CN111801620B - 感光性树脂组合物、感光材料、滤色器和显示装置 - Google Patents

感光性树脂组合物、感光材料、滤色器和显示装置 Download PDF

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Abstract

本说明书提供感光性树脂组合物、感光材料、滤色器及显示装置。

Description

感光性树脂组合物、感光材料、滤色器和显示装置
技术领域
本申请主张于2018年12月21日向韩国专利局提交的韩国专利申请第10-2018-0167497号的优先权,其全部内容包含在本说明书中。
本说明书涉及感光性树脂组合物、感光材料、滤色器和显示装置。
背景技术
目前,为了实现滤色器,通常适用使用颜料作为着色剂的颜料分散法。但是,就颜料分散液而言,颜料以粒子状态存在而使光散射,而且由于颜料的微细化而导致颜料表面积急剧增加,由此引起的分散稳定性的恶化而导致生成不均匀的颜料粒子。因此,为了实现近年来要求的高亮度、高对比度和高分辨率,近年来研究了使用染料代替颜料作为着色剂的技术。
通常情况下,染料与颜料相比,具有透过率高的优点。但是,与颜料相比存在耐热性不足的缺点。并且与现有的颜料相比,对有机溶剂的溶解度良好,因此存在耐化学性不足的缺点。
发明内容
技术课题
本说明书提供感光性树脂组合物、感光材料、滤色器及显示装置。
课题的解决方法
本说明书的一实施方式提供一种感光性树脂组合物,其中,包含呫吨染料、含有由下述化学式1表示的结构的粘合剂树脂、多官能性单体、光引发剂、以及溶剂。
[化学式1]
在上述化学式1中,
是指与其它取代基或结合部连接的部分,
Lm为取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-,
m为0至3的整数,m为2以上时,Lm彼此相同或不同,
L'为直接键合、或者取代或未取代的亚烷基,
T1至T4彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、或者取代或未取代的烷基,
t2为0至2的整数,t2为2时,T2彼此相同或不同。
本说明书的一实施方式提供包括上述感光性树脂组合物的感光材料。
本说明书的一实施方式提供包括上述感光材料的滤色器。
本说明书的一实施方式提供包括上述滤色器的显示装置。
发明效果
根据本说明书的一实施方式的感光性树脂组合物可以用作色料,通过包含含有由化学式1表示的结构的粘合剂树脂,从而耐热特性优异。
具体实施方式
下面,对本说明书更详细地进行说明。
在本说明书中,当指出某一构件位于另一个构件“上”时,其不仅包括某一构件与另一构件接触的情况,还包括两构件之间存在其它构件的情况。
在本说明书中,当指出某一部分“包含/包括”某一构成要素时,只要没有特别相反的记载,则意味着可以进一步包含/包括其它构成要素,而不是将其它构成要素排除。
在本说明书中,是指与其它取代基或结合部结合的部位。
上述结合部是指根据本说明书的一实施方式的化学式之间连接的部分。
本说明书的一实施方式提供一种感光性树脂组合物,包含呫吨染料、含有由下述化学式1表示的结构的粘合剂树脂、多官能性单体、光引发剂、以及溶剂。
[化学式1]
在上述化学式1中,
是指与其它取代基或结合部连接的部分,
Lm为取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-,
m为0至3的整数,m为2以上时,Lm彼此相同或不同,
L'为直接键合、或者取代或未取代的亚烷基,
T1至T4彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、或者取代或未取代的烷基,
t2为0至2的整数,t2为2时,T2彼此相同或不同。
根据本说明书的一实施方式的感光性树脂组合物通过包含含有由上述化学式1表示的结构的粘合剂树脂,自由基防止残留单体之间彼此结合而形成淡黄色(Yellowish)的化合物,从而可以提高耐热性。
由根据本说明书的化学式1和2表示的化合物的取代基的例示在下文中进行说明,但并不限定于此。
在本说明书中,“取代或未取代的”这一用语是指被选自氘;卤素基团;腈基;硝基;-OH;羰基;酯基;-COOH;酰亚胺基;酰胺基;阴离子性基团;烷氧基;烷基;环烷基;烯基;环烯基;芳烷基;膦基;磺酸酯/盐基;胺基;芳基;杂芳基;甲硅烷基;硼基;丙烯酰基;丙烯酸酯基;醚基;含有N、O、S或P原子中的1个以上的杂环基和阴离子性基团中的1个以上的取代基取代或不具有任何取代基。
在本说明书中,作为卤素基团的例子,有氟、氯、溴或碘。
在本说明书中,上述烷基可以为直链或支链,碳原子数没有特别限定,但上述烷基的碳原子数可以为1至30。根据另一实施方式,上述烷基的碳原子数为1至20。根据另一实施方式,上述烷基的碳原子数为1至10。作为烷基的具体例子,有甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基等,但并不限定于此。在本说明书中,环烷基没有特别限定,但优选为碳原子数3至30的环烷基,特别是,优选为环戊基、环己基,但并不限定于此。
在本说明书中,亚烷基是指烷烃(alkane)上有两个结合位置的基团。上述亚烷基可以为直链、支链或环状。亚烷基的碳原子数没有特别限定,例如,碳原子数可以为1至30。此外,碳原子可以为1至20,碳原子数可以为1至10。
在本说明书中,环烷基没有特别限定,但根据一实施方式,上述环烷基的碳原子数为3至30。根据另一实施方式,上述环烷基的碳原子数为3至20。根据另一实施方式,上述环烷基的碳原子数为3至6。具体而言,有环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基等,但并不限定于此。
在本说明书中,芳基没有特别限定,但优选碳原子数为6至60的芳基,可以为单环芳基或多环芳基。根据一实施方式,上述芳基的碳原子数为6至30。根据一实施方式,上述芳基的碳原子数为6至20。关于上述芳基,作为单环芳基,可以为苯基、联苯基、三联苯基等,但并不限定于此。作为上述多环芳基,可以为萘基、蒽基、茚基、菲基、芘基、苝基、三苯基、基、芴基等,但并不限定于此。
在本说明书中,上述杂环基是包含O、N或S作为杂原子的杂环基,碳原子数没有特别限定,但碳原子数为2至30,具体而言,碳原子数为2至20。作为杂环基的例子,有噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、噻唑基、唑基、/>二唑基、三唑基、吡啶基、联吡啶基、三嗪基、吖啶基、哒嗪基、喹啉基、异喹啉基、吲哚基、咔唑基、苯并/>唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并咔唑基、苯并噻吩基、二苯并噻吩基、苯并呋喃基、二苯并呋喃基等,但并不仅限于此。
在本说明书中,杂芳基为芳香族,除此以外,可以适用上述的关于杂环基的说明。
在本说明书中,上述烷氧基可以为直链或支链,碳原子数没有特别限定,但可以为1至30,具体而言,可以为1至20,更具体而言,可以为1至10。
