JP2017227508A - 光ファイバセンサヘッド、光ファイバセンサヘッドの製造方法、及び光ファイバセンサ - Google Patents

Abstract

【課題】機械的な耐性及び化学的な耐性を高めることのできる光ファイバセンサヘッド、光ファイバセンサヘッドの製造方法、及び光ファイバセンサを提供する。【解決手段】光ファイバセンサヘッド１０は、光ファイバ１１が巻かれて形成されたファイバコイル１２を含むモジュール２０と、光ファイバ１１のモジュール２０から延びる部分Ｐ１を覆う樹脂製のチューブ３０と、を備える。チューブ３０は、不可逆的な収縮性を有する。光ファイバセンサヘッド１０では、光ファイバ１１がモジュール２０から引き出されており、光ファイバ１１のモジュール２０から延びる部分Ｐ１が樹脂製のチューブ３０に被覆されている。【選択図】図２

Description

本発明は、光ファイバセンサヘッド、光ファイバセンサヘッドの製造方法、及び光ファイバセンサに関するものである。

特許文献１には、光ファイバ素線が渦巻き状に巻かれると共に光ファイバ素線の両端が引き出され、光ファイバ素線の両端にフェルールが取り付けられた光ファイバコイルが記載されている。この光ファイバ素線は、光ファイバにポリイミド被覆が施されたものである。光ファイバコイルは光ファイバセンサに搭載されている。光ファイバセンサは、光ファイバコイルが載せられるコイル固定板と、コイル固定板の上に配置されるスペーサと、ケース下蓋及びケース上蓋と、を備える。この光ファイバセンサは、スペーサ及びコイル固定板が、ケース下蓋とケース上蓋との間に挟まれることにより、一体化されている。

特開２００４−１２５８４６号公報

特許文献１に記載された光ファイバセンサでは、ケース下蓋及びケース上蓋の間に開口が設けられており、この開口から２本の光ファイバが引き出されている。２本の光ファイバは、ケース下蓋及びケース上蓋から露出している。従って、ケース下蓋及びケース上蓋と光ファイバとの境界部分において、光ファイバに応力が集中する懸念がある。このように応力が集中することにより、光ファイバセンサの設置時等に光ファイバが破断する可能性がある。よって、光ファイバの機械的な耐性について改善の余地がある。

また、前述の光ファイバセンサでは、光ファイバにポリイミド被覆が施されている。ポリイミドは加水分解しやすいという特性を有する。このため、前述の光ファイバセンサは、水蒸気中、亜臨界水又は超臨界水中において、使用が困難となる懸念がある。このように、前述の光ファイバセンサでは、化学的な耐性について改善の余地がある。

本発明は、機械的な耐性及び化学的な耐性を高めることができる光ファイバセンサヘッド、光ファイバセンサヘッドの製造方法、及び光ファイバセンサを提供することを目的とする。

前述した課題を解決するために、本発明の一側面に係る光ファイバセンサヘッドは、光ファイバが巻かれて形成されたファイバコイルを含むモジュールと、光ファイバのモジュールから延びる部分を被覆する樹脂製のチューブと、を備え、チューブは、不可逆的な収縮性を有する。

本発明の一側面に係る光ファイバセンサヘッドの製造方法は、光ファイバが巻かれて形成されたファイバコイルを含むモジュールを備えた光ファイバセンサヘッドの製造方法であって、光ファイバのモジュールから延びる部分を樹脂製のチューブで被覆する工程と、チューブに対して加熱、電子線照射、及び化学反応の少なくともいずれかを行うことにより、チューブを不可逆的に収縮させる工程と、を備える。

本発明の一側面に係る光ファイバセンサは、前述の光ファイバセンサヘッドが設けられた光干渉計を備える。

本発明によれば、機械的な耐性及び化学的な耐性を高めることができる。

図１は、光ファイバセンサヘッドが設けられた光干渉計を備える光ファイバセンサの一例を示す図である。 図２は、第１実施形態に係る光ファイバセンサヘッドを示す部分断面図である。 図３は、図２の光ファイバセンサヘッドを示す縦断面図である。 図４は、第２実施形態に係る光ファイバセンサヘッドを示す側面図である。 図５は、図４の光ファイバセンサヘッドにおける光ファイバの取り出し部分を拡大させた縦断面図である。

