TW202024244A - 光敏樹脂組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本說明書提供一種光敏樹脂組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置。
Description
本申請案主張於2018年12月21日提交至韓國智慧財產局的韓國專利申請案第10-2018-0167497號的申請日的利益,其內容全部包含於本說明書。
本說明書是有關於一種光敏樹脂組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置。
目前,為了實現彩色濾光片,通常應用將顏料用作著色劑的顏料分散法。但是顏料分散液的情況,顏料以粒子狀態存在而不僅使光散射,而且因顏料的微細化而使顏料表面積急劇地增加,因藉此引起的分散穩定性的惡化而生成不均勻的顏料粒子。因此,為了達成最近要求的高亮度、高對比度及高解析度,最近研究了使用染料代替顏料作為著色劑。
通常,染料與顏料相比具有透射度高的優點。但是與顏料相比具有耐熱性不足的缺點。另外,與現有顏料相比,對有機溶劑的溶解度佳,因而具有耐化學性不足的缺點。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本公開文獻 特開平9-87534
[發明所欲解決之課題]
本說明書提供一種光敏樹脂組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置。
[解決課題之手段]
本說明書的一實施形態提供一種光敏樹脂組成物,所述光敏樹脂組成物包含:二苯並哌喃染料;黏合劑樹脂,包含由下述化學式1表示的結構;多官能性單體;光起始劑;以及溶劑。
[化學式1]
在所述化學式1中,是指與其他取代基或鍵結部連接的部分,
Lm為經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-,
m為0至3的整數,在m為2以上的情況下,Lm彼此相同或不同,
L'為直接鍵、或者經取代或未經取代的伸烷基,
T1至T4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、氘、或者經取代或未經取代的烷基,
t2為0至2的整數,在t2為2的情況下,T2彼此相同或不同。
本說明書的一實施形態提供一種包含所述光敏樹脂組成物的光阻。
本說明書的一實施形態提供一種包含所述光阻的彩色濾光片。
本說明書的一實施形態提供一種包含所述彩色濾光片的顯示裝置。
[發明的效果]
根據本說明書的一實施形態的光敏樹脂組成物可用作顏色材料,藉由包含含有由化學式1表示的結構的黏合劑樹脂,從而耐熱特性優異。
以下,針對本說明書更詳細地進行說明。
在本說明書中,在記載為某部件位於其他部件「上」時,該情況不僅包含某部件與其他部件相接的情況,而且亦包含兩部件之間存在又一部件的情況。
在本說明書中,在記載為某部分「包含」某構成要素時,只要無特別相反的記載,則該情況是指並不排除其他構成要素,可更包含其他構成要素。
所述鍵結部是指本說明書的一實施形態的化學式之間連接的部分。
本說明書的一實施形態提供一種光敏樹脂組成物,所述光敏樹脂組成物包含:二苯並哌喃染料;黏合劑樹脂,包含由下述化學式1表示的結構;多官能性單體;光起始劑;以及溶劑。
[化學式1]
在所述化學式1中,是指與其他取代基或鍵結部連接的部分,
Lm為經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-,
m為0至3的整數,在m為2以上的情況下,Lm彼此相同或不同,
L'為直接鍵、或者經取代或未經取代的伸烷基,
T1至T4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、氘、或者經取代或未經取代的烷基,
t2為0至2的整數,在t2為2的情況下,T2彼此相同或不同。
本說明書的一實施形態的光敏樹脂組成物藉由包含含有由所述化學式1表示的結構的黏合劑樹脂,從而可防止使自由基在殘留單體之間彼此鍵結而製成微黃色(Yellowish)的化合物並提高耐熱性。
由本說明書的化學式1及化學式2表示的化合物的取代基的例示在下文進行說明,但並不限定於此。
在本說明書中,「經取代或未經取代」的用語是指被選自包含氘、鹵素基、腈基、硝基、-OH、羰基、酯基、-COOH、醯亞胺基、醯胺基、陰離子性基、烷氧基、烷基、環烷基、烯基、環烯基、芳烷基、膦基、磺酸鹽基、胺基、芳基、雜芳基、矽基、硼基、丙烯醯基、丙烯酸酯基、醚基、包含N、O、S或P原子中的一個以上的雜環基及陰離子性基的群組中的一個以上的取代基取代、或者不具有任何取代基。
在本說明書中,作為鹵素基的例子,有氟、氯、溴或碘。
在本說明書中,所述烷基可為直鏈或分支鏈,碳數並不特別限定,但所述烷基的碳數可為1至30。根據又一實施形態,所述烷基的碳數為1至20。根據又一實施形態,所述烷基的碳數為1至10。作為烷基的具體例子,有甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、正戊基、正己基、正庚基、及正辛基等,但並不限定於此。在本說明書中,環烷基並不特別限定,但較佳為碳數為3至30,且特別是較佳為環戊基、環己基,但並不限定於此。
在本說明書中,伸烷基是指在烷烴(alkane)中有兩個鍵結位置的基。所述伸烷基可為直鏈、分支鏈或環狀鏈。伸烷基的碳數並不特別限定,但例如碳數可為1至30。另外,碳數可為1至20,且碳數可為1至10。
在本說明書中,環烷基並無特別限定,但根據一實施形態,所述環烷基的碳數為3至30。根據又一實施形態,所述環烷基的碳數為3至20。根據又一實施形態,所述環烷基的碳數為3至6。具體而言,有環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基等,但並不限定於此。
在本說明書中,芳基並不特別限定,但較佳為碳數為6至60,且可為單環式芳基或多環式芳基。根據一實施形態,所述芳基的碳數為6至30。根據一實施形態,所述芳基的碳數為6至20。作為單環式芳基,所述芳基可為苯基、聯苯基、聯三苯基等,但不限定於此。作為所述多環式芳基,可為萘基、蒽基、茚基、菲基、芘基、苝基、三苯基、䓛基、芴基等,但不限定於此。
在本說明書中,所述雜環基是包含O、N或S作為異種原子的雜環基,碳數並不特別限定,但碳數為2至30,具體而言碳數為2至20。作為雜環基的例子,有噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、噻唑基、噁唑基、噁二唑基、三唑基、吡啶基、聯吡啶基、三嗪基、吖啶基(acridyl)、噠嗪基、喹啉基、異喹啉基、吲哚基、咔唑基、苯並噁唑基、苯並咪唑基、苯並噻唑基、苯並咔唑基、苯並噻吩基、二苯並噻吩基、苯並呋喃基及二苯並呋喃基等,但並不僅限定於此。
在本說明書中,除雜芳基為芳香族以外,可應用有關於所述的雜環基的說明。
在本說明書中,所述烷氧基可為直鏈或分支鏈,碳數並不特別限定,但可為1至30,具體而言可為1至20,更具體而言可為1至10。
在本說明書中,陰離子性基與化學式1的結構具有化學鍵,且所述化學鍵可指離子鍵。所述陰離子性基並不特別限定,例如,可應用在美國專利第7,939,644號、日本特開第2006-003080號、日本特開第2006-001917號、日本特開第2005-159926號、日本特開第2007-7028897號、日本特開第2005-071680號、韓國申請公開第2007-7000693號、日本特開第2005-111696號、日本特開第2008-249663號、及日本特開第2014-199436中所記載的陰離子。
作為所述陰離子性基的具體例子,有三氟甲烷磺酸根陰離子、雙(三氟甲基磺醯基)醯胺陰離子、雙三氟甲烷磺醯亞胺陰離子、雙全氟乙基磺醯亞胺陰離子、四苯基硼酸根陰離子、四(4-氟苯基)硼酸鹽、四(五氟苯基)硼酸鹽、三三氟甲烷磺醯基甲基化物、SO3 -
、CO2 -
、SO2
N-
SO2
CF3
、SO2
N-
SO2
CF2
CF3
、鹵素基例如氟基、碘基、氯基等,但並不僅限定於此。
在本說明書中,陰離子性基其自身可具有陰離子,或者可與其他陽離子一併以錯合化合物形態存在。因此,根據經取代的陰離子性基的個數,本發明的化合物的分子整體的電荷之和可不同。在本發明的化合物的一個胺基中具有陽離子,因此,分子整體的電荷之和可具有從自經取代的陰離子性基的個數減去1所得的值的陰離子至0的值。
在本說明書中,「(甲基(meth))丙烯酸」表示選自由丙烯酸及甲基丙烯酸所組成的群組中的至少一種。「(甲基(metha))丙烯酸」的表述亦具有相同的含義。
在本說明書的一實施形態中,所述二苯並哌喃染料由下述化學式2表示。
[化學式2]
在所述化學式2中,
R1至R6彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、鹵素基、硝基、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的烷氧基、經取代或未經取代的芳基、及經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組,