在本说明书中,阴离子性基团与化学式1的结构具有化学键,上述化学键可以是指离子键。上述阴离子性基团没有特别限定,例如可以适用美国专利第7,939,644号、日本特开第2006-003080号、日本特开第2006-001917号、日本特开第2005-159926号、日本特开第2007-7028897号、日本特开第2005-071680号、韩国申请公开第2007-7000693号、日本特开第2005-111696号、日本特开第2008-249663号、日本特开第2014-199436中记载的阴离子。
作为上述阴离子性基团的具体例子,有三氟甲磺酸根阴离子、双(三氟甲基磺酰基)酰胺阴离子、双三氟甲烷磺酰亚胺阴离子、双全氟乙基磺酰亚胺阴离子、四苯基硼酸盐阴离子、四(4-氟苯基)硼酸盐、四(五氟苯基)硼酸盐、三(三氟甲烷磺酰基)甲基化物、SO3-、CO2 -、SO2N-SO2CF3、SO2N-SO2CF2CF3、卤素基团、例如氟基团、碘基团、氯基团等,但不仅限于此。
在本说明书中,阴离子性基团其自身可以具有阴离子,或者可以与其它阳离子一同以配合物的形态存在。因此,根据取代的阴离子性基团的个数,本发明的化合物分子的整体电荷之和可能发生变化。本发明的化合物的一个胺基中具有阳离子,因此分子整体电荷之和可以具有从取代的阴离子性基团的个数中减去1而得的值程度的阴离子至0的值。
在本说明书中,“(甲基)丙烯酸”表示选自丙烯酸和甲基丙烯酸中的至少1种。“(甲基)丙烯酸”的标记也具有相同的含义。
在本说明书的一实施方式中,上述呫吨染料由下述化学式2表示。
[化学式2]
在上述化学式2中,
R1至R6彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、卤素基团、硝基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳基、以及取代或未取代的杂芳基,
R7至R11彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、-OH、-SO3 -、-SO3H、-SO3 -Z+、-COO-、-COOH、-COO-Z+、-COORa、-SO3Rb、-SO2NRcRd、-CONReRe’、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、以及取代或未取代的杂芳基,
Z+表示[N(Rf)4]+、Na+或、K+
Ra至Rf和Re'彼此相同或不同,各自独立地选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、以及取代或未取代的杂芳基,
其中,Rc和Rd可以彼此结合而形成含有氮原子的杂环,
Rf可以相同或不同,
上述R7至R11中的至少一个为-SO3 -、-SO3H、-SO3 -Z+、-COO-、-COO-Z+、-COORa、-SO3Rb、或-SO2NRcRd,
R12至R15彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、以及取代或未取代的杂芳基,
Q1和Q2彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、或者取代或未取代的亚烷基,
Rx为阴离子性基团或铵结构,
a为0或1。
在本说明书的一实施方式中,R1至R6彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、卤素基团、硝基、碳原子数1至30的取代或未取代的烷基、碳原子数1至30的取代或未取代的烷氧基、碳原子数6至30的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至30的取代或未取代的杂芳基。
在本说明书的一实施方式中,R1至R6彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、卤素基团、硝基、碳原子数1至20的取代或未取代的烷基、碳原子数1至20的取代或未取代的烷氧基、碳原子数6至20的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至20的取代或未取代的杂芳基。
在本说明书的一实施方式中,R1至R6为氢、或者取代或未取代的甲基。
在本说明书的一实施方式中,R1至R6为氢或甲基。
在本说明书的一实施方式中,R7至R11彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、-OH、-SO3 -、-SO3H、-SO3 -Z+、-COO-、-COOH、-COO-Z+、-COORa、-SO3Rb、-SO2NRcRd、-CONReRe’、碳原子数1至30的取代或未取代的烷基、碳原子数6至30的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至30的取代或未取代的杂芳基。
在本说明书的一实施方式中,R7至R11彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、-OH、-SO3 -、-SO3H、-SO3 -Z+、-COO-、-COOH、-COO-Z+、-COORa、-SO3Rb、-SO2NRcRd、-CONReRe’、碳原子数1至20的取代或未取代的烷基、碳原子数6至20的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至20的取代或未取代的杂芳基。
在本说明书的一实施方式中,R7至R11彼此相同或不同,各自独立地选自氢、-SO3 -、-SO3H、-SO3 -Z+、-COO-、-COO-Z+、-COORa、-SO3Rb、以及-SO2NRcRd。
在本说明书的一实施方式中,R7至R11彼此相同或不同,各自独立地选自氢、-SO3 -、-SO3H、-COO-、-COO-Z+、以及-COORa。
在本说明书的一实施方式中,Z+为[N(Rf)4]+、Na+或K+
在本说明书的一实施方式中,Z+为Na+
在本说明书的一实施方式中,Ra至Rf和Re'彼此相同或不同,各自独立地选自氢、碳原子数1至30的取代或未取代的烷基、碳原子数6至30的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至30的取代或未取代的杂芳基,Rc和Rd可以彼此结合而形成含有氮原子的杂环,Rf可以相同或不同。
在本说明书的一实施方式中,Ra至Rf和Re'彼此相同或不同,各自独立地选自氢、碳原子数1至20的取代或未取代的烷基、碳原子数6至20的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至20的取代或未取代的杂芳基,Rc和Rd可以彼此结合而形成含有氮原子的杂环,Rf可以相同或不同。