［本発明の実施形態の説明］
最初に、本発明の実施形態の内容を列記して説明する。（１）本発明の一側面に係る光ファイバセンサヘッドは、光ファイバが巻かれて形成されたファイバコイルを含むモジュールと、光ファイバのモジュールから延びる部分を被覆する樹脂製のチューブと、を備え、チューブは、不可逆的な収縮性を有する。

この光ファイバセンサヘッドでは、光ファイバがモジュールから引き出されており、光ファイバのモジュールから延びる部分が樹脂製のチューブに被覆されている。従って、モジュールと光ファイバとの境目部分がチューブに被覆されているので、当該境目部分に応力を集中させにくくすることができる。よって、この光ファイバセンサヘッドでは、機械的な耐性を高めることができる。また、モジュールから延びる光ファイバは、不可逆的な収縮性を有するチューブに被覆されている。よって、このチューブにより光ファイバを化学的に保護することができる。従って、この光ファイバセンサヘッドでは、化学的な耐性を高めることができる。

（２）前述の光ファイバセンサヘッドでは、チューブは、加熱、電子線照射、及び化学反応の少なくともいずれかによって収縮してもよい。この場合、加熱、電子線照射、及び化学反応の少なくともいずれかによってチューブを不可逆的に収縮させることができる。従って、光ファイバを保護する構造を簡便に形成することができる。

（３）前述の光ファイバセンサヘッドでは、チューブは、更にモジュールを被覆していてもよい。この場合、モジュールそのものの機械的耐性及び化学的耐性を高めることができる。

（４）前述の光ファイバセンサヘッドでは、モジュールを被覆する被覆部材を更に備えてもよい。この場合、モジュールが被覆部材に被覆されるので、モジュールの機械的耐性及び化学的耐性を高めることができる。

（５）前述の光ファイバセンサヘッドでは、チューブは、四フッ化エチレン、又は四フッ化エチレンの重合体を含む材料によって構成されていてもよい。四フッ化エチレンは、酸及びアルカリに対して高い耐性を有すると共に、亜臨界水又は超臨界水にも耐えうる性質を有しており、高い化学的安定性を備える。よって、四フッ化エチレンで構成されたチューブで光ファイバを被覆することにより、光ファイバの化学的耐性を一層高めることができる。

（６）本発明の一側面に係る光ファイバセンサヘッドの製造方法は、光ファイバが巻かれて形成されたファイバコイルを含むモジュールを備えた光ファイバセンサヘッドの製造方法であって、光ファイバのモジュールから延びる部分を樹脂製のチューブで被覆する工程と、チューブに対して加熱、電子線照射、及び化学反応の少なくともいずれかを行うことにより、チューブを不可逆的に収縮させる工程と、を備える。

この光ファイバセンサヘッドの製造方法では、光ファイバのモジュールから延びる部分が樹脂製のチューブによって被覆される。従って、モジュールと光ファイバとの境目部分がチューブに被覆されるので、当該境目部分に応力を集中させにくくすることができる。よって、機械的な耐性を高めた光ファイバセンサヘッドを製造することができる。また、光ファイバは不可逆的な収縮性を有するチューブに被覆されるので、このチューブにより光ファイバを化学的に保護することができる。従って、化学的な耐性を高めた光ファイバセンサヘッドを製造することができる。

（７）本発明の一側面に係る光ファイバセンサは、前述の光ファイバセンサヘッドが設けられた光干渉計を備える。この光ファイバセンサは、前述の光ファイバセンサヘッドを備えているので、機械的耐性及び化学的耐性を高めることができる。

［本発明の実施形態の詳細］
本発明の実施形態に係る光ファイバセンサヘッド、光ファイバセンサヘッドの製造方法、及び光ファイバセンサの具体例を図面を参照しつつ説明する。なお、本発明は、以下の例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。以下の説明では、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。

（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る光ファイバセンサヘッド１０を有する光干渉計１を備えた光ファイバセンサＳの一例を示す図である。光干渉計１及び光ファイバセンサＳの構成は、図１に示される例に限られず適宜変更可能である。光干渉計１は、光源２と、第１カプラ３と、第１光経路４と、第２光経路５と、第２カプラ６と、光検出器７と、光ファイバセンサヘッド１０とを備えている。

