JP2017501123A - フラン−2,5−ジメタノールおよび(テトラヒドロフラン−2,5−ジイル)ジメタノールのモノおよびジアルキルエーテルならびにその両親媒性誘導体 - Google Patents
フラン−2,5−ジメタノールおよび(テトラヒドロフラン−2,5−ジイル)ジメタノールのモノおよびジアルキルエーテルならびにその両親媒性誘導体 Download PDFInfo
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Abstract
Description
本出願は、その内容が参照により本明細書に組み込まれる、2013年12月19日に出願された米国仮特許出願第61/918,239号の優先権の利益を主張する。
FDMを、ブレンステッド塩基および1モル当量以下のアルキル−X種と接触させることを含む、方法を提供する。得られたFDMのモノエーテルは、例えば、以下の化合物:
a.(5−((オクタデシルオキシ)メチル)フラン−2−イル)メタノール;
FDMを、ブレンステッド塩基および最少2モル当量のアルキル−X種と接触させることを含む。得られたFDMのジエーテルは、例えば、以下の化合物:
a.2,5−ビス((ヘキシルオキシ)メチル)フラン;
bHMTHFを、ブレンステッド塩基および1モル当量以下のアルキル−X種と接触させることを含む、方法を提供する。得られたbHMTHFのモノエーテルは、例えば、以下の化合物:
a.((2S,5R)−5−((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メタノール;
bHMTHFを、ブレンステッド塩基および最少2モル当量のアルキル−X種と接触させることを含む。得られたbHMTHFのジエーテルは、例えば、以下の化合物:
a.(2R,5S)−2,5−ビス((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン;
本発明の合成方法は、穏やかな条件下でフルクトースから誘導される5−(ヒドロキシメチル)フルフラ−ル(HMF)の還元から生じる分子であって、グリコールであるFDMおよび/またはbHMTHF由来の直鎖アルキルエーテル、ならびにそれらの誘導体化化合物の直接的調製の経路を開く(必ずしもではないが、ある特定の実施形態において、前記方法はまた、本明細書に記載される本発明の反応方法による選択的エーテル化に先立って、水素化工程において、まず、HMFをFDMに部分的に還元する、または、HMFをbHMTHFに完全に還元することを含む)。同様にして、アルキルエーテルは、界面活性剤、分散剤、および可塑剤において使用され得るバイオベースの両親媒性を有する有用な前駆体である。
上述のように、反応において、ブレンステッド塩基は、グリコールの−OH部分を脱プロトン化するように作用する。このことにより、グリコールであるFDMおよびbHMTHFの対応する求核性を少なくとも約6倍以上増強させ(例えば、8〜10〜12)、アルキル試薬のハライド置換/スルホネート置換を推進する。反応において使用されるブレンステッド塩基の相対強度は、グリコールの、特に、モノアルキルエーテルへの高変換率の付与に必須である。
本発明の説明のエーテル化反応は、グリコールと活性化アルカンの間の塩基媒介2次置換反応として特徴付けられ得る。極性非プロトン性有機溶媒で、最も迅速に所望のエーテルの充分な収率を達成するために、アルカンに付着した脱離基は好ましい離脱性を示すべきである。この文脈において、一部の種は、例えば、ハロゲン化物(例えば、Cl、Br、I)およびスルホネート(例えば、−OTf、−OTs、−OMs)であり得る。典型的に、長さが5〜25個の炭素原子の直鎖ハロゲン化アルキルまたはアルキルスルホネートを使用する反応が行われ得る。一部の反応において、例えば、アルキル鎖長は、約5もしくは8〜約16もしくは18個の炭素原子、または約6もしくは10〜約20もしくは22個の炭素原子の範囲であってよく(例えば、C8〜C18;C5〜C15;C6〜C12)、またはそれらの間の任意の繰り返しでもよい。