在本说明书的一实施方式中,Ra至Rf和Re'彼此相同或不同,各自独立地为氢、碳原子数1至10的取代或未取代的烷基、碳原子数6至20的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至20的取代或未取代的杂芳基,Rc和Rd可以彼此结合而形成含有氮原子的杂环,Rf可以相同或不同。
在本说明书的一实施方式中,Ra为取代或未取代的甲基。
在本说明书的一实施方式中,Ra为甲基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数1至20的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数3至20的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数3至20的直链或支链的烷基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数3至20的支链的烷基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数1至10的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数1至10的直链或支链的烷基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数1至10的支链的烷基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者取代或未取代的2-乙基己基。
在本说明书的一实施方式中,Rc和Rd彼此相同或不同,各自独立地为氢、或2-乙基己基。
在本说明书的一实施方式中,-SO2NRcRd可以由-SO2NHY表示,上述Y可以适用上述Rc和Rd的定义。
在本说明书的一实施方式中,R12至R15彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、碳原子数1至30的取代或未取代的烷基、碳原子数6至30的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至30的取代或未取代的杂芳基。
在本说明书的一实施方式中,R12至R15彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、碳原子数1至20的取代或未取代的烷基、碳原子数6至20的取代或未取代的芳基、以及碳原子数2至20的取代或未取代的杂芳基。
在本说明书的一实施方式中,R12至R15彼此相同或不同,各自独立地选自氢、碳原子数1至10的取代或未取代的烷基、以及碳原子数6至12的取代或未取代的芳基。
在本说明书的一实施方式中,R12和R14彼此相同或不同,各自独立地为氢、取代或未取代的乙基、或者取代或未取代的丙基。
在本说明书的一实施方式中,R12和R14彼此相同或不同,各自独立地为氢、乙基、正丙基、或异丙基。
在本说明书的一实施方式中,R13和R15彼此相同或不同,各自独立地为取代或未取代的乙基、或者取代或未取代的苯基。
在本说明书的一实施方式中,R13和R15彼此相同或不同,各自独立地为乙基、或被选自甲基、-SO2NHY、-SO3 -和-SO3H中的一个以上取代的苯基,Y与上述的相同。
在本说明书的一实施方式中,Q1和Q2彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、或者碳原子数1至30的取代或未取代的亚烷基。
在本说明书的一实施方式中,Q1和Q2彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、或者碳原子数1至20的取代或未取代的亚烷基。
在本说明书的一实施方式中,Q1和Q2彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、或者碳原子数1至10的取代或未取代的亚烷基。
在本说明书的一实施方式中,Q1和Q2彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、取代或未取代的亚甲基、取代或未取代的亚乙基、或者取代或未取代的亚丙基。
在本说明书的一实施方式中,Q1和Q2彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、亚甲基、亚乙基、或亚丙基。
在本说明书的一实施方式中,Rx为阴离子性基团或铵结构。
在本说明书的一实施方式中,Rx为阴离子性基团,上述阴离子性基团为氯基团(Cl-)。
在本说明书的一实施方式中,Rx为铵结构,上述铵结构可以由下述化学式A表示。
[化学式A]
在上述化学式A中,
A1至A4彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,A1至A4彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数1至30的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,A1至A4彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数1至20的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,A1至A4彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者碳原子数1至12的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,a为0或1。
在本说明书的一实施方式中,a为0。
在本说明书的一实施方式中,a为1。
在本说明书的一实施方式中,上述化学式2可以由下述结构中的任一个表示。
在上述结构中,Y为碳原子数3至20的支链的烷基。具体而言,上述Y为2-乙基己基。
在上述结构中,由表示的结构的意思是指,在/>的苯基中所含有的碳原子中,在除了由甲基取代的部分以外的碳原子中的任一个上可以取代有-SO2NHY。
在上述结构中,由表示的结构的意思是指,在/>的苯基所含有的碳原子中,在除了由甲基取代的部分以外的碳原子中的任一个上可以取代有-SO3 -
在本说明书的一实施方式中,Lm为取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,Lm为碳原子数1至30的取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,Lm为碳原子数1至20的取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,Lm为碳原子数1至10的取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,Lm为取代或未取代的亚乙基、取代或未取代的亚丙基、取代或未取代的亚丁基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,Lm为亚乙基、亚丙基、被羟基取代的亚丙基、亚丁基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,L'为直接键合、或者碳原子数1至30的取代或未取代的亚烷基。
