JP2017203161A - 化合物、これを含む色材組成物及びこれを含む樹脂組成物{compound、colorant composition comprising the same and resin composition comprising the same} - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下式で表されるフェニルアミン構造、アンモニウム塩構造を含み、架橋性基を有する化合物をバインダー樹脂の存在下で、多官能アクリルモノマーと重合してなる色材組成物をカラーフィルターとして使用。
【選択図】図1
Description
[化1]
Aは、下記化学式A−1又はA−2で表され、
[化A−1]
R7からR22は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;ヒドロキシ基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R及びR''は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアリーレン基であり、
R'及びR'''は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;又は置換もしくは非置換のアリール基であり、
Z−は、アニオン性基であり、
[化a]
Qは、−R101C(=O)R102−;−R103OC(=O)R104−;−R105C(=O)OR106−;−R107OC(=O)OR108−;
Xは、ヒドロキシ基;アミン基;−OCOOR118;−CONR119R120;又は−NR121COOR122であり、
Tは、置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R101からR109、R111、R112及びR114からR117は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のシクロアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアルケニレン基であり、
R110、R113及びR118からR122は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
p及びqは、それぞれ1から4の整数であり、
2≦p+q≦5であり、
p及びqがそれぞれ2以上である場合、2以上の括弧内の構造は、互いに同一であるか異なっており、
*は、化学式1のNに連結される部位であり、
[化1−1]
R1からR4、R7からR14及びZ−の定義は、上記化学式1と同じであり、
R5、R6、R15からR22の定義は、上記化学式A−1及びA−2と同じである。
[化2]
上記R201からR203は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R204からR207は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;O;NR208;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のシクロアルキレン基であり、
R208は、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
r、s、t及びuは、それぞれ1又は2であり、
上記r、s、t及びuが、それぞれ2である場合、2つの括弧内の構造は、同一であるか異なっている。
比較例1
次のような組成で感光性青色樹脂組成物を製造した。
青色染料化合物として比較例の化合物1の代わりに化合物M−1を使用したことを除いては、比較例1と同じ組成で青色樹脂組成物を製造した。
青色染料化合物として比較例の化合物1の代わりに化合物N−1を使用したことを除いては、比較例1と同じ組成で青色樹脂組成物を製造した。
青色染料化合物として比較例の化合物1の代わりに化合物Q−1を使用したことを除いては、比較例1と同じ組成で青色樹脂組成物を製造した。
上記感光性樹脂組成物をガラス(5cm×5cm)上にスピンコート(spincoating)し、100℃で100秒間プリベーク(pre−bake)を実施して、フィルムを形成させた。フィルムを形成させた基板全面に露光機を用いて40mJ/cm2の露光量で照射した。
上記方法で基板を作製して1cm×5cmに切り出した後、N−methyl−2−pyrrolidone溶媒16gに1cm×5cmに切り出した基板2片を浸漬させた後、30℃のコンベクションオーブンで40分間さらにベーク(Baking)を行った。基板片を取り出した溶媒の吸光度を測定して、下記表1及び図1に示す。
Claims (11)
- 下記化学式1で表される化合物:
[化1]
Aは、下記化学式A−1又はA−2で表され、
[化A−1]
R7からR22は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;ハロゲン;ヒドロキシ基;置換もしくは非置換のアルコキシ基;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R及びR''は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアリーレン基であり、
R'及びR'''は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;置換もしくは非置換のアルキル基;置換もしくは非置換のアルケニル基;又は置換もしくは非置換のアリール基であり、
Z−は、アニオン性基であり、
[化a]
Qは、−R101C(=O)R102−;−R103OC(=O)R104−;−R105C(=O)OR106−;−R107OC(=O)OR108−;
Xは、ヒドロキシ基;アミン基;−OCOOR118;−CONR119R120;又は−NR121COOR122であり、
Tは、置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R101からR109、R111、R112及びR114からR117は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;置換もしくは非置換のアルキレン基;置換もしくは非置換のシクロアルキレン基;又は置換もしくは非置換のアルケニレン基であり、
R110、R113及びR118からR122は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
p及びqは、それぞれ1から4の整数であり、
2≦p+q≦5であり、
p及びqがそれぞれ2以上である場合、2以上の括弧内の構造は、互いに同一であるか異なっており、
*は、化学式1のNに連結される部位であり、
- 前記架橋性基は、下記化学式2から5のうちいずれか一つで表される構造のものである請求項1に記載の化合物:
[化2]
前記R201からR203は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
R204からR207は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合;−O−;−N(R208)−;置換もしくは非置換のアルキレン基;又は置換もしくは非置換のシクロアルキレン基であり、
R208は、水素;又は置換もしくは非置換のアルキル基であり、
r、s、t及びuは、それぞれ1又は2であり、
前記r、s、t及びuが、それぞれ2である場合、2つの括弧内の構造は、同一であるか異なっている。 - 前記Xは、Tが化学式aのフェニル基の結合された位置に対してオルト(ortho)位に結合されるものである請求項1に記載の化合物。
- Z−は、ハロゲン化炭化水素基を含むスルホンイミド酸;スルホン酸を含むアニオン;ハロゲン;ホウ素;アルミニウムを含むアニオン;又はタングステン、モリブデン、ケイ素、及びリンからなる群より選択される1以上の元素及び酸素を含むアニオンである請求項1に記載の化合物。
- 前記化学式1は、下記化合物の中から選択されるものである請求項1に記載の化合物:
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の化合物を含む色材組成物。
- 染料及び顔料のうち少なくとも1種をさらに含む請求項6に記載の色材組成物。
- 前記染料は、キサンテン染料、シアニン染料及びアザポルフィリン染料の中から選択される1以上の染料であり、
前記顔料は、青色顔料又は紫色顔料である請求項7に記載の色材組成物。 - 請求項1に記載の化学式1で表される化合物;バインダー樹脂;多官能性モノマー;光開始剤;酸化防止剤;及び溶媒を含む樹脂組成物。
- 請求項9に記載の樹脂組成物を含むカラーフィルター。
- 請求項10に記載のカラーフィルターを含むディスプレイ装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015038603A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-26 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性樹脂組成物 |