R7至R11彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、-OH、-SO3 -
、-SO3
H、-SO3 -
Z+
、-COO-
、-COOH、-COO-
Z+
、-COORa、-SO3
Rb、-SO2
NRcRd、-CONReRe'、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基、及經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組,
Z+
表示+
N(Rf)4
、Na+
、或K+
,
Ra至Rf及Re'彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基、及經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組,
Rc與Rd能夠彼此鍵結而形成包含氮原子的雜環,
Rf能夠相同或不同,
所述R7至R11中的至少一者為-SO3 -
、-SO3
H、-SO3 -
Z+
、-COO-
、-COO-
Z+
、-COORa、-SO3
Rb、或-SO2
NRcRd,
R12至R15彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基、及經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組,
Q1及Q2彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、或者經取代或未經取代的伸烷基,
Rx為陰離子性基或銨結構,
a為0或1。
在本說明書的一實施形態中,R1至R6彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、鹵素基、硝基、碳數為1至30的經取代或未經取代的烷基、碳數為1至30的經取代或未經取代的烷氧基、碳數為6至30的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至30的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R1至R6彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、鹵素基、硝基、碳數為1至20的經取代或未經取代的烷基、碳數為1至20的經取代或未經取代的烷氧基、碳數為6至20的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至20的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R1至R6彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、鹵素基、硝基、碳數為1至20的經取代或未經取代的烷基、碳數為1至20的經取代或未經取代的烷氧基、碳數為6至20的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至20的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R1至R6為氫、或者經取代或未經取代的甲基。
在本說明書的一實施形態中,R1至R6為氫、或甲基。
在本說明書的一實施形態中,R7至R11彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、-OH、-SO3 -
、-SO3
H、-SO3 -
Z+
、-COO-
、-COOH、-COO-
Z+
、-COORa、-SO3
Rb、-SO2
NRcRd、-CONReRe'、碳數為1至30的經取代或未經取代的烷基、碳數為6至30的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至30的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R7至R11彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、-OH、-SO3 -
、-SO3
H、-SO3 -
Z+
、-COO-
、-COOH、-COO-
Z+
、-COORa、-SO3
Rb、-SO2
NRcRd、-CONReRe'、碳數為1至20的經取代或未經取代的烷基、碳數為6至20的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至20的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R7至R11彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、-SO3 -
、-SO3
H、-SO3 -
Z+
、-COO-
、-COO-
Z+
、-COORa、-SO3
Rb、及-SO2
NRcRd所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R7至R11彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、-SO3 -
、-SO3
H、-COO-
、-COO-
Z+
、及-COORa所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,Z+
為+
N(Rf)4
、Na+
、或K+
。
在本說明書的一實施形態中,Z+
為Na+
。
在本說明書的一實施形態中,Ra至Rf及Re'彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、碳數為1至30的經取代或未經取代的烷基、碳數為6至30的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至30的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組,Rc與Rd可彼此鍵結而形成包含氮原子的雜環,Rf可相同或不同。
在本說明書的一實施形態中,Ra至Rf及Re'彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、碳數為1至20的經取代或未經取代的烷基、碳數為6至20的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至20的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組,Rc與Rd可彼此鍵結而形成包含氮原子的雜環,Rf可相同或不同。
在本說明書的一實施形態中,Ra至Rf及Re'彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、碳數為1至10的經取代或未經取代的烷基、碳數為6至20的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至20的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組,Rc與Rd可彼此鍵結而形成包含氮原子的雜環,Rf可相同或不同。
在本說明書的一實施形態中,Ra為經取代或未經取代的甲基。
在本說明書的一實施形態中,Ra為甲基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為1至20的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為3至20的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為3至20的直鏈或分支鏈的烷基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為3至20的分支鏈的烷基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為1至10的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為1至10的直鏈或分支鏈的烷基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為1至10的分支鏈的烷基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或者經取代或未經取代的2-乙基己基。
在本說明書的一實施形態中,Rc及Rd彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或2-乙基己基。
在本說明書的一實施形態中,-SO2
NRcRd可由-SO2