在本说明书的一实施方式中,L'为直接键合、或者碳原子数1至20的取代或未取代的亚烷基。
在本说明书的一实施方式中,L'为直接键合、或者碳原子数1至10的取代或未取代的亚烷基。
在本说明书的一实施方式中,L'为直接键合、取代或未取代的亚甲基、取代或未取代的亚乙基、取代或未取代的亚丙基、或取代或未取代的亚丁基。
在本说明书的一实施方式中,L'为直接键合、被甲基取代的亚甲基、亚乙基、亚丙基、或亚丁基。
在本说明书的一实施方式中,m为0至3的整数。
在本说明书的一实施方式中,m为0。
在本说明书的一实施方式中,m为1。
在本说明书的一实施方式中,m为2。
在本说明书的一实施方式中,m为3。
在本说明书的一实施方式中,T1至T4彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、或者碳原子数1至30的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,T1至T4彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、或者碳原子数1至20的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,T1至T4彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、或者碳原子数1至10的取代或未取代的烷基。
在本说明书的一实施方式中,T1至T4彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、取代或未取代的甲基、或者取代或未取代的叔丁基。
在本说明书的一实施方式中,T1至T4彼此相同或不同,各自独立地为氢、甲基、或叔丁基。
在本说明书的一实施方式中,T1为氢或甲基。
在本说明书的一实施方式中,T2为氢。
在本说明书的一实施方式中,上述T3和T4为叔丁基。
在本说明书的一实施方式中,t2为0至2的整数。
在本说明书的一实施方式中,上述化学式1可以由下述化学式1-A表示。
[化学式1-A]
在上述化学式1-A中,
是指与其它取代基或结合部连接的部分,
L1至L3彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-,
L'为取代或未取代的亚烷基,
T1至T4彼此相同或不同,各自独立地为氢、氘、或者取代或未取代的烷基,t2为0至2的整数,t2为2时,T2彼此相同或不同。
在本说明书的一实施方式中,L1至L3彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、碳原子数1至30的取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,L1至L3彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、碳原子数1至20的取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,L1至L3彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、碳原子数1至10的取代或未取代的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,L1至L3彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、取代或未取代的亚乙基、取代或未取代的亚丙基、取代或未取代的亚丁基、-L'-COO-、或-OCO-。
在本说明书的一实施方式中,L1至L3彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、亚乙基、亚丙基、被羟基取代的亚丙基、亚丁基、-L'-COO-、或-OCO-。
在上述化学式1-A中,L'、T1至T4、t2与上述化学式1中的定义相同。
在本说明书的一实施方式中,上述化学式1可以由下述结构中的任一个表示,但并不限定于此。
在本说明书的一实施方式中,上述粘合剂树脂可以进一步包含一个以上由下述化学式4至6中的任一个表示的结构。
[化学式4]
/>
[化学式5]
[化学式6]
在上述化学式4至6中,
是指与其它取代基或结合部连接的部分,
L41、L51、L52和L61彼此相同或不同,各自独立地为取代或未取代的亚烷基,
X1、X2、Y1、Y2和Z1彼此相同或不同,各自独立地为氢、或者取代或未取代的烷基,
x2为0至5的整数,x2为2以上时,X2彼此相同或不同,
y2为0至3的整数,y2为2以上时,Y2彼此相同或不同。
在本说明书的一实施方式中,上述化学式4可以由下述结构表示,但并不限定于此。
在本说明书的一实施方式中,上述化学式5可以由下述结构表示,但并不限定于此。
在本说明书的一实施方式中,上述化学式6可以由下述结构表示,但并不限定于此。
在本说明书的一实施方式中,含有由上述化学式1表示的结构的粘合剂树脂可以进一步含有源自具有碳原子数2至4的环状醚结构的不饱和化合物的单元。
具有上述碳原子数2至4的环状醚结构的不饱和化合物可以为下述结构中的任一个,但并不限定于此。
在上述结构中,R为氢、或者碳原子数1至4的取代或未取代的烷基,X3和X4彼此相同或不同,各自为直接键合、-Rz-、-Rz-O-、-Rz-S-、或-Rz-NH-,上述Rz为碳原子数1至6的取代或未取代的烷二基。
在本说明书的一实施方式中,上述R可以为被-OH取代的碳原子数1至4的烷基。
在本说明书的一实施方式中,上述感光性树脂组合物可以进一步包含含有源自具有碳原子数2至4的环状醚结构的不饱和化合物的单元的粘合剂树脂。
具有上述碳原子数2至4的环状醚结构的不饱和化合物可以适用上述的说明。
在本说明书的一实施方式中,上述感光性树脂组合物除了包含含有由上述化学式1表示的结构的粘合剂树脂以外,可以进一步包含该技术领域中通常使用的粘合剂树脂。
本说明书的一实施方式提供一种感光性树脂组合物,其中,以上述感光性树脂组合物总重量为基准,包含:0.1至30重量%的上述呫吨染料;1至40重量%的具有由上述化学式1表示的结构的粘合剂树脂;1至40重量%的上述多官能性单体;0.1至10重量%的上述光引发剂;以及余量的溶剂。
通过使上述感光性树脂组合物的各构成要素满足上述范围,从而可以得到耐热性优异的感光性树脂组合物。
在本说明书的一实施方式中,上述粘合剂树脂的重均分子量可以为5000g/mol至50000g/mol。优选地,可以为5000g/mol至20000g/mol。更优选地,可以为9800g/mol至11300g/mol。