光源２は、第１カプラ３と光学的に接続されている。光源２はパルス光である測定光Ｌ１を出力し、測定光Ｌ１は第１カプラ３に入力される。第１カプラ３は、測定光Ｌ１を、パルス光である測定光Ｌ２とパルス光である参照光Ｌ３とに分岐して出力する。第１カプラ３には、第１光経路４の一端が接続されており、第１光経路４の他端には第２カプラ６が接続されている。また、第１カプラ３には、第２光経路５の一端が接続されており、第２光経路５の他端には第２カプラ６が接続されている。

第１光経路４は測定光Ｌ２を導波させる。第１光経路４の途中には第１遅延線８及び光ファイバセンサヘッド１０が設けられている。第２光経路５は参照光Ｌ３を導波させる。第２光経路５の途中には、光ファイバセンサヘッド１０及び第２遅延線９が設けられている。例えば、第１光経路４及び第２光経路５は、共に、光ファイバであり、第１光経路４における光学長は第２光経路５における光学長と等しい。また、第１光経路４の材料と第２光経路５の材料とは互いに同一である。

第１遅延線８は、光ファイバセンサヘッド１０の入力端側に配置されている。第１遅延線８は、第１光経路４に入力された測定光Ｌ２に遅延を付与する。遅延が付与された測定光Ｌ２は、光ファイバセンサヘッド１０を通って第２カプラ６に出力される。第２遅延線９は、光ファイバセンサヘッド１０の出力端側に配置されている。第２遅延線９は、第２光経路５に入力されて光ファイバセンサヘッド１０を通った参照光Ｌ３に遅延を付与する。遅延が付与された参照光Ｌ３は第２カプラ６に出力される。第１遅延線８によって付与される遅延時間と、第２遅延線９によって付与される遅延時間とは互いに等しい。

光ファイバセンサヘッド１０において、第１光経路４及び第２光経路５は螺旋状に巻き付けられている。光ファイバセンサヘッド１０には、外部から振動等を受けることによって応力が加えられる。この応力は音響波として光ファイバセンサヘッド１０上を伝搬する。光ファイバセンサヘッド１０の構成は後に詳述する。

第２カプラ６は第１光経路４及び第２光経路５を結合する。第２カプラ６は、第１光経路４を通った測定光Ｌ２と第２光経路５を通った参照光Ｌ３とを結合させる。第２カプラ６は光検出器７と光学的に接続されており、第２カプラ６によって結合された光は光検出器７に出力される。

光検出器７は、第２カプラ６によって結合された光に基づいて測定光Ｌ２及び参照光Ｌ３の変調を検出する。光検出器７には測定光Ｌ２と参照光Ｌ３との干渉光が入力される。光検出器７は、例えば上記の干渉光を検出してホモダイン検波を行う。光ファイバセンサヘッド１０に応力が生じていない状態では、第１遅延線８によって遅延が付与された測定光Ｌ２と、第２遅延線９によって遅延が付与された参照光Ｌ３とが同時に第２カプラ６に入力される。

一方、光ファイバセンサヘッド１０に応力が生じると、この応力によって光ファイバセンサヘッド１０における測定光Ｌ２及び参照光Ｌ３に位相変調が生じる。そして、測定光Ｌ２及び参照光Ｌ３のうち、参照光Ｌ３のみが第２遅延線９を通る。従って、第２カプラ６に入力される測定光Ｌ２と参照光Ｌ３とでは位相差が生じる。この位相差を光検出器７が検出することによって、光ファイバセンサＳは、光ファイバセンサヘッド１０に応力が加えられたことを検出する。

次に、光ファイバセンサヘッド１０の構成について図２及び図３を参照しながら具体的に説明する。図２は後述する第２チューブ３２のみを切断した部分断面図であり、図３は光ファイバセンサヘッド１０の縦断面図である。光ファイバセンサヘッド１０は、前述した第１光経路４又は第２光経路５を構成する光ファイバ１１が巻かれて形成されたファイバコイル１２を含むモジュール２０と、樹脂製のチューブ３０とを備えている。ファイバコイル１２は、光ファイバ１１のうち、螺旋状に巻かれた部分を示している。光ファイバ１１は、例えば、ポリイミド被覆ファイバであり、これにより耐熱性を有する光ファイバセンサヘッド１０とされている。