NHY表示,所述Y可應用所述Rc及Rd的定義。
在本說明書的一實施形態中,R12至R15彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、碳數為1至30的經取代或未經取代的烷基、碳數為6至30的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至30的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R12至R15彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、碳數為1至20的經取代或未經取代的烷基、碳數為6至20的經取代或未經取代的芳基、及碳數為2至20的經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R12至R15彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、碳數為1至10的經取代或未經取代的烷基、及碳數為6至12的經取代或未經取代的芳基所組成的群組。
在本說明書的一實施形態中,R12及R14彼此相同或不同,分別獨立地為氫、經取代或未經取代的乙基、或者經取代或未經取代的丙基。
在本說明書的一實施形態中,R12及R14彼此相同或不同,分別獨立地為氫、乙基、正丙基、或異丙基。
在本說明書的一實施形態中,R13及R15彼此相同或不同,分別獨立地為經取代或未經取代的乙基、或者經取代或未經取代的苯基。
在本說明書的一實施形態中,R13及R15彼此相同或不同,分別獨立地為乙基、或為經選自由甲基、-SO2
NHY、-SO3 -
及-SO3
H所組成的群組中的一種以上取代的苯基,Y與所述的內容相同。
在本說明書的一實施形態中,Q1及Q2彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、或者碳數為1至30的經取代或未經取代的伸烷基。
在本說明書的一實施形態中,Q1及Q2彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、或者碳數為1至20的經取代或未經取代的伸烷基。
在本說明書的一實施形態中,Q1及Q2彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、或者碳數為1至10的經取代或未經取代的伸烷基。
在本說明書的一實施形態中,Q1及Q2彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、經取代或未經取代的亞甲基、經取代或未經取代的伸乙基、或者經取代或未經取代的伸丙基。
在本說明書的一實施形態中,Q1及Q2彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、亞甲基、伸乙基、或伸丙基。
在本說明書的一實施形態中,Rx為陰離子性基或銨結構。
在本說明書的一實施形態中,Rx為陰離子性基,所述陰離子性基為氯基(Cl-
)。
在本說明書的一實施形態中,Rx為銨結構,所述銨結構可由下述化學式A表示。
[化學式A]
在所述化學式A中,
A1至A4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或者經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,A1至A4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為1至30的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,A1至A4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為1至20的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,A1至A4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或碳數為1至12的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,a為0或1。
在本說明書的一實施形態中,a為0。
在本說明書的一實施形態中,a為1。
在所述結構中,Y為碳數為3至20的分支鏈的烷基。具體而言,所述Y為2-乙基己基。
在本說明書的一實施形態中,Lm為經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,Lm為碳數為1至30的經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,Lm為碳數為1至20的經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,Lm為碳數為1至10的經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,Lm為經取代或未經取代的伸乙基、經取代或未經取代的伸丙基、經取代或未經取代的伸丁基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,Lm為伸乙基、伸丙基、經羥基取代的伸丙基、伸丁基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,L'為直接鍵、或碳數為1至30的經取代或未經取代的伸烷基。
在本說明書的一實施形態中,L'為直接鍵、或碳數為1至20的經取代或未經取代的伸烷基。
在本說明書的一實施形態中,L'為直接鍵、或碳數為1至10的經取代或未經取代的伸烷基。
在本說明書的一實施形態中,L'為直接鍵、經取代或未經取代的亞甲基、經取代或未經取代的伸乙基、經取代或未經取代的伸丙基、或者經取代或未經取代的伸丁基。
在本說明書的一實施形態中,L'為直接鍵、經甲基取代的亞甲基、伸乙基、伸丙基、或伸丁基。
在本說明書的一實施形態中,m為0至3的整數。
在本說明書的一實施形態中,m為0。
在本說明書的一實施形態中,m為1。
在本說明書的一實施形態中,m為2。
在本說明書的一實施形態中,m為3。
在本說明書的一實施形態中,T1至T4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、氘、或碳數為1至30的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,T1至T4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、氘、或碳數為1至20的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,T1至T4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、氘、或碳數為1至10的經取代或未經取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,T1至T4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、氘、經取代或未經取代的甲基、或者經取代或未經取代的第三丁基。
在本說明書的一實施形態中,T1至T4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、甲基、或者第三丁基。
在本說明書的一實施形態中,T1為氫或甲基。
在本說明書的一實施形態中,T2為氫。
在本說明書的一實施形態中,所述T3及T4為第三丁基。
在本說明書的一實施形態中,t2為0至2的整數。
在本說明書的一實施形態中,所述化學式1可由下述化學式1-A表示。
[化學式1-A]
在所述化學式1-A中,是指與其他取代基或鍵結部連接的部分,
L1至L3彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-,
L'為經取代或未經取代的伸烷基,
T1至T4彼此相同或不同,分別獨立地為氫、氘、或者經取代或未經取代的烷基,t2為0至2的整數,在t2為2的情況下,T2彼此相同或不同。
在本說明書的一實施形態中,L1至L3彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、碳數為1至30的經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,L1至L3彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、碳數為1至20的經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,L1至L3彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、碳數為1至10的經取代或未經取代的伸烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,L1至L3彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、經取代或未經取代的伸乙基、經取代或未經取代的伸丙基、經取代或未經取代的伸丁基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本說明書的一實施形態中,L1至L3彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、伸乙基、伸丙基、經羥基取代的伸丙基、伸丁基、-L'-COO-、或-OCO-。