通过使上述粘合剂树脂满足上述重均分子量的范围,从而具有用于形成图案的适当的显影时间。
上述重均分子量是指分子量不均且以某高分子物质的分子量为基准而使用的平均分子量中的一种,是通过将具有分子量分布的高分子化合物的成分分子种类的分子量以重量分数进行平均而得到的值。
上述重均分子量可以通过凝胶渗透色谱(gel Permeation Chromatography,GPC)分析而测定。
在本说明书的一实施方式中,上述感光性树脂组合物可以进一步包含选自颜料和染料中的一种以上。
在本说明书的一实施方式中,上述颜料选自酞菁系、吡咯并吡咯二酮系、蒽醌系、紫菜嗪系、三芳基甲烷系、喹酞酮系和偶氮系。
具体而言,上述颜料可以为酞菁系蓝色颜料、或紫色颜料(Pigment violet 23),但并不限定于此。根据一个例子,上述颜料可以为C.I颜料蓝15:6。
上述感光性树脂组合物除了上述化学式1的化合物以外,可以进一步包含染料和颜料中的至少1种。例如,上述色料组合物可以只包含上述化学式1的化合物,但也可以包含上述化学式1的化合物和1种以上的染料;或可以包含上述化学式1的化合物和1种以上的颜料;或可以包含上述化学式1的化合物、1种以上的染料和1种以上的颜料。
上述染料和颜料可以选自金属复合物(metal-complex)系化合物、偶氮(azo)系化合物、金属偶氮(metal azo)系化合物、喹酞酮(quinophthalone)系化合物、异吲哚因(isoindoine)系化合物、次甲基(Methine)系化合物、酞菁(phthalocyanine)系化合物、金属酞菁(metal phthalocyanine)系化合物、卟啉(porphyrin)系化合物、金属卟啉(metalporphyrin)系化合物、四氮杂卟啉(tetra aza porphyrin)系化合物、金属四氮杂卟啉(metal tetra aza porphyrin)系化合物、花青(Cyanine)系化合物、呫吨(Xanthene)系化合物、金属二吡咯亚甲基(metal dipyrromethane)系化合物、硼二吡咯亚甲基(borondipyrromethane)系化合物、金属二吡咯亚甲基(metal dipyrromethane)系化合物、蒽醌(anthraquinone)系化合物、吡咯并吡咯二酮(diketopyrrolopyrrole)系化合物、三芳基甲烷(triarylmethane)系化合物、以及苝(perylene)系化合物中的1种以上。
上述粘合剂树脂可以利用赋予膜的机械强度的多官能性单体和赋予碱溶性的单体的共聚树脂,还可以包含该技术领域中通常使用的粘合剂。
赋予上述膜的机械强度的多官能性单体可以为不饱和羧酸酯类、芳香族乙烯基类、不饱和醚类、不饱和酰亚胺类、以及酸酐中的任一者或更多者。
作为上述不饱和羧酸酯类的具体例子,可以选自(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙基酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、酰基辛氧基-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲醚(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、对壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、对壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氟丙基酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟异丙基酯、(甲基)丙烯酸八氟戊基酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸基酯、三溴苯基(甲基)丙烯酸酯、(α-羟基甲基)丙烯酸甲酯、(α-羟基甲基)丙烯酸乙酯、(α-羟基甲基)丙烯酸丙酯和(α-羟基甲基)丙烯酸丁酯,但并不仅限于此。
作为上述芳香族乙烯基单体类的具体例,可以选自苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(邻、间、对)-乙烯基甲苯、(邻、间、对)-甲氧基苯乙烯、以及(邻、间、对)-氯苯乙烯,但并不仅限于此。
作为上述不饱和醚类的具体例子,可以选自乙烯基甲醚、乙烯基乙醚和烯丙基缩水甘油醚,但并不仅限于此。
作为上述不饱和酰亚胺的具体例子,可以选自N-苯基马来酰亚胺、N-(4-氯苯基)马来酰亚胺、N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺、以及N-环己基马来酰亚胺,但并不仅限于此。
作为上述酸酐,有马来酸酐、甲基马来酸酐、四氢化邻苯二甲酸酐等,但并不仅限于此。
上述赋予碱溶性的单体只要包含酸基团,则没有特别限定,例如优选使用选自(甲基)丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、马来酸、富马酸、单甲基马来酸、5-降冰片烯-2-羧酸、单-2-((甲基)丙烯酰氧基)乙基邻苯二甲酸酯、单-2-((甲基)丙烯酰氧基)乙基琥珀酸酯、ω-羧基聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯中的一种以上,但并不仅限于此。
根据本说明书的一实施方式,上述粘合剂树脂的酸值可以为10至150KOHmg/g。
上述粘合剂树脂的酸值可以用0.1N浓度的氢氧化钾(KOH)甲醇溶液进行滴定而测定。
在本说明书中,上述多官能性单体可以为二季戊四醇五丙烯酸酯。
上述光引发剂只要是通过光产生自由基而触发交联的引发剂,则没有特别限定,例如可以为选自苯乙酮系化合物、联咪唑系化合物、三嗪系化合物和肟系化合物中的1种以上。
上述苯乙酮系化合物有2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)-苯基-(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基苯基甲酮、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丁醚、苯偶姻丁醚、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-甲基-(4-甲基硫代)苯基-2-吗啉代-1-丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮、2-(4-溴-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮或2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮等,但并不限定于此。