モジュール２０は、ファイバコイル１２と、ファイバコイル１２が巻き付けられたコイル芯２１とを含んでいる。コイル芯２１は、例えば円柱状とされている。コイル芯２１は、その軸線方向（図２及び図３の上下方向）の一方側に位置する第１拡径部２１ａと、当該軸線方向の他方側に位置する第２拡径部２１ｂとを有する。第１拡径部２１ａと第２拡径部２１ｂの間の部分にファイバコイル１２が巻き付けられている。なお、コイル芯２１は、その形状及び大きさを適宜変更可能である。また、別の手段でファイバコイル１２を保持することができる場合には、コイル芯２１を省略することも可能である。

チューブ３０は、不可逆的な収縮性を有する樹脂チューブである。チューブ３０は、加熱、電子線照射、及び化学反応のいずれかによって不可逆的に収縮する。本実施形態において、チューブ３０は、例えば熱収縮チューブである。チューブ３０は、四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ：Poly Tetra Fluoro Ethylene）、又は四フッ化エチレン樹脂の重合体、を含む材料によって構成されている。

チューブ３０は、少なくとも光ファイバ１１のモジュール２０から延びる部分Ｐ１を被覆する第１チューブ３１と、モジュール２０を被覆する第２チューブ３２とを含んでいる。本実施形態において、光ファイバ１１のモジュール２０から延びる部分Ｐ１とは、ファイバコイル１２の軸線方向の端部に位置する光ファイバ１１、すなわち、コイル芯２１の第１拡径部２１ａに位置する光ファイバ１１、を含んでいる。

本実施形態において、第１チューブ３１は、モジュール２０の内外に位置する光ファイバ１１を被覆している。具体的には、第１チューブ３１は、前述した部分Ｐ１に位置する光ファイバ１１と、ファイバコイル１２から延び出すと共にモジュール２０の内部に位置する部分Ｐ２に位置する光ファイバ１１とを被覆している。

第２チューブ３２は、第１チューブ３１を外側から覆うと共に、モジュール２０を被覆する。また、第２チューブ３２は、例えば、モジュール２０の側面（軸線方向に延在する面）を覆っている。具体的には、第２チューブ３２は、コイル芯２１に巻き付けられたファイバコイル１２と、第１拡径部２１ａの側面と、第２拡径部２１ｂの側面とを覆っている。

次に、光ファイバセンサヘッド１０の製造方法について説明する。まず、光ファイバ１１をコイル芯２１に巻き付けてファイバコイル１２を形成する（ファイバコイルを形成する工程）。このとき、光ファイバ１１の一端及び他端をファイバコイル１２から引き出しておく。

続いて、ファイバコイル１２から引き出された光ファイバ１１のうち、モジュール２０から延びる部分Ｐ１及びモジュール２０の内側の部分Ｐ２に位置する光ファイバ１１を第１チューブ３１によって被覆する（光ファイバをチューブによって被覆する工程）。そして、第１チューブ３１に熱処理を施して第１チューブ３１を不可逆的に収縮させる（チューブを不可逆的に収縮させる工程）。その後、モジュール２０の側面を第２チューブ３２によって被覆し、第２チューブ３２に熱処理を施して第２チューブ３２を収縮させることにより光ファイバセンサヘッド１０が完成する。

次に、光ファイバセンサヘッド１０、光ファイバセンサヘッド１０の製造方法、及び光ファイバセンサＳから得られる効果について説明する。

光ファイバセンサヘッド１０、光ファイバセンサヘッド１０の製造方法、及び光ファイバセンサＳでは、光ファイバ１１がモジュール２０から引き出されており、光ファイバ１１のモジュール２０から延びる部分Ｐ１がチューブ３０に被覆されている。従って、モジュール２０と光ファイバ１１との境目部分がチューブ３０に被覆されているので、当該境目部分に応力を集中させにくくすることができる。

具体的には、光ファイバ１１とチューブ３０とが密着する場合であって光ファイバ１１の外径が０．１６ｍｍ、チューブ３０の外径が２．００ｍｍであるときには、チューブ３０で被覆された光ファイバ１１に加わる応力は、被覆されていない光ファイバ１１に加わる応力の１／８０となる。なお、光ファイバ１１とチューブ３０とが密着しない場合、光ファイバ１１には実質的に応力は加わらない。