在所述化學式1-A中,L'、T1至T4、t2與在所述化學式1中定義的內容相同。
在本說明書的一實施形態中,所述黏合劑樹脂可更包含一種以上由下述化學式4至化學式6中的任一者表示的結構。
[化學式4]
[化學式5]
[化學式6]
在所述化學式4至化學式6中,是指與其他取代基或鍵結部連接的部分,
L41、L51、L52、及L61彼此相同或不同,分別獨立地為經取代或未經取代的伸烷基,
X1、X2、Y1、Y2及Z1彼此相同或不同,分別獨立地為氫、或者經取代或未經取代的烷基,
x2為0至5的整數,在x2為2以上的情況下,X2彼此相同或不同,
y2為0至3的整數,在y2為2以上的情況下,Y2彼此相同或不同。
在本說明書的一實施形態中,包含由所述化學式1表示的結構的黏合劑樹脂更包含源自具有碳數為2至4的環狀醚結構的不飽和化合物的單元。
在所述結構中,R為氫、或碳數為1至4的經取代或未經取代的烷基,X3及X4彼此相同或不同,分別為直接鍵、-Rz-、-Rz-O-、-Rz-S-、或-Rz-NH-,所述Rz為碳數為1至6的經取代或未經取代的烷二基。
在本說明書的一實施形態中,所述R可為碳數為1至4的經-OH取代的烷基。
在本說明書的一實施形態中,所述光敏樹脂組成物可更包含如下的黏合劑樹脂:所述黏合劑樹脂包含源自具有碳數為2至4的環狀醚結構的不飽和化合物的單元。
具有碳數為2至4的環狀醚結構的所述不飽和化合物可應用所述的說明。
在本說明書的一實施形態中,除包含由所述化學式1表示的結構的黏合劑樹脂以外,所述光敏樹脂組成物可更包含在相應技術領域內通常使用的黏合劑樹脂。
本說明書的一實施形態提供一種光敏樹脂組成物,以所述光敏樹脂組成物的總重量為基準,包含:0.1重量%至30重量%的所述二苯並哌喃染料;1重量%至40重量%的包含由所述化學式1表示的結構的黏合劑樹脂;1重量%至40重量%的所述多官能性單體;0.1重量%至10重量%的所述光起始劑;以及餘量為溶劑。
藉由使所述光敏樹脂組成物的各構成要素滿足所述範圍,可得到耐熱性優異的光敏樹脂組成物。
在本說明書的一實施形態中,所述黏合劑樹脂的重量平均分子量為5,000 g/mol至50,000 g/mol。較佳可為5,000 g/mol至20,000 g/mol。更佳可為9,800 g/mol至11,300 g/mol。
藉由使所述黏合劑樹脂滿足所述重量平均分子量的範圍,從而具有用以形成圖案的合適的顯影時間。
所述重量平均分子量是分子量不均勻且以某種高分子物質的分子量為基準使用的平均分子量中的一種,且是藉由利用重量分率對存在分子量分佈的高分子化合物的成分分子物種的分子量進行平均而得到的值。
所述重量平均分子量可藉由凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography,GPC)分析而測定。
在本說明書的一實施形態中,所述光敏樹脂組成物更包含選自由顏料及染料所組成的群組中的一種以上。
在本說明書的一實施形態中,所述顏料選自由如下所組成的群組:酞青系、二酮基吡咯並吡咯系、蒽醌系、紫菜嗪(porphyrazine)系、三芳基甲烷系、喹酞酮系、及偶氮系。
具體而言,所述顏料可為酞青系藍色顏料、或紫色顏料(Pigment violet 23),但並不限定於此。根據一例,所述顏料可為C.I顏料藍(pigment blue)15:6。
所述光敏樹脂組成物除所述化學式1的化合物以外,可更包含染料及顏料中的至少一種。例如,所述顏色材料組成物亦可包含僅所述化學式1的化合物,但亦可包含所述化學式1的化合物與一種以上的染料、或包含所述化學式1的化合物與一種以上的顏料、或包含所述化學式1的化合物、一種以上的染料及一種以上的顏料。
所述染料及顏料可選自由以下所組成的群組中的一種以上:金屬錯合物(metal-complex)系列化合物;偶氮(azo)系列化合物;金屬偶氮(metal azo)系列化合物;喹酞酮(quinophthalone)系列化合物;異吲哚啉(isoindoline)系列化合物;次甲基(Methine)系列化合物;酞青(phthalocyanine)系列化合物;金屬酞青(metal phthalocyanine)系列化合物;卟啉(porphyrin)系列化合物;金屬卟啉(metal porphyrin)系列化合物;四氮雜卟啉(tetra aza porphyrin)系列化合物;金屬四氮雜卟啉(metal tetra aza porphyrin)系列化合物;花青(Cyanine)系列化合物;二苯並哌喃(Xanthene)系列化合物;金屬二吡咯亞甲基(metal dipyrromethene)系列化合物;硼二吡咯亞甲基(boron dipyrromethene)系列化合物;金屬二吡咯亞甲基(metal dipyrromethene)系列化合物;蒽醌(anthraquinone)系列化合物;二酮基吡咯並吡咯(diketopyrrolopyrrole)系列化合物;三芳基甲烷(triarylmethane)系列化合物;以及苝(perylene)系列化合物。
所述黏合劑樹脂可使用賦予膜的機械強度的多官能性單體與賦予鹼溶解性的單體的共聚樹脂,可更包含在相應技術領域內通常使用的黏合劑。
賦予所述膜的機械強度的多官能性單體可為不飽和羧酸酯類、芳香族乙烯基類、不飽和醚類、不飽和醯亞胺類、及酸酐中的任一者以上。
作為所述不飽和羧酸酯類的具體例,可選自由(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸醯基辛基氧基-2-羥基丙酯、丙三醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲醚(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、α-羥基甲基丙烯酸甲酯、α-羥基甲基丙烯酸乙酯、α-羥基甲基丙烯酸丙酯及α-羥基甲基丙烯酸丁酯所組成的群組中,但並不僅限定於該些。
作為所述芳香族乙烯基單量體類的具體例,可選自由苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(鄰、間、對)-乙烯基甲苯、(鄰、間、對)-甲氧基苯乙烯及(鄰、間、對)-氯苯乙烯所組成的群組中,但並不僅限定於該些。
作為所述不飽和醚類的具體例,可選自由乙烯基甲醚、乙烯基乙醚及烯丙基縮水甘油醚所組成的群組中,但並不僅限定於該些。
作為所述不飽和醯亞胺類的具體例,可選自由N-苯基馬來醯亞胺、N-(4-氯苯基)馬來醯亞胺、N-(4-羥基苯基)馬來醯亞胺及N-環己基馬來醯亞胺所組成的群組中,但並不僅限定於該些。
作為所述酸酐,有馬來酸酐、甲基馬來酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐等,但並不僅限定於該些。
賦予鹼溶解性的所述單體若為包含酸基者,則並無特別限定,例如較佳為使用選自由(甲基)丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、馬來酸、富馬酸、單甲基馬來酸、5-降冰片烯-2-羧酸、鄰苯二甲酸單-2-((甲基)丙烯醯氧基)乙酯、琥珀酸單-2-((甲基)丙烯醯氧基)乙酯、ω-羧基聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯所組成的群組中的一種以上,但並不僅限定於該些。
根據本說明書的一實施形態,所述黏合劑樹脂的酸價可為10 KOHmg/g至150 KOHmg/g。
所述黏合劑樹脂的酸價可利用0.1 N濃度的氫氧化鉀(KOH)甲醇溶液滴定來測定。
在本說明書中,所述多官能性單體可為二季戊四醇五丙烯酸酯。
所述光起始劑若為藉由光而產生自由基來引發交聯的起始劑,則並不特別限定,例如可為選自由苯乙酮系化合物、聯咪唑系化合物、三嗪系化合物及肟系化合物所組成的群組中的一種以上。
所述苯乙酮系化合物有2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)-苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環己基苯基酮、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丁醚、安息香丁醚、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-甲基-(4-甲硫基)苯基-2-嗎啉基-1-丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮、2-(4-溴-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁烷-1-酮或2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮等,並不限定於此。
