JP2017218340A - ハイドレート製造装置、および、ハイドレート製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 43
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 128
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 95
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 94
- YNHBOQSCVCFXRW-UHFFFAOYSA-N ozone;hydrate Chemical compound O.[O-][O+]=O YNHBOQSCVCFXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 71
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims abstract description 65
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims abstract description 65
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 51
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 41
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 168
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 107
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 105
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 description 57
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 53
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 53
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 45
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 45
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 42
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 38
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 11
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 6
- NMJORVOYSJLJGU-UHFFFAOYSA-N methane clathrate Chemical compound C.C.C.C.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O NMJORVOYSJLJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 2
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- VTVVPPOHYJJIJR-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;hydrate Chemical compound O.O=C=O VTVVPPOHYJJIJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;molecular oxygen Chemical compound O=O.O=C=O UBAZGMLMVVQSCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000414 obstructive effect Effects 0.000 description 1
- -1 ozone hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
Description
図1は、ハイドレート製造装置100の概略的な構成を説明するための図である。図1に示すように、ハイドレート製造装置100は、酸素供給源110と、オゾナイザ112と、圧縮ユニット120と、二酸化炭素供給源130と、原料水冷却部140と、気液混合部150と、分離部160と、循環水供給部170と、ハイドレートポンプ180と、ハイドレート冷却部182と、貯蔵部184と、補給水供給部190と、第1回収ユニット200と、第2回収ユニット210と、中央制御部220と、デオゾナイザ230とを含んで構成される。なお、本実施形態において、ハイドレート製造装置100が、ガスハイドレートとしてオゾンハイドレートを製造する構成を例に挙げて説明する。
続いて、ハイドレート製造装置100を用いたハイドレート製造方法について説明する。図5は、ハイドレート製造方法の処理の流れを説明するためのフローチャートである。ここでは、ハイドレート製造方法における各工程がバッチ処理で遂行される構成について説明するが、当該各工程が連続処理で遂行されるとしてもよい。なお、バルブ180aは開弁されているものとする。
図6は、第1回収工程S170の処理の流れを説明するためのフローチャートである。図6に示すように、第1吸着塔310において、第1吸着工程S210と、第1脱着(再生)工程S220とを交互に一定時間ごとに繰り返す一定時間切替制御が為される。なお、初期状態において、中央制御部220は、未反応ガス供給部312a、312b、残渣ガス排出部314a、314b、ゲスト物質脱着部316a、316bを閉弁しておく。ここで、一定時間切替制御は、予め設計された吸着物質量から算出された必要吸着剤量が飽和に到達する時間に基づいて決定された時間で、各弁を所定時間間隔で開閉操作する制御である。
図9は、第2回収工程S180の処理の流れを説明するためのフローチャートである。図9に示すように、第2吸着塔350において、第2吸着工程S310と、第2脱着(再生)工程S320とを交互に一定時間ごとに繰り返す一定時間切替制御が為される。なお、初期状態において、中央制御部220は、残渣ガス供給部352a、352b、排気ガス排出部354a、354b、促進物質脱着部356a、356bを閉弁しておく。
112 オゾナイザ(ゲスト物質生成部)
122a 第1ガス冷却部(ガス冷却部)
122b 第2ガス冷却部(ガス冷却部)
122c 第3ガス冷却部(ガス冷却部)
124a 第1圧縮部(圧縮部)
124b 第2圧縮部(圧縮部)
124c 第3圧縮部(圧縮部)
140 原料水冷却部
150 気液混合部
160 分離部
200 第1回収ユニット
210 第2回収ユニット(第3回収ユニット)
310 第1吸着塔
312 未反応ガス供給部
314 残渣ガス排出部
316 ゲスト物質脱着部
350 第2吸着塔(第3吸着塔)
352 残渣ガス供給部(第2残渣ガス供給部、第3残渣ガス供給部)
354 排気ガス排出部(第2排気ガス排出部、第3排気ガス排出部)
356 促進物質脱着部(前駆体脱着部)
Claims (2)
- オゾンハイドレートを製造するハイドレート製造装置であって、
オゾンを冷却するガス冷却部と、
前記ガス冷却部によって冷却されたオゾンを圧縮して、所定の圧力まで昇圧する圧縮部と、
原料水を冷却する原料水冷却部と、
冷却された前記原料水と、圧縮された前記オゾンとを混合する気液混合部と、
を備え、
前記ガス冷却部は、前記圧縮部による圧縮後のオゾンの温度が−10℃以下となる温度まで該オゾンを冷却することを特徴とするハイドレート製造装置。 - オゾンハイドレートを製造するハイドレート製造方法であって、
オゾンを冷却する工程と、
冷却されたオゾンを圧縮して、所定の圧力まで昇圧する工程と、
原料水を冷却する工程と、
冷却された前記原料水と、圧縮された前記オゾンとを混合して、オゾンハイドレートを生成する工程と、
を含み、
前記オゾンを冷却する工程では、前記昇圧する工程を遂行することによる圧縮後のオゾンの温度が−10℃以下となる温度まで該オゾンを冷却することを特徴とするハイドレート製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016112697A JP2017218340A (ja) | 2016-06-06 | 2016-06-06 | ハイドレート製造装置、および、ハイドレート製造方法 |
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JP2017218340A true JP2017218340A (ja) | 2017-12-14 |
Family
ID=60657393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016112697A Pending JP2017218340A (ja) | 2016-06-06 | 2016-06-06 | ハイドレート製造装置、および、ハイドレート製造方法 |
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002338210A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-27 | Toshiba Corp | オゾン供給システム |
JP2005320438A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Jfe Engineering Kk | ガスクラスレート製造方法及び装置 |
JP2012000578A (ja) * | 2010-06-18 | 2012-01-05 | Sharp Corp | 高濃度オゾン水の製造方法及び高濃度オゾン水の製造装置 |
JP2012240901A (ja) * | 2011-05-24 | 2012-12-10 | Ihi Plant Construction Co Ltd | オゾン含有ハイドレートの製造方法及びその装置並びにオゾン含有ハイドレート |
JP2014188405A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 二酸化炭素分離装置及び二酸化炭素分離方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002338210A (ja) * | 2001-05-15 | 2002-11-27 | Toshiba Corp | オゾン供給システム |
JP2005320438A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Jfe Engineering Kk | ガスクラスレート製造方法及び装置 |
JP2012000578A (ja) * | 2010-06-18 | 2012-01-05 | Sharp Corp | 高濃度オゾン水の製造方法及び高濃度オゾン水の製造装置 |
JP2012240901A (ja) * | 2011-05-24 | 2012-12-10 | Ihi Plant Construction Co Ltd | オゾン含有ハイドレートの製造方法及びその装置並びにオゾン含有ハイドレート |
JP2014188405A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 二酸化炭素分離装置及び二酸化炭素分離方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020132473A (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 株式会社Ihiプラント | ハイドレート製造装置、および、ハイドレート製造方法 |
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