作为上述联咪唑系化合物,有2,2-双(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑、2,2'-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四(3,4,5-三甲氧基苯基)-1,2'-联咪唑、2,2'-双(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑、2,2'-双(邻氯苯基)-4,4,5,5'-四苯基-1,2'-联咪唑等,但并不限定于此。
上述三嗪系化合物有3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、1,1,1,3,3,3-六氟异丙基-3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸酯、乙基2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯、2-环氧基乙基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯、环己基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯、苄基-2-{4-[2,4-双(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}乙酸酯、3-{氯-4-[2,4-双(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酸、3-{4-[2,4-双(三氯甲基)-均三嗪-6-基]苯硫基}丙酰胺、2,4-双(三氯甲基)-6-对甲氧基苯乙烯基-均三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(1-对二甲基氨基苯基)-1,3-丁二烯基-均三嗪、2-三氯甲基-4-氨基-6-对甲氧基苯乙烯基-均三嗪等,但并不限定于此。
上述肟系化合物有1-(4-苯硫基)苯基-1,2-辛二酮-2-(o-苯甲酰肟)(CIBA-GEIGY公司,CGI124)、1-(9-乙基)-6-(2-甲基苯甲酰-3-基)-乙酮-1-(O-乙酰肟)(CCI242)、N-1919(ADECA公司)等,但并不限定于此。
上述光引发剂可以为三养社的SPI-03。
上述溶剂可以为选自丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、四氢呋喃、1,4-二烷、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚、氯仿、二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烯、己烷、庚烷、辛烷、环己烷、苯、甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、异丙醇、丙醇、丁醇、叔丁醇、2-乙氧基丙醇、2-甲氧基丙醇、3-甲氧基丁醇、环己酮、环戊酮、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、甲基溶纤剂乙酸酯、乙酸丁酯、丙二醇单甲醚和二丙二醇单甲醚中的1种以上,但并不仅限于此。
根据本说明书的一实施方式,上述感光性树脂组合物可以进一步包含抗氧化剂。
根据本说明书的一实施方式,以上述感光性树脂组合物总重量为基准,上述抗氧化剂的含量为0.1重量%至20重量%。
根据本说明书的一实施方式,上述感光性树脂组合物进一步包含选自光交联敏化剂、固化促进剂、密合促进剂、表面活性剂、热聚合抑制剂、紫外线吸收剂、分散剂、粘接助剂、多硫醇剂和流平剂中的1种或2种以上的添加剂。
具体而言,在本说明书中,上述添加剂可以为表面活性剂、多硫醇剂、抗氧化剂或粘接助剂。
根据本说明书的一实施方式,以上述感光性树脂组合物总重量为基准,上述添加剂的含量为0.1重量%至20重量%。
上述光交联敏化剂可以使用选自二苯甲酮、4,4-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4-双(二乙基氨基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基氨基二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、3,3,4,4-四(叔丁基过氧化羰基)二苯甲酮等二苯甲酮系化合物;9-芴酮、2-氯-9-芴酮、2-甲基-9-芴酮等芴酮系化合物;噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、异丙基噻吨酮、二异丙基噻吨酮等噻吨酮系化合物;呫吨酮、2-甲基呫吨酮等呫吨酮系化合物;蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、叔丁基蒽醌、2,6-二氯-9,10-蒽醌等蒽醌系化合物;9-苯基吖啶、1,7-双(9-吖啶基)庚烷、1,5-双(9-吖啶基戊烷)、1,3-双(9-吖啶基)丙烷等吖啶系化合物;苯偶酰、1,7,7-三甲基-二环[2,2,1]庚烷-2,3-二酮、9,10-菲醌等二羰基化合物;2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦等氧化膦系化合物;4-(二甲基氨基)苯甲酸甲酯、4-(二甲基氨基)苯甲酸乙酯、2-正丁氧基乙基4-(二甲基氨基)苯甲酸酯等苯甲酸酯系化合物;2,5-双(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮、2,6-双(4-二乙基氨基亚苄基)环己酮、2,6-双(4-二乙基氨基亚苄基)-4-甲基-环戊酮等氨基增效剂;3,3-羰基乙烯基-7-(二乙基氨基)香豆素、3-(2-苯并噻唑基)-7-(二乙基氨基)香豆素、3-苯甲酰基-7-(二乙基氨基)香豆素、3-苯甲酰基-7-甲氧基-香豆素、10,10-羰基双[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氢-1H,5H,11H-C1]-苯并吡喃并[6,7,8-ij]-喹嗪-11-酮等香豆素系化合物;4-二乙基氨基查耳酮、4-叠氮亚苄基苯乙酮等查尔酮化合物;2-苯甲酰亚甲基;3-甲基-b-萘并噻唑啉中的1种以上。
上述固化促进剂用于固化和提高机械强度,具体而言,可以使用选自2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并唑、2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、2-巯基-4,6-二甲基氨基吡啶、季戊四醇-四(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇-三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇-四(2-巯基乙酸酯)、季戊四醇-三(2-巯基乙酸酯)、三羟甲基丙烷-三(2-巯基乙酸酯)、以及三羟甲基丙烷-三(3-巯基丙酸酯)中的1种以上。