作為所述聯咪唑系化合物,有2,2-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(3,4,5-三甲氧基苯基)-1,2'-聯咪唑、2,2'-雙(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4,5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑等,並不限定於此。
所述三嗪系化合物有3-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、3-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、2-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸乙酯、2-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸2-環氧基乙酯、2-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸環己酯、2-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸苄酯、3-{氯-4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、3-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙醯胺、2,4-雙(三氯甲基)-6-對甲氧基苯乙烯基-均三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(1-對二甲基胺基苯基)-1,3-丁二烯基-均三嗪、2-三氯甲基-4-胺基-6-對甲氧基苯乙烯基-均三嗪等,且並不限定於此。
所述肟系化合物有1,2-辛二酮-1-(4-苯硫基)苯基-2-(鄰苯甲醯基肟)(汽巴-嘉基(Ciba-Geigy)公司,CGI-124)、乙酮-1-(9-乙基)-6-(2-甲基苯甲醯基-3-基)-1-(O-乙醯基肟)(CGI-242)、N-1919(艾迪科(Adeka)公司)等,並不限定於此。
所述光起始劑可為三養公司的SPI-03。
所述溶劑可為選自由丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、四氫呋喃、1,4-二噁烷、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚、氯仿、二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烯、己烷、庚烷、辛烷、環己烷、苯、甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、異丙醇、丙醇、丁醇、第三丁醇、2-乙氧基丙醇、2-甲氧基丙醇、3-甲氧基丁醇、環己酮、環戊酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、甲基溶纖劑乙酸酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚及二丙二醇單甲醚所組成的群組中的一種以上,但並不僅限定於此。
根據本說明書的一實施形態,所述光敏樹脂組成物可更包含抗氧化劑。
根據本說明書的一實施形態,以所述光敏樹脂組成物的總重量為基準,所述抗氧化劑的含量為0.1重量%至20重量%。
根據本說明書的一實施形態,所述光敏樹脂組成物進一步包含選自由光交聯增感劑、固化促進劑、密著促進劑、界面活性劑、熱聚合防止劑、紫外線吸收劑、分散劑、接著助劑、多硫醇劑、及調平劑所組成的群組中的一種或兩種以上的添加劑。
具體而言,在本說明書中,所述添加劑可為界面活性劑、多硫醇劑、抗氧化劑或接著助劑。
根據本說明書的一實施形態,以所述光敏樹脂組成物的總重量為基準,所述添加劑的含量為0.1重量%至20重量%。
所述光交聯增感劑可使用選自由以下化合物所組成的群組中的一種以上:二苯甲酮、4,4-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基胺基二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、3,3,4,4-四(第三丁基過氧化羰基)二苯甲酮等二苯甲酮系化合物;9-芴酮、2-氯-9-芴酮、2-甲基-9-芴酮等芴酮系化合物;硫雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、2-氯硫雜蒽酮、1-氯-4-丙基氧基硫雜蒽酮、異丙基硫雜蒽酮、二異丙基硫雜蒽酮等硫雜蒽酮系化合物;氧雜蒽酮、2-甲基氧雜蒽酮等氧雜蒽酮系化合物;蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、第三丁基蒽醌、2,6-二氯-9,10-蒽醌等蒽醌系化合物;9-苯基吖啶、1,7-雙(9-吖啶基)庚烷、1,5-雙(9-吖啶基戊烷)、1,3-雙(9-吖啶基)丙烷等吖啶系化合物;苄基、1,7,7-三甲基-雙環[2,2,1]庚烷-2,3-二酮、9,10-菲醌等二羰基化合物;2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦等氧化膦系化合物;4-(二甲基胺基)苯甲酸甲酯、4-(二甲基胺基)苯甲酸乙酯、2-正丁氧基乙基-4-(二甲基胺基)苯甲酸酯等苯甲酸酯系化合物;2,5-雙(4-二乙基胺基亞苄基)環戊酮、2,6-雙(4-二乙基胺基亞苄基)環己酮、2,6-雙(4-二乙基胺基亞苄基)-4-甲基-環戊酮等胺基增效劑;3,3-羰基乙烯基-7-(二乙基胺基)香豆素、3-(2-苯並噻唑基)-7-(二乙基胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-(二乙基胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-甲氧基-香豆素、10,10-羰基雙[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氫-1H,5H,11H-C1]-苯並吡喃並[6,7,8-ij]-喹嗪-11-酮等香豆素系化合物;4-二乙基胺基查耳酮、4-疊氮基亞苄基苯乙酮等查耳酮化合物;2-苯甲醯基亞甲基、3-甲基-b-萘並噻唑啉。
所述固化促進劑用於提高固化及機械強度,具體而言,可使用選自由2-巰基苯並咪唑、2-巰基苯並噻唑、2-巰基苯並噁唑、2,5-二巰基-1,3,4-噻二唑、2-巰基-4,6-二甲基胺基吡啶、季戊四醇-四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇-三(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇-四(2-巰基乙酸酯)、季戊四醇-三(2-巰基乙酸酯)、三羥甲基丙烷-三(2-巰基乙酸酯)及三羥甲基丙烷-三(3-巰基丙酸酯)所組成的群組中的一種以上。
所述接著助劑可使用本領域內通常所使用者,在一實施形態中,所述接著助劑可為KBM-503。
所述多硫醇劑可使用本領域內通常所使用者,在一實施形態中,所述多硫醇劑可為PE-01。
作為本說明書中所使用的密著促進劑,可使用選自甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基二甲氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、甲基丙烯醯氧基丙基二甲氧基矽烷等甲基丙烯醯基矽烷偶合劑中的一種以上,作為烷基三甲氧基矽烷,可使用選自辛基三甲氧基矽烷、十二烷基三甲氧基矽烷、十八烷基三甲氧基矽烷等中的一種以上。