WO2019216266A1 (ja) * | 2018-05-08 | 2019-11-14 | 株式会社Adeka | 化合物、潜在性添加剤、組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び組成物の製造方法 |
CN111032637A (zh) * | 2018-06-22 | 2020-04-17 | 株式会社Lg化学 | 化合物、聚合物、色料组合物、树脂组合物、滤色器和显示装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113703284A (zh) * | 2020-05-21 | 2021-11-26 | 新应材股份有限公司 | 树脂组合物、光转换层以及光发射装置 |
CN115850099A (zh) * | 2022-12-19 | 2023-03-28 | 浙江工业大学 | 一种具有双二芳基甲酮结构的光引发剂及其合成方法和应用 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013010814A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Toppan Printing Co Ltd | 重合性二重結合を持つトリアリールメタン染料、トリアリールメタン染料を側鎖に持つ高分子化合物、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機el表示装置 |
JP2015189874A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 |
JP2015199912A (ja) * | 2014-04-02 | 2015-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および液晶表示装置 |
WO2016002939A1 (ja) * | 2014-07-04 | 2016-01-07 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、染色又は捺染用着色組成物、インクジェット用インク、布帛を捺染する方法、及び染色又は捺染された布帛 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010009058A (ko) | 1999-07-07 | 2001-02-05 | 성재갑 | 감광성 수지 조성물 |
EP1660591B1 (de) * | 2003-08-21 | 2010-10-27 | Merck Patent GmbH | Kationische fluoralkylphosphat farbstoffe |
KR20120014111A (ko) * | 2009-04-24 | 2012-02-16 | 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 | 신규한 트리아릴메탄 화합물 |
KR101380942B1 (ko) | 2012-05-23 | 2014-04-01 | (주)경인양행 | 트리아릴메탄 청색 염료 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 청색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
JP6518195B2 (ja) * | 2013-12-05 | 2019-05-22 | 株式会社Adeka | 新規化合物及び該化合物を含有する組成物 |
KR101568318B1 (ko) * | 2014-02-06 | 2015-11-12 | (주)경인양행 | 염료 고분자 화합물, 이를 포함하는 컬러필터용 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
CN104016876B (zh) * | 2014-05-26 | 2016-07-06 | 北京航空航天大学 | 一种具有电致变色性能的苯胺齐聚物衍生物及其制备方法 |
KR101662745B1 (ko) * | 2014-06-13 | 2016-10-06 | (주)경인양행 | 염료 화합물 및 이를 포함하는 컬러필터용 수지 조성물 |
KR102064631B1 (ko) * | 2015-06-30 | 2020-01-09 | 주식회사 엘지화학 | 아민계 화합물, 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물 |
-
2016
- 2016-05-10 KR KR1020160057064A patent/KR102120518B1/ko active IP Right Grant
-
2017
- 2017-04-25 TW TW106113674A patent/TWI628239B/zh active
- 2017-05-09 JP JP2017093431A patent/JP6562470B2/ja active Active
- 2017-05-09 CN CN201710320890.8A patent/CN107434773B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013010814A (ja) * | 2011-06-28 | 2013-01-17 | Toppan Printing Co Ltd | 重合性二重結合を持つトリアリールメタン染料、トリアリールメタン染料を側鎖に持つ高分子化合物、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機el表示装置 |
JP2015189874A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 |
JP2015199912A (ja) * | 2014-04-02 | 2015-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および液晶表示装置 |
WO2016002939A1 (ja) * | 2014-07-04 | 2016-01-07 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、染色又は捺染用着色組成物、インクジェット用インク、布帛を捺染する方法、及び染色又は捺染された布帛 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015038603A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-26 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性樹脂組成物 |
WO2019216266A1 (ja) * | 2018-05-08 | 2019-11-14 | 株式会社Adeka | 化合物、潜在性添加剤、組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び組成物の製造方法 |
CN111936532A (zh) * | 2018-05-08 | 2020-11-13 | 株式会社艾迪科 | 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法 |
JPWO2019216266A1 (ja) * | 2018-05-08 | 2021-06-17 | 株式会社Adeka | 化合物、潜在性添加剤、組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び組成物の製造方法 |
CN111936532B (zh) * | 2018-05-08 | 2024-03-12 | 株式会社艾迪科 | 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法 |
JP7469224B2 (ja) | 2018-05-08 | 2024-04-16 | 株式会社Adeka | 化合物、潜在性添加剤、組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び組成物の製造方法 |
CN111032637A (zh) * | 2018-06-22 | 2020-04-17 | 株式会社Lg化学 | 化合物、聚合物、色料组合物、树脂组合物、滤色器和显示装置 |
JP2020530849A (ja) * | 2018-06-22 | 2020-10-29 | エルジー・ケム・リミテッド | 化合物、重合体、色材組成物、樹脂組成物、カラーフィルタおよびディスプレイ装置 |
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Also Published As
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