よって、光ファイバセンサヘッド１０では、機械的な耐性を高めることができる。また、モジュール２０から延びる光ファイバ１１は不可逆的な収縮性を有するチューブ３０に被覆されている。従って、チューブ３０により光ファイバ１１を化学的に保護することができるので、光ファイバセンサヘッド１０では化学的な耐性を高めることができる。

光ファイバセンサヘッド１０では、チューブ３０は、加熱、電子線照射、及び化学反応の少なくともいずれかによって収縮する。よって、加熱、電子線照射、及び化学反応の少なくともいずれかによってチューブ３０を不可逆的に収縮させることができる。従って、光ファイバ１１を保護する構造を簡便に形成することができる。

光ファイバセンサヘッド１０では、チューブ３０（第２チューブ３２）は、モジュール２０を被覆している。従って、モジュール２０そのものの機械的耐性及び化学的耐性を高めることができる。

光ファイバセンサヘッド１０では、チューブ３０は、四フッ化エチレン、又は四フッ化エチレンの重合体を含む材料によって構成されている。四フッ化エチレンは、酸及びアルカリに対して高い耐性を有すると共に、亜臨界水又は超臨界水にも耐えうる性質を有しており、高い化学的安定性を備える。よって、四フッ化エチレンで構成されたチューブ３０で光ファイバ１１及びモジュール２０を被覆することにより、光ファイバ１１及びモジュール２０の化学的耐性を一層高めることができる。

また、前述したように、チューブ３０がＰＴＦＥで構成されている場合、ＰＴＦＥは２６０℃以下で高い化学的耐性を有するので、実使用時の高温状態に耐えうる光ファイバセンサヘッド１０とすることができる。更に、チューブ３０がＰＴＦＥで構成されている場合、ＰＴＦＥは、４００℃であって２０ＭＰａとされた超臨界水に対しても耐性を発揮するため、光ファイバセンサヘッド１０は、発電機及び化学プラントにおいて高圧水蒸気、亜臨界水又は超臨界水が通る配管のモニタリングにも適用することができる。

（第２実施形態）
次に、第２実施形態に係る光ファイバセンサヘッド４０について、図４及び図５を参照しながら説明する。光ファイバセンサヘッド４０は、第１実施形態のモジュール２０及びチューブ３０とは異なる構成のモジュール５０及びチューブ６０を備えている。更に、光ファイバセンサヘッド４０は、モジュール５０を被覆する被覆部材７０を備えている。以下では、第１実施形態と重複する説明を省略する。

モジュール５０は、ファイバコイル１２と、ファイバコイル１２が巻き付けられるコイル芯５１とを備える。コイル芯５１は第１拡径部２１ａ及び第２拡径部２１ｂを有しており、第１拡径部２１ａには、第１拡径部２１ａからコイル芯５１の軸線方向外側に突出する突出部５２が設けられている。突出部５２には、当該軸線方向に貫通する貫通孔５２ａが形成されており、この貫通孔５２ａには光ファイバ１１を被覆した第１チューブ３１が挿通されている。

チューブ６０は、前述した第１チューブ３１と、第１チューブ３１及び突出部５２を被覆する第３チューブ６１とを含んでいる。すなわち、第２実施形態では、光ファイバ１１のモジュール５０から延びる部分Ｐ１を二重のチューブ３１，６１によって被覆している。第３チューブ６１は、第１チューブ３１及び第２チューブ３２と同様、不可逆的な収縮性を有する樹脂チューブであり、加熱、電子線照射、及び化学反応のいずれかによって収縮する。第３チューブ６１は例えば熱収縮チューブである。第３チューブ６１は、モジュール５０の一部を被覆する。具体的には、第３チューブ６１は、第１拡径部２１ａから突出部５２よりも離れた位置にまで延びており、突出部５２と、突出部５２から更に突出する第１チューブ３１と、を被覆している。

被覆部材７０は、第１実施形態の第２チューブ３２に代えて設けられている。被覆部材７０は、例えば、モジュール５０を収容するケースである。被覆部材７０の材料は、例えば金属又はガラスとすることができる。被覆部材７０は、少なくとも、ファイバコイル１２と、第１拡径部２１ａの側面と、第２拡径部２１ｂの側面とを覆っている。被覆部材７０は、例えば箱状であるが、被覆部材７０の形状、大きさ及び材料は適宜変更可能である。