上述粘接助剂可以使用该技术领域中通常使用的材料,在一实施方式中,上述粘接助剂可以为KBM-503。
上述多硫醇剂可以使用该技术领域中通常使用的材料,在一实施方式中,上述多硫醇剂可以为PE-01。
作为本说明书中使用的密合促进剂,可以使用选自甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基二甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基二甲氧基硅烷等甲基丙烯酰基硅烷偶联剂中的1种以上,作为烷基三甲氧基硅烷,可以使用选自辛基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三甲氧基硅烷等中的1种以上。
上述表面活性剂为硅系表面活性剂或氟系表面活性剂,具体而言,硅系表面活性剂可以使用BYK-Chemie公司的BYK-077、BYK-085、BYK-300、BYK-301、BYK-302、BYK-306、BYK-307、BYK-310、BYK-320、BYK-322、BYK-323、BYK-325、BYK-330、BYK-331、BYK-333、BYK-335、BYK-341v344、BYK-345v346、BYK-348、BYK-354、BYK-355、BYK-356、BYK-358、BYK-361、BYK-370、BYK-371、BYK-375、BYK-380、BYK-390等,作为氟系活性剂,可以使用DIC(DaiNippon Ink&Chemicals)公司的F-114、F-177、F-410、F-411、F-450、F-493、F-494、F-443、F-444、F-445、F-446、F-470、F-471、F-472SF、F-474、F-475、F-477、F-478、F-479、F-480SF、F-482、F-483、F-484、F-486、F-487、F-554、F-172D、MCF-350SF、TF-1025SF、TF-1117SF、TF-1026SF、TF-1128、TF-1127、TF-1129、TF-1126、TF-1130、TF-1116SF、TF-1131、TF1132、TF1027SF、TF-1441、TF-1442等,但并不仅限于此。
在本说明书的一实施方式中,上述表面活性剂具体为氟系表面活性剂,可以为F-554。
作为上述抗氧化剂,可以为选自受阻酚系(Hindered phenol)抗氧化剂、胺系抗氧化剂、硫系抗氧化剂和膦系抗氧化剂中的1种以上,但并不仅限于此。
作为上述抗氧化剂的具体例子,可列举出磷酸、磷酸三甲酯或磷酸三乙酯等磷酸系热稳定剂;2,6-二叔丁基对甲酚、十八烷基-3-(4-羟基-3,5-二叔丁基苯基)丙酸酯、四[亚甲基-3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯、3,5-二叔丁基-4-羟基苄基亚磷酸二乙酯、2,2-硫代双(4-甲基-6叔丁基苯酚)、2,6-g,t-丁基苯酚4,4'-亚丁基-双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4'-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)或双[3,3-双-(4'-羟基-3'-叔丁基苯基)丁酸]乙二醇酯(Bis[3,3-bis-(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl)butanoicacid]glycol ester)等受阻酚(Hindered phenol)系主抗氧化剂;苯基-α-萘胺、苯基-β-萘胺、N,N'-二苯基-对苯二胺或N,N'-二-β-萘基-对苯二胺等胺系辅助抗氧化剂;二月桂基二硫化物、硫代丙酸二月桂酯、硫代丙酸二硬脂醇酯、巯基苯并噻唑或四甲基秋兰姆二硫化物、四[亚甲基-3-(月桂基硫代)丙酸酯]甲烷等硫系辅助抗氧化剂;或者亚磷酸三苯酯、亚磷酸三(壬基苯基)酯、亚磷酸三异癸酯、双(2,4-二丁基苯基)季戊四醇二亚磷酸酯(Bis(2,4-ditbutylphenyl)Pentaerythritol Diphosphite)或(1,1'-联苯)-4,4'-二基二亚膦酸四[2,4-双(1,1-二甲基乙基)苯基]酯((1,1'-Biphenyl)-4,4'-Diylbisphosphonous acid tetrakis[2,4-bis(1,1-dimethyl ethyl)phenyl]ester)等亚磷酸酯系辅助抗氧化剂。
在本说明书中,上述抗氧化剂具体可以为受阻酚系抗氧化剂,可以为Songnox-1010(松原产业)。
作为上述紫外线吸收剂,可以使用2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯-苯并三唑、烷氧基二苯甲酮等,但并不限定于此,本领域常用的材料均可以使用。
作为上述热聚合抑制剂,例如可以包含选自对苯甲醚、氢醌、邻苯二酚(pyrocatechol)、叔丁基邻苯二酚(t-butyl catechol)、N-亚硝基苯基羟基胺铵盐、N-亚硝基苯基羟基胺铝盐、对甲氧基苯酚、二叔丁基对甲酚、连苯三酚、苯醌、4,4-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2-巯基咪唑和吩噻嗪(phenothiazine)中的1种以上,但并不仅限于此,可以包含该技术领域中通常已知的热聚合抑制剂。
上述分散剂可以通过以预先对颜料进行表面处理的形态向颜料进行内部添加的方法、或向颜料进行外部添加的方法来使用。作为上述分散剂,可以使用化合物型、非离子性、阴离子性或阳离子性分散剂,可举出氟系、酯系、阳离子系、阴离子系、非离子系、两性表面活性剂等。这些可以各自使用或组合两种以上使用。
具体而言,上述分散剂有选自聚亚烷基二醇及其酯、聚氧化烯多元醇、酯烯化氧加成物、醇烯化氧加成物、磺酸酯、磺酸盐、羧酸酯、羧酸盐、烷基酰胺烯化氧加成物、以及烷基胺中的1种以上,但并不限定于此。
作为上述流平剂,可以为聚合性或非聚合性。作为聚合性的流平剂的具体例,可以举出聚乙烯亚胺、聚酰胺-胺、胺与环氧化物的反应生成物,作为非聚合性的流平剂的具体例,包含非聚合含硫化合物和非聚合含氮化合物,但并不限定于此,该领域常用的流平剂均可使用。
根据本说明书的一实施方式,提供包含上述感光性树脂组合物的感光材料。
包含上述感光性树脂组合物的感光材料中包含含有由上述化学式1表示的结构的粘合剂树脂,可以通过气相色谱质谱法(GC/MS),具体而言,可以通过热分解气相色谱质谱法(Py-GC/MS)分析来确认。
更详细而言,将本说明书的感光性树脂组合物通过合适的方法涂布到基板上,并进行固化,从而形成薄膜或图案形态的感光材料。
作为上述涂布方法,没有特别限定,可以使用喷涂法、辊涂法、旋涂法等,一般广泛使用旋涂法。另外,在形成涂覆膜后,可以根据情况,在减压下去除部分残留溶剂。
