピルベンゾトリアゾール、4−n−ブチルベンゾトリアゾール、5−n−ブチルベンゾトリアゾール、4−イソブチルベンゾトリアゾール、5−イソブチルベンゾトリアゾール、4−ペンチルベンゾトリアゾール、5−ペンチルベンゾトリアゾール、4−ヘキシルベンゾトリアゾール、5−ヘキシルベンゾトリアゾール、5−メトキシベンゾトリアゾール、5−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ジヒドロキシプロピルベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]−ベンゾトリアゾール、5−t−ブチルベンゾトリアゾール、5−(1’,1’−ジメチルプロピル)−ベンゾトリアゾール、5−(1’,1’,3’−トリメチルブチル)ベンゾトリアゾール、5−n−オクチルベンゾトリアゾール、および5−(1’,1’,3’,3’−テトラメチルブチル)ベンゾトリアゾールからなる群より選択される、請求項1に記載の組成物。
- 0.05重量%〜1重量%の前記金属腐食抑制剤を含む、請求項1に記載の組成物。
- 1重量%〜30重量%の前記有機溶媒を含む、請求項1に記載の組成物。
- 78%〜98%の水を含む、請求項1に記載の組成物。
- 金属イオンを含まない塩基である少なくとも1つのpH調整剤をさらに含む請求項1に記載の組成物。
- 前記pH調整剤が第四級アンモニウム水酸化物、モノアミン、イミン、またはグアニジン塩である、請求項32に記載の組成物。
- エッチング後残渣および/またはアッシング後残渣を含む半導体基板を請求項1に記載の洗浄用の組成物と接触させる接触工程を含む方法。
- 前記接触工程の後に前記半導体基板をリンス溶媒でリンスするリンス工程をさらに含む、請求項34に記載の方法。
- 前記リンス工程の後に前記半導体基板を乾燥することをさらに含む、請求項35に記載の方法。
- 前記半導体基板から半導体素子を形成することをさらに含む、請求項34に記載の方法。
- 1)少なくとも1つの酸化還元剤、
2)ポリアミノポリカルボン酸である少なくとも1つの第1のキレート剤、
3)置換または非置換ベンゾトリアゾールである少なくとも1つの金属腐食抑制剤、
4)水溶性アルコール、水溶性ケトン、水溶性エステル、および水溶性エーテルからなる群より選択される少なくとも1つの有機溶媒、
5)水、および
6)所望により、金属イオンを含まない塩基である少なくとも1つのpH調整剤、
を含む洗浄用の組成物。 - 前記組成物のpHが6と11の間である、請求項38に記載の組成物。
- 前記酸化還元剤がヒドロキシルアミンである、請求項38に記載の組成物。
- 前記組成物が0.5重量%〜20重量%の前記酸化還元剤を含む、請求項38に記載の組成物。
- 前記ポリアミノポリカルボン酸がモノ−またはポリ−アルキレンポリアミンポリカルボン酸、ポリアミノアルカンポリカルボン酸、ポリアミノアルカノールポリカルボン酸、およびヒドロキシアルキルエーテルポリアミンポリカルボン酸からなる群より選択される、請求項38に記載の組成物。
- 前記組成物が0.01重量%〜1重量%の前記ポリアミノポリカルボン酸を含む、請求項38に記載の組成物。
- 前記金属腐食抑制剤が、アルキル基、アリール基、ハロゲン基、アミノ基、ニトロ基、アルコキシ基、およびヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも1つの置換基によって置換されていてもよいベンゾトリアゾールである、請求項38に記載の組成物。
- 0.05重量%〜1重量%の前記金属腐食抑制剤を含む、請求項38に記載の組成物。
- 金属イオンを含まない塩基である少なくとも1つのpH調整剤をさらに含む請求項38に記載の組成物。
- ヒドロキシルアミン、ジエチレントリアミン五酢酸、5−メチルベンゾトリアゾール、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、エチレングリコールブチルエーテル、及び水、を含む請求項46に記載の組成物。
- 0.5重量%〜20重量%のヒドロキシルアミン、
0.01重量%〜1重量%のジエチレントリアミン五酢酸、
0.05重量%〜1重量%の5−メチルベンゾトリアゾール、
0.1重量%〜3重量%の1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、
1重量%〜20重量%のエチレングリコールブチルエーテル、及び
78重量%〜98重量%の水、を含む請求項47に記載の組成物。
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