本発明の合成方法において、非プロトン性溶媒は、標題の反応のグリコール、ハロゲン化アルキル/アルキルスルホネートおよびブレンステッド塩基での共有結合による修飾に不安定な機能性を含有しないので、使用され、したがって、Sn2により推進されるプロセスに干渉しない。さらに、極性非プロトン性溶媒(すなわち、永続する双極モーメントを有するが、水素結合供与体として作用する能力を有さない溶媒)は、本発明のエーテル化反応において好適である。極性非プロトン性溶媒は、グリコールおよびハロゲン化アルキル/アルキルスルホネートを適切に溶解し、これは効率的な反応が起こるための特徴である。その機能は、陰イオン性ブレンステッド塩基のその陽イオンカウンターパートからの荷電分離を行い、不活性化する能力を欠く、ヘキサンまたはベンゼンなどの非極性溶媒とは異なる。また、極性非プロトン性溶媒は、ハロゲン化アルキル/アルキルスルホネートと反応しない傾向にある(スキーム6、エタノール、すなわち望ましくない副生成物を生成し得る極性プロトン性溶媒を参照)。
本発明の合成方法の利点の1つは、比較的穏やかな温度範囲で、かつ一部の他の従来の反応方法よりも過酷ではない条件下で操作され得るという点である。特定のブレンステッド塩基により、反応温度は、約−25℃または−20℃〜約80℃または100℃の間に及ぶ。典型的には、反応温度は、約−12℃または−7℃〜約65℃または70℃、より典型的には、約−10℃または−5℃〜約40℃または50℃の範囲にある。ある特定の実施形態において、好ましい温度は、約−10℃もしくは−8℃〜約25℃もしくは30℃、または約−3℃または0℃〜約32℃または35℃(末端値を含む)の範囲である。好ましくは、反応は、室温以下(例えば、≦約22℃または25℃)で実施され得る。高温でのハロゲン化アルキル/アルキルスルホネートの塩基媒介脱離からオレフィンが生じる可能性または傾向、およびある特定のブレンステッド塩基を使用する場合における潜在的な遅い反応速度論(スキーム7)のために、本発明の選択的エーテル化に対する温度制御は、重要な因子である。(上述したように、FDMおよびbHMTHFの−OH部分のpKaを示す、16未満のpKaを有するブレンステッド塩基は、平衡で反応物を好む傾向にあり、したがって、反応は、副生成物(オレフィン)を形成する危険性が高まるにもかかわらず、エーテル化を推進するために高温(例えば、>25℃、35℃、または40℃)で実施される)。
別の態様において、種々の両親媒性化合物は、出発材料または前駆体材料として、FDMまたはbHMTHFから合成され得る。このような誘導体材料は、界面活性剤、分散剤、可塑剤または他の用途における構成成分において、既存の化合物の代替または新規な化学構成単位として有用であり得る。誘導体両親媒性化合物は、有機合成に利用可能な種々の化学反応により調製され得る。一部の代表的な誘導体化合物の調製について、以下に付随する実施例においてさらに説明される。
a.((2S,5R)−5−((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メチルハイドロジェンスルフェート;
a.((2S,5R)−5−((ドデシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メチルトリフルオロメタンスルホネート;
a.2−(2−((((2S,5R)−5−((ドデシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メチル)アミノ)エトキシ)−エタノール;
a)N−ベンジル−1−(5−((ヒドロキシ)メチル)フラン−2−イル)メタンアミン;
a.((2S,5R)−5−((オクタデシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メタンアミン;
a.((2S,5R)−5−((オクタデシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メタンアミニウムクロリド;
第一級アミンの塩の形態は、カチオン界面活性剤の極性頭部により、分子をより両親媒性にする。
a.(5−((ドデシルオキシ)メチル)フラン−2−イル)メチルハイドロジェンスルフェート
かつ、FDMモノエーテルから得られたトリフルオロメタンスルホネートは、例えば、以下の構造:
a.(5−((ヘキシルオキシ)メチル)フラン−2−イル)メチルトリフルオロメタンスルホネート;
a.2−((2−(((5−((オクタデシルオキシ)メチル)フラン−2−イル)メチル)アミノ)エチル)アミノ)−エタノール
別の実施形態によると、出発材料としてFDMモノエーテルを使用して調製された第一級アミン誘導体は、例えば、以下の(5−((ヘキシルオキシ)メチル)フラン−2−イル)メタンアミン