作为用于使本根据说明书的感光性树脂组合物固化的光源,例如有射出波长在250nm至450nm的光的汞蒸气弧(arc)、碳弧、Xe弧等,但并不限定于此。
根据本说明书的感光性树脂组合物可以用于薄膜晶体管液晶显示装置(TFT LCD)滤色器制造用颜料分散型感光材料、薄膜晶体管液晶显示装置(TFT LCD)或有机发光二极管的黑色矩阵形成用感光材料、外涂层形成用感光材料、柱状间隔物感光材料、光固化型涂料、光固化型油墨、光固化型粘接剂、印刷版、印刷配线板用感光材料、等离子体显示面板(PDP)用感光材料等,但其用途没有特别限定。
根据本说明书的一实施方式,提供包含上述感光材料的滤色器。
上述滤色器可以利用包含含有由上述化学式1表示的结构的粘合剂树脂的感光性树脂组合物来制造。在基板上涂布上述感光性树脂组合物而形成涂覆膜,并且将上述涂覆膜曝光、显影和固化,从而可以形成滤色器。
上述基板可以为玻璃板、硅片以及聚醚砜(Polyethersulfone,PES)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)等塑料基材的板等,其种类没有特别限定。
上述滤色器可以包含红色图案、绿色图案、蓝色图案、黑色矩阵。
根据另一实施方式,上述滤色器可以进一步包含外涂层。
出于提高对比度的目的,可以在滤色器的彩色像素之间配置被称为黑色矩阵的格子状的黑色图案。作为黑色矩阵的材料,可以使用铬。这时,可以利用将铬在玻璃基板整体上进行蒸镀,并且通过蚀刻处理来形成图案的方式。但是,考虑到工序上的高费用、铬的高反射率、由铬废液导致的环境污染,可以使用利用可进行微加工的颜料分散法而得到的树脂黑色矩阵。
根据本说明书的一实施方式的黑色矩阵可以使用黑色颜料或黑色染料作为色料。例如,可以单独使用炭黑,或者将炭黑和着色颜料混合使用,这时由于混合遮光性不足的着色颜料,因此具有即使相对性地增加色料的量,也不会降低膜的强度或对基板的密合性的优点。
提供包含根据本说明书的滤色器的显示装置。
上述显示装置可以为等离子体显示器面板(Plasma Display Panel,PDP)、发光二极管(Light Emitting Diode,LED)、有机发光元件(Organic Light Emitting Diode,OLED)、液晶显示装置(Liquid Crystal Display,LCD)、薄膜晶体管液晶显示装置(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,LCD-TFT)以及阴极射线管(Cathode RayTube,CRT)中的任一种。
实施发明的方式
下面,为了对本说明书进行具体说明,举出实施例而详细地进行说明。但是,根据本说明书的实施例可以变成为各种不同的形态,不解释为本说明书的范围限定于下文中记述的实施例。本说明书的实施例是用于向本领域技术人员更完整地说明本说明书而提供的。
<实施例>
1.呫吨染料的合成实施例
[合成例1]
在25g的N-甲基-2-吡咯烷酮(N-methyl-2-pyrrolidone)中,加入5g(12.34mmol,1eq)的[A]、7.48g(61.692mmol,5eq)的2,6-二甲基苯胺(2,6-dimethylaniline),一边升温至150℃一边搅拌。添加后回流(reflux)1小时,然后进行减压过滤。在真空烘箱(Vacuumoven)中干燥,从而得到了3.07g(收率43.0%)的[A-1]。
电离化模式:APCI+:m/z=574[M+H]+,精确质量(Exact Mass):574
2.粘合剂树脂合成实施例
[合成例2]
在反应容器中,加入40.54mol%的苯乙烯、39.63%的甲基丙烯酸缩水甘油酯、19.30%的甲基丙烯酸、1.53%的3-((3-(3,5-二叔丁基-4-羟苯基)丙酰基)氧基)-2-羟丙基甲基丙烯酸酯(3-((3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyl)oxy)-2-hydroxypropylmethacrylate),与溶剂混合,在氮气氛下混合并升温至60℃。然后,以粘合剂树脂固体成分总重量为基准,投入10重量份的热聚合引发剂V65(2,2-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile),2,2-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)),反应16小时,从而制造了粘合剂树脂A。制造的粘合剂树脂A的酸值为71mgKOH/g,重均分子量为11300g/mol。制造的粘合剂树脂A具有下述所表示的结构单元。
[合成例3]
在反应容器中,加入40.57mol%的苯乙烯、39.66%的甲基丙烯酸缩水甘油酯、19.23%的甲基丙烯酸、1.54%的2-羟基-3-(甲基丙烯酰氧基)丙基3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸酯(2-hydroxy-3-(methacryloyloxy)propyl3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate),与溶剂混合,在氮气氛下混合并升温至60℃。然后,以粘合剂树脂固体成分总重量为基准,加入10重量份的热聚合引发剂V65(2,2-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile),2,2-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)),反应16小时,从而制造了粘合剂树脂B。
制造的粘合剂树脂B的酸值为76mgKOH/g,重均分子量为10600g/mol。制造的粘合剂树脂B具有下述所表示的结构单元。
[合成例4]
在反应容器中,加入40.57mol%的苯乙烯、39.66%的甲基丙烯酸缩水甘油酯、19.27%的甲基丙烯酸、1.50%的2,6-二叔丁基-4-乙烯基苯酚(2,6-di-tert-butyl-4-vinylphenol),与溶剂混合,在氮气氛下混合并升温至60℃。然后,以粘合剂树脂固体成分总重量为基准,加入10重量份的热聚合引发剂V65(2,2-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile),2,2-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)),反应16小时,从而制造了粘合剂树脂C。
制造的粘合剂树脂C的酸值为75mgKOH/g,重均分子量为9800。制造的粘合剂树脂C具有下述所表示的结构单元。
[合成例5]
在反应容器中,加入51.75mol%的甲基丙烯酸苄酯,8.63%的N-苯基马来酰亚胺、10.35mol%的苯乙烯、29.28mol%的甲基丙烯酸,与溶剂混合,在氮气氛下混合并升温至60℃。然后,以粘合剂树脂固体成分总重量为基准,加入10重量份的热聚合引发剂