次に、光ファイバセンサヘッド４０の製造方法について説明する。ファイバコイル１２を形成する工程、モジュール５０から延びる部分Ｐ１及びモジュール２０の内側の部分Ｐ２に位置する光ファイバ１１を第１チューブ３１によって被覆する工程、及び、第１チューブ３１を収縮させる工程は、第１実施形態と同様である。

第１チューブ３１を収縮させた後には、被覆部材７０にモジュール５０を収容してモジュール５０の側面を被覆部材７０で被覆する（被覆部材で被覆する工程）。また、突出部５２、及び突出部５２の上方に位置する第１チューブ３１を第３チューブ６１で被覆し、第３チューブ６１に熱処理を施して第３チューブ６１を収縮させる。そして、光ファイバセンサヘッド４０が完成する。

以上、第２実施形態に係る光ファイバセンサヘッド４０、及び光ファイバセンサヘッド４０の製造方法では、光ファイバ１１がモジュール５０から引き出されており、光ファイバ１１のモジュール５０から延びる部分Ｐ１がチューブ６０に被覆されている。従って、第１実施形態と同様の効果が得られる。

また、光ファイバセンサヘッド４０では、モジュール５０を被覆する被覆部材７０を備えている。従って、モジュール５０が被覆部材７０に被覆されるので、モジュール５０の機械的耐性及び化学的耐性を高めることができる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、前述の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変形が可能である。例えば、前述の第２実施形態では、第１実施形態の第２チューブ３２に代えて被覆部材７０が設けられる例について説明した。しかしながら、第２チューブ３２と共に被覆部材７０が設けられていてもよい。また、第１実施形態の第１拡径部２１ａに、突出部５２及び第３チューブ６１が設けられていてもよい。

１…光干渉計、２…光源、３…第１カプラ、４…第１光経路、５…第２光経路、６…第２カプラ、７…光検出器、８…第１遅延線、９…第２遅延線、１０，４０…光ファイバセンサヘッド、１１…光ファイバ、１２…ファイバコイル、２０，５０…モジュール、２１，５１…コイル芯、２１ａ…第１拡径部、２１ｂ…第２拡径部、３０，６０…チューブ、３１…第１チューブ、３２…第２チューブ、５２…突出部、５２ａ…貫通孔、６１…第３チューブ、７０…被覆部材、Ｌ１…測定光、Ｌ２…測定光、Ｌ３…参照光、Ｐ１，Ｐ２…部分、Ｓ…光ファイバセンサ。

Claims (7)

1. 光ファイバが巻かれて形成されたファイバコイルを含むモジュールと、
   前記光ファイバの前記モジュールから延びる部分を被覆する樹脂製のチューブと、
   を備え、
   前記チューブは、不可逆的な収縮性を有する、
   光ファイバセンサヘッド。
2. 前記チューブは、加熱、電子線照射、及び化学反応の少なくともいずれかによって収縮する、
   請求項１に記載の光ファイバセンサヘッド。
3. 前記チューブは、更に前記モジュールを被覆している、
   請求項１又は２に記載の光ファイバセンサヘッド。
4. 前記モジュールを被覆する被覆部材を更に備える、
   請求項１又は２に記載の光ファイバセンサヘッド。
5. 前記チューブは、四フッ化エチレン、又は四フッ化エチレンの重合体を含む材料によって構成されている、
   請求項１〜４のいずれか一項に記載の光ファイバセンサヘッド。
6. 光ファイバが巻かれて形成されたファイバコイルを含むモジュールを備えた光ファイバセンサヘッドの製造方法であって、
   前記光ファイバの前記モジュールから延びる部分を樹脂製のチューブで被覆する工程と、
   前記チューブに対して加熱、電子線照射、及び化学反応の少なくともいずれかを行うことにより、前記チューブを不可逆的に収縮させる工程と、
   を備える光ファイバセンサヘッドの製造方法。
7. 請求項１〜５のいずれか一項に記載の光ファイバセンサヘッドが設けられた光干渉計を備える光ファイバセンサ。

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