あるいは、1−(5−((ヘキシルオキシ)メチル)フラン−2−イル)−N,N,N−トリメチルメタンアミニウムヨージド
本発明の合成系は、A)bHMTHFジエーテル;B)bHMTHFモノエーテル;C)bHMTHFモノエーテルの誘導体;D)FDMジエーテル;E)FDMモノエーテル;およびF)FDMモノエーテルの両親媒性誘導体を作製するための以下の例においてさらに説明される。
実施例1:(2R,5S)−2,5−ビス((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフランおよび(2S,5S)−2,5−ビス((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン、Bの合成
実施例4:((2S,5R)−5−((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メタノール、((2S,5S)−5−((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メタノール、および((2S,5S)−5−((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メタノール、Bの合成
実施例7:((2S,5R)−5−((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メチル硫酸カリウムおよびジアステレオマー、Bの合成
実施例10:2,5−ビス((ヘキシルオキシ)メチル)フラン、Bの合成
実施例13:(5−((オクタデシルオキシ)メチル)フラン−2−イル)メタノール、Bの合成
一般に、種々の誘導体種はまた、FDMモノエーテルから作製され、FDM誘導体の調製には、前述の実施例に記載されるように、出発材料として、bHMTHFから誘導体を合成するために使用されるものと同じまたは類似の反応プロトコルが、必要な変更を加えて用いられる。したがって、当業者が理解するように、FDMモノエーテルから誘導体を合成するために、全シリーズの実施例を繰り返すよりむしろ、以下の実施例は、合成におけるある特定の多様性を説明する代替の化合物のものである。これらの様々な実施例における化合物のそれぞれは、誘導体bHMTHFモノエーテルのものと対応することが期待される(例えば、界面活性剤、分散剤、可塑剤などの可能な用途を有する非加水分解性の両親媒物質)。
Claims (44)
- フラン−2,5−ジメタノール(FDM)および2,5−ビス(ヒドロキシメチル)テトラヒドロフラン(bHMTHF)のいずれかの直鎖モノおよびジアルキルエーテルを調製する方法であって、FDMおよびbHMTHFのいずれかを、誘電率(ε)>8を有する極性非プロトン性有機溶媒中、約−25℃〜約100℃の範囲の温度で、a)pKaの差(ΔpKa)が、前記FDMおよびbHMTHFのいずれかのヒドロキシル基のpKaに対して、≧15であるアンヒンダードブレンステッド塩基、および、b)ヒンダードブレンステッド塩基のいずれか、ならびに求核剤、と接触させることを含む方法。
- 前記FDMおよびbHMTHFが、5−(ヒドロキシメチル)フルフラール(HMF)から誘導される還元生成物である、請求項1に記載の方法。
- 前記アンヒンダードブレンステッド塩基が、金属水素化物である、請求項1に記載の方法。
- 前記アンヒンダードブレンステッド塩基は、水素化リチウム、水素化ナトリウム、および水素化カリウムの少なくとも1種である、請求項3に記載の方法。
- 前記アンヒンダードブレンステッド塩基が、有機金属塩基である、請求項1に記載の方法。
- 前記アンヒンダードブレンステッド塩基が、アルキルリチウム、アルキルマグネシウム、およびアルキルクプラート化合物の少なくとも1種である、請求項5に記載の方法。
- 前記アンヒンダードブレンステッド塩基が、金属アミドまたはグリニャール試薬である、請求項1に記載の方法。
- 前記ヒンダードブレンステッド塩基が、ナトリウムt−ブトキシドおよびカリウムt−ブトキシド、ならびにリチウムジイソプロピルアミドの少なくとも1種である、請求項1に記載の方法。
- 前記ヒンダードブレンステッド塩基が、少なくとも16のpKaを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記ヒンダードブレンステッド塩基が、pKa≧20を有する、請求項9に記載の方法。