所述界面活性劑為矽系界面活性劑或氟系界面活性劑,具體而言,矽系界面活性劑可使用畢克化學(BYK-Chemie)公司的畢克(BYK)-077、畢克(BYK)-085、畢克(BYK)-300、畢克(BYK)-301、畢克(BYK)-302、畢克(BYK)-306、畢克(BYK)-307、畢克(BYK)-310、畢克(BYK)-320、畢克(BYK)-322、畢克(BYK)-323、畢克(BYK)-325、畢克(BYK)-330、畢克(BYK)-331、畢克(BYK)-333、畢克(BYK)-335、畢克(BYK)-341v344、畢克(BYK)-345v346、畢克(BYK)-348、畢克(BYK)-354、畢克(BYK)-355、畢克(BYK)-356、畢克(BYK)-358、畢克(BYK)-361、畢克(BYK)-370、畢克(BYK)-371、畢克(BYK)-375、畢克(BYK)-380、畢克(BYK)-390等,作為氟系界面活性劑,可使用迪愛生(DIC)(大日本油墨化學工業股份有限公司(DaiNippon Ink & Chemicals))公司的F-114、F-177、F-410、F-411、F-450、F-493、F-494、F-443、F-444、F-445、F-446、F-470、F-471、F-472SF、F-474、F-475、F-477、F-478、F-479、F-480SF、F-482、F-483、F-484、F-486、F-487、F-554、F-172D、MCF-350SF、TF-1025SF、TF-1117SF、TF-1026SF、TF-1128、TF-1127、TF-1129、TF-1126、TF-1130、TF-1116SF、TF-1131、TF1132、TF1027SF、TF-1441、TF-1442等,但並不僅限定於此。
在本說明書的一實施形態中,所述界面活性劑具體而言為氟系界面活性劑,且可為F-554。
作為所述抗氧化劑,可為選自由受阻酚(Hindered phenol)系抗氧化劑、胺系抗氧化劑、硫系抗氧化劑及膦系抗氧化劑所組成的群組中的一種以上,但並不僅限定於此。
作為所述抗氧化劑的具體例,可列舉:如磷酸、磷酸三甲酯或磷酸三乙酯等磷酸系熱穩定劑;如2,6-二-第三丁基-對甲酚、十八烷基-3-(4-羥基-3,5-二-第三丁基苯基)丙酸酯、四雙[亞甲基-3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]甲烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)苯、3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基亞磷酸二乙酯、2,2-硫代雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,6-g,t-丁基苯酚4,4'-亞丁基-雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)或雙[3,3-雙-(4'-羥基-3'-第三丁基苯基)丁酸]二醇酯(Bis[3,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoicacid] glycol ester)等受阻酚(Hindered phenol)系一次抗氧化劑;如苯基-α-萘基胺、苯基-β-萘基胺、N,N'-二苯基-對苯二胺或N,N'-二-β-萘基-對苯二胺等胺系二次抗氧化劑;二月桂基二硫化物、二月桂基硫代丙酸酯、二硬脂基硫代丙酸酯、巰基苯並噻唑或四甲基秋蘭姆二硫化物四雙[亞甲基-3-(月桂基硫代)丙酸酯]甲烷等硫(Thio)系二次抗氧化劑;或者如三苯基亞磷酸酯、三(壬基苯基)亞磷酸酯、三異癸基亞磷酸酯、雙(2,4-二丁基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯(Bis(2,4-ditbutylphenyl)Pentaerythritol Diphosphite)或(1,1'-聯苯基)-4,4'-二基雙亞膦酸四[2,4-雙(1,1-二甲基乙基)苯基]酯((1,1'-Biphenyl)-4,4'-Diylbisphosphonous acid tetrakis[2,4-bis(1,1-dimethylethyl)phenyl]ester)等亞磷酸酯系二次抗氧化劑。
在本說明書中,所述抗氧化劑具體而言可為受阻酚系抗氧化劑,可為松諾科(Songnox)-1010(松原產業)。
作為所述紫外線吸收劑,可使用2-(3-第三丁基-5-甲基-2-羥基苯基)-5-氯-苯並三唑、烷氧基二苯甲酮等,但並不限定於此,本領域中通常所使用者均能夠使用。
作為所述熱聚合防止劑,例如可包含選自由對苯甲醚、對苯二酚、鄰苯二酚(pyrocatechol)、第三丁基鄰苯二酚(t-butyl catechol)、N-亞硝基苯基羥基胺銨鹽、N-亞硝基苯基羥基胺鋁鹽、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、鄰苯三酚、苯醌、4,4-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基酚)、2,2-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2-巰基咪唑及啡噻嗪(phenothiazine)所組成的群組中的一種以上,但並不僅限定於該些,亦可包含本技術領域中通常已知者。
所述分散劑可以以下方法來使用:以預先對顏料進行表面處理的形態內部添加於顏料中的方法或者外部添加於顏料中的方法。作為所述分散劑,可使用化合物型、非離子性、陰離子性或陽離子性分散劑,可列舉氟系、酯系、陽離子系、陰離子系、非離子系、兩性界面活性劑等。該些可分別使用或將兩種以上組合使用。
具體而言,所述分散劑可有選自由聚烷二醇及其酯、聚氧伸烷基多元醇、酯環氧烷加成物、醇環氧烷加成物、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺環氧烷加成物及烷基胺所組成的群組中的一種以上,但並不限定於此。
所述調平劑可為聚合物性或非聚合物性。作為聚合物性的調平劑的具體例,可列舉聚乙烯亞胺、聚醯胺胺、胺與環氧化物的反應產物,作為非聚合物性的調平劑的具體例,包含非聚合物含硫化合物及非聚合物含氮化合物,但不限定於此,本領域中通常所使用者均能夠使用。
根據本說明書的一實施形態,提供一種包含所述光敏樹脂組成物的光阻。
在包含所述光敏樹脂組成物的光阻中包含含有由所述化學式1表示的結構的黏合劑樹脂可藉由氣相層析-質譜法(gas chromatograph-mass spectrometry,GC/MS)、具體而言熱分解-氣相層析質譜法(Py-GC/MS)分析來確認。
更詳細而言,可利用適當的方法將本說明書的光敏樹脂組成物塗佈至基材上固化來形成薄膜或圖案形態的光阻。
作為所述塗佈方法,雖並不特別限定,但可使用噴霧法、輥塗法、旋塗法等,通常廣泛使用旋塗法。另外,於形成塗佈膜之後,視情況,亦可於減壓下去除一部分殘留溶劑。
作為用於對本說明書的光敏樹脂組成物進行固化的光源,例如有使波長為250 nm至450 nm的光發散的水銀蒸汽弧(arc)、碳弧、氙(Xe)弧等,但未必侷限於此。
本說明書的光敏樹脂組成物可用於薄膜電晶體液晶顯示裝置(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT LCD)彩色濾光片製造用顏料分散型光阻、薄膜電晶體液晶顯示裝置(TFT LCD)或有機發光二極體的黑色矩陣形成用光阻、外塗層形成用光阻、柱狀間隔物(colomn spacer)光阻、光固化型塗料、光固化性墨水、光固化性接著劑、印刷版、印刷配線板用光阻、電漿顯示器面板(Plasma Display Panel,PDP)用光阻等,其用途並無特別限制。
根據本說明書的一實施形態,提供一種包含所述光阻的彩色濾光片。
所述彩色濾光片可使用包含含有由所述化學式1表示的結構的黏合劑樹脂的光敏樹脂組成物製造而成。將所述光敏樹脂組成物塗佈於基板上,形成塗覆(coating)膜,對所述塗覆膜進行曝光、顯影及固化,藉此可形成彩色濾光片。
所述基板可為玻璃板、矽晶圓及聚醚碸(Polyethersulfone,PES)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)等塑膠基材的板等,其種類並無特別限制。
所述彩色濾光片可包含紅色圖案、綠色圖案、藍色圖案、黑色矩陣。
根據又一實施形態,所述彩色濾光片可更包含外塗層。
於彩色濾光片的彩色畫素之間,為了提升對比度,可配置被稱為黑色矩陣的格子狀的黑色圖案。作為黑色矩陣的材料,可使用鉻。該情況下,可利用以下方式:使鉻蒸鍍於玻璃基板整體上,並藉由蝕刻處理來形成圖案。但是,考慮到製程上的高成本、鉻的高反射率、由鉻的廢液引起的環境污染,亦可使用利用能夠進行微細加工的顏料分散法的樹脂黑色矩陣。
本說明書的一實施形態的黑色矩陣可使用黑色顏料或黑色染料作為顏色材料。例如可單獨使用碳黑,或者將碳黑與著色顏料混合使用,此時,由於將遮光性不足的著色顏料加以混合,故而有如下優點:即使顏色材料的量相對增加,膜的強度或者對基板的密著性亦不會降低。
提供一種包含本說明書的彩色濾光片的顯示裝置。
所述顯示裝置可為電漿顯示器面板(Plasma Display Panel,PDP)、發光二極體(Light Emitting Diode,LED)、有機發光元件(Organic Light Emitting Diode,OLED)、液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display,LCD)、薄膜電晶體液晶顯示裝置(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,LCD-TFT)以及陰極射線管(Cathode Ray Tube,CRT)中的任一者。
以下,為了對本說明書進行具體說明,列舉實施例來詳細地說明。但是,本說明書的實施例可變形為各種其他形態,本說明書的範圍並不解釋為限定於以下記述的實施例。本說明書的實施例是為了對本領域中有平均知識者更完整地說明本說明書而提供的。
>實施例>
1.二苯並哌喃染料的合成實施例
[合成例1]
向25 g的N-甲基-2-吡咯啶酮(N-methyl-2-pyrrolidone)加入5 g的[A](12.34 mmol,1 eq)、7.48 g的2,6-二甲基苯胺(2,6-dimethylaniline)(61.692 mmol,5 eq),升溫至150℃並攪拌。添加後在1小時的持續時間內攪拌,回流(reflux)後進行減壓過濾。在真空烘箱(Vacuum oven)中進行乾燥得到3.07 g的[A-1](產率43.0%)。
離子化模式:大氣壓化學遊離(Atmospheric Pressure Chemical Ionization,APCI)+:m/z=574[M+H]+,準確質量(Exact Mass):574
2.黏合劑合成實施例
[合成例2]
向反應容器加入40.54 mol%的苯乙烯、39.63%的甲基丙烯酸縮水甘油酯、19.30%的甲基丙烯酸、1.53%的甲基丙烯酸3-((3-(3,5-二-第三丁基-4-羥苯基)丙醯基)氧基)-2-羥丙酯(3-((3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyl)oxy)-2-hydroxypropyl methacrylate)與溶劑混合,在氮環境下混合並升溫至60℃。之後,以黏合劑樹脂固體成分總重量為基準投入10質量份的熱聚合起始劑V65(2,2-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(2,2-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile))),使其反應16小時來製造黏合劑樹脂A。所製造的黏合劑樹脂A的酸價為71 mgKOH/g,重量平均分子量為11,300 g/mol。製造的黏合劑樹脂A具有下述所表示的結構單元。
[合成例3]
向反應容器加入40.57 mol%的苯乙烯、39.66%的甲基丙烯酸縮水甘油酯、19.23%的甲基丙烯酸、1.54%的2-羥基-3-(甲基丙烯醯基氧基)丙基3,5-二-第三丁基-4-羥基苯甲酸(2-hydroxy-3-(methacryloyloxy)propyl 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate)與溶劑混合,在氮環境下混合並升溫至60℃。之後,以黏合劑樹脂固體成分總重量為基準投入10質量份的熱聚合起始劑V65(2,2-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(2,2-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile))),使其反應16小時來製造黏合劑樹脂B。
所製造的黏合劑樹脂B的酸價為76 mgKOH/g,重量平均分子量為10,600 g/mol。製造的黏合劑樹脂B具有下述所表示的結構單元。
[合成例4]
向反應容器加入40.57 mol%的苯乙烯、39.66%的甲基丙烯酸縮水甘油酯、19.27%的甲基丙烯酸、1.50%的2,6-二-第三丁基-4-乙烯基苯酚(2,6-di-tert-butyl-4-vinylphenol)與溶劑混合,在氮環境下混合並升溫至60℃。之後,以黏合劑樹脂固體成分總重量為基準投入10質量份的熱聚合起始劑V65(2,2-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(2,2-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile))),使其反應16小時來製造黏合劑樹脂C。
所製造的黏合劑樹脂C的酸價為75 mgKOH/g,重量平均分子量為9,800。製造的黏合劑樹脂C具有下述所表示的結構單元。
[合成例5]
向反應容器加入51.75 mol%的甲基丙烯酸苄酯、8.63%的N-苯基馬來醯亞胺、10.35 mol%的苯乙烯、29.28 mol%的甲基丙烯酸與溶劑混合,在氮環境下混合並升溫至60℃。之後,以黏合劑樹脂固體成分總重量為基準投入10質量份的熱聚合起始劑V65(2,2-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(2,2-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile))),使其反應16小時來製造黏合劑樹脂D。
所製造的黏合劑樹脂D的酸價為125 mgKOH/g,重量平均分子量為8,100。製造的黏合劑樹脂D具有下述所表示的結構單元。
[光敏樹脂組成物的製造]
[光敏樹脂組成物比較例1的製造]
混合下述表1所示的組成來製造比較例1的光敏樹脂組成物。
[表1]
成分 | 重量% | |
(A)二苯並哌喃染料 | A-1 | 0.50 |
(B)銅酞青顏料 | C.I顏料藍15:6 | 3.05 |
(C)黏合劑樹脂 | 黏合劑D | 3.50 |
(D)多官能性單體 | 二季戊四醇五丙烯酸酯 | 7.00 |
(E)光起始劑 | 三養公司的SPI-03 | 1.30 |
(F)溶劑 | 丙二醇單甲醚乙酸酯 | 67.6 |
3-甲氧基丁基乙酸酯(3-Methoxy butyl acetate) | 16.6 | |
(G)添加劑 | 迪愛生(DIC)公司的F-554(氟系界面活性劑) | 0.05 |
PE-01(多硫醇劑(Mutithiol)) | 0.06 | |
松原產業松諾科(Songnox)-1010(受阻酚系抗氧化劑) | 0.14 | |
KBM-503(接著助劑) | 0.20 |
[光敏樹脂組成物比較例2的製造]
混合下述表2所示的組成來製造比較例2的光敏樹脂組成物。
[表2]
成分 | 重量% | |
(A)二苯並哌喃染料 | A-1 | 0.50 |
(B)銅酞青顏料 | C.I顏料藍15:6 | 3.05 |
(C)黏合劑樹脂 | 黏合劑D | 3.50 |
(D)多官能性單體 | 二季戊四醇五丙烯酸酯 | 7.00 |
(E)光起始劑 | 三養公司的SPI-03 | 1.30 |
(F)溶劑 | 丙二醇單甲醚乙酸酯 | 67.6 |
3-甲氧基丁基乙酸酯(3-Methoxy butyl acetate) | 16.6 | |
(G)添加劑 | 迪愛生(DIC)公司的F-554(氟系界面活性劑) | 0.12 |
PE-01(多硫醇劑(Mutithiol)) | 0.13 | |
KBM-503(接著助劑) | 0.20 |
[光敏樹脂組成物實施例1至實施例3的製造]
以與所述表1所示相同的含量並如下述表3所示般應用黏合劑樹脂來製造實施例1至實施例3的光敏樹脂組成物。
[表3]
實施例1 | 實施例2 | 實施例3 | |
黏合劑樹脂 | A | B | C |
>實驗例>
[基板製作]
將藉由所述實施例1至實施例3、比較例1及比較例2製造的光敏樹脂組成物旋塗(spincoating)於玻璃(5 cm×5 cm)上,於110℃下實施70秒前熱處理而形成膜。利用光罩(photo mask)於高壓水銀燈下以40 mJ/cm2
的能量對所述膜進行曝光後,利用氫氧化鉀(KOH)鹼水溶液對圖案進行顯影,並用蒸餾水清洗。去除蒸餾水後以230℃實施20分鐘後熱處理而得到彩色圖案。
[耐熱性評估]
針對在如上所述的條件下製造的經後熱處理的基板,利用分光光度計(MCPD,大塚股份有限公司(Otsuka Co.,Ltd))得到380 nm至780 nm波長範圍的吸收光譜。
追加性地在230℃下對經後熱處理的基板處理120分鐘,在相同的設備與相同的測定範圍下得到透射率光譜。
使用由將C光源作為背光得到的吸收光譜得到的值L*、a*、b*,藉由下述算式1計算ΔEab(耐熱性),並示於下述表3。
[算式1]
ΔEab(L*,a*,b*) = {(ΔL*)2
+(Δa*)2
+(Δb*)2
}1/2
ΔEab值小為顏色變化小的含義,表示耐熱性優異。
[表4]
ΔEab(耐熱性) | |
比較例1 | 6.37 |
比較例2 | 8.79 |
實施例1 | 2.59 |
實施例2 | 2.48 |
實施例3 | 2.15 |
根據所述表4確認,與比較例1至比較例2相比,實施例1至實施例3的ΔEab值小,本說明書的光敏樹脂組成物的耐熱性優異。
無
無
Claims (9)