- 前記極性非プロトン性有機溶媒が、誘電率(ε)≧30を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記極性非プロトン性有機溶媒が、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジメチルアセトアミド(DMA)、N−メチルピロリドン(NMP)、ヘキサメチルホスホルアミド(HMPA)、アセトン、アセトニトリル(ACN)、ニトロメタン、スルホラン、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、および酢酸エチルの少なくとも1種である、請求項1に記載の方法。
- 前記求核剤が、C5〜C25のアルキル鎖長を有するハロゲン化アルキルおよびアルキルスルホネートの少なくとも1種である、請求項1に記載の方法。
- 前記ハロゲン化アルキルまたはアルキルスルホネートが、C8〜C18のアルキル鎖長を有する、請求項13に記載の方法。
- 前記ハロゲン化物が、Cl、Br、およびIの少なくとも1種である、請求項13に記載の方法。
- 前記スルホネートが、−OTf(トリフレート)、−OMs(メシレート)、−OTs(トシレート)、−OBs(ブロシレート)、および−OEs(エシレート)の少なくとも1種である、請求項13に記載の方法。
- 前記温度が、約−10℃〜約70℃の範囲である、請求項1に記載の方法。
- 前記温度が、約−5℃〜約35℃の範囲である、請求項1に記載の方法。
- 前記FDMおよびbHMTHFのモノおよびジエーテルが、C5〜C25の直鎖炭化水素鎖長を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記bHMTHFおよびFDMのモノおよびジエーテルが、C6〜C18の直鎖炭化水素鎖長を有する、請求項19に記載の方法。
- 以下の化合物:
a.((2S,5R)−5−((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メタノール;
- 以下の化合物:
a.(2R,5S)−2,5−ビス((ヘキシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン;
- モノエーテルから誘導体化合物を調製する方法であって、bHMTHFのモノエーテルを、a)クロロスルホン酸と接触させてスルフェートを生成する、またはb)トリフルオロメタンスルホン酸無水物と接触させてトリフルオロメタンスルホネートを生成することを含む、方法。
- 以下の化合物:
a.((2S,5R)−5−((ドデシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メチルトリフルオロメタンスルホネート;
- スルホネート基のエタノールアミンによる置換によりbHMTHFモノエーテルスルホン化合物のエトキシエタノールアミン誘導体を生成することをさらに含む、請求項29に記載の方法。
- トリフルオロメタンスルホネート基の置換、続いて触媒脱ベンジル化により、bHMTHFモノエーテルの第一級アミンを生成することをさらに含む、請求項29に記載の方法。
- トリフルオロメタンスルホネート基の置換、続いて触媒脱ベンジル化およびpKa≦0を有するブレンステッド酸によるプロトン化により、前記bHMTHFモノエーテルの第一級アンモニウム塩を調製することをさらに含む、請求項29に記載の方法。
- 以下の化合物:
a.((2S,5R)−5−((オクタデシルオキシ)メチル)テトラヒドロフラン−2−イル)メタンアミニウムクロリド;
- モノエーテルから誘導体化合物を調製する方法であって、FDMのモノエーテルを、a)クロロスルホン酸と接触させてスルフェートを生成する、または、b)トリフルオロメタンスルホン酸無水物と接触させてトリフルオロメタンスルホネートを生成することを含む、方法。
- トリフルオロメタンスルホネート基の置換、続いて触媒脱ベンジル化およびpKa≦0を有するブレンステッド酸によるプロトン化により、前記FDMモノエーテルの第一級アンモニウム誘導体を調製することをさらに含む、請求項38に記載の方法。
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