- 如申請專利範圍第1項所述的光敏樹脂組成物,其中所述二苯並哌喃染料由下述化學式2表示: [化學式2] 在化學式2中, R1至R6彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、鹵素基、硝基、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的烷氧基、經取代或未經取代的芳基及經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組, R7至R11彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、-OH、-SO3 - 、-SO3 H、-SO3 - Z+ 、-COO- 、-COOH、-COO- Z+ 、-COORa、-SO3 Rb、-SO2 NRcRd、-CONReRe'、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基及經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組, Z+ 表示+ N(Rf)4 、Na+ 、或K+ , Ra至Rf及Re'彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基及經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組, Rc與Rd能夠彼此鍵結而形成包含氮原子的雜環, Rf能夠相同或不同, R7至R11中的至少一者為-SO3 - 、-SO3 H、-SO3 - Z+ 、-COO- 、-COO- Z+ 、-COORa、-SO3 Rb、或-SO2 NRcRd, R12至R15彼此相同或不同,分別獨立地選自由氫、氘、經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基及經取代或未經取代的雜芳基所組成的群組, Q1及Q2彼此相同或不同,分別獨立地為直接鍵、或者經取代或未經取代的伸烷基, Rx為陰離子性基或銨結構, a為0或1。
- 如申請專利範圍第1項所述的光敏樹脂組成物,其中以所述光敏樹脂組成物的總重量為基準,包含0.1重量%至30重量%的所述二苯並哌喃染料; 1重量%至40重量%的包含由化學式1表示的所述結構的所述黏合劑樹脂; 1重量%至40重量%的所述多官能性單體; 0.1重量%至10重量%的所述光起始劑;以及 餘量的所述溶劑。
- 如申請專利範圍第1項所述的光敏樹脂組成物,其中所述黏合劑樹脂的重量平均分子量為5,000 g/mol至50,000 g/mol。
- 如申請專利範圍第1項所述的光敏樹脂組成物,其中所述光敏樹脂組成物更包含選自由顏料及染料所組成的群組中的一種或多種。
- 如申請專利範圍第5項所述的光敏樹脂組成物,其中所述顏料選自由如下所組成的群組:酞青系、二酮基吡咯並吡咯系、蒽醌系、紫菜嗪系、三芳基甲烷系、喹酞酮系及偶氮系。
- 一種光阻,包含如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的光敏樹脂組成物。
- 一種彩色濾光片,包含如申請專利範圍第7項所述的光阻。
- 一種顯示裝置,包含如申請專利範圍第8項所述的彩色濾光片。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2018-0167497 | 2018-12-21 | ||
KR20180167497 | 2018-12-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202024244A true TW202024244A (zh) | 2020-07-01 |
TWI813834B TWI813834B (zh) | 2023-09-01 |
Family
ID=71100691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW108146681A TWI813834B (zh) | 2018-12-21 | 2019-12-19 | 光敏樹脂組成物、光阻、彩色濾光片以及顯示裝置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102413261B1 (zh) |
CN (1) | CN111801620B (zh) |
TW (1) | TWI813834B (zh) |
WO (1) | WO2020130441A1 (zh) |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0987534A (ja) | 1995-09-25 | 1997-03-31 | Konica Corp | インクジェット記録液 |
JP2004286810A (ja) * | 2003-03-19 | 2004-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 染料含有硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルターおよびその製造方法 |
JP2006091662A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP2006251464A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レンズ形成用感光性樹脂組成物 |
JP5121912B2 (ja) * | 2010-11-24 | 2013-01-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置 |
JP5646663B2 (ja) * | 2013-02-08 | 2014-12-24 | 株式会社Dnpファインケミカル | カラーフィルタ用着色樹脂組成物、色材分散液、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機発光表示装置 |
JP6555625B2 (ja) * | 2015-06-17 | 2019-08-07 | エルジー・ケム・リミテッド | キサンテン系化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物 |
KR20170128678A (ko) * | 2016-05-12 | 2017-11-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 표시장치 |
KR102067858B1 (ko) * | 2016-05-24 | 2020-01-17 | 주식회사 엘지화학 | 화합물 및 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물 |
KR102092438B1 (ko) * | 2016-07-26 | 2020-03-23 | 주식회사 엘지화학 | 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터 |
KR101998777B1 (ko) * | 2017-01-13 | 2019-07-10 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치 |
US20180259850A1 (en) * | 2017-03-10 | 2018-09-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for forming patterned cured film, photosensitive composition, dry film, and method for producing plated shaped article |
-
2019
- 2019-12-06 WO PCT/KR2019/017202 patent/WO2020130441A1/ko active Application Filing
- 2019-12-06 KR KR1020190161590A patent/KR102413261B1/ko active IP Right Grant
- 2019-12-06 CN CN201980016077.9A patent/CN111801620B/zh active Active
- 2019-12-19 TW TW108146681A patent/TWI813834B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102413261B1 (ko) | 2022-06-27 |
KR20200078339A (ko) | 2020-07-01 |
CN111801620B (zh) | 2023-08-04 |
CN111801620A (zh) | 2020-10-20 |
WO2020130441A1 (ko) | 2020-06-25 |
TWI813834B (zh) | 2023-09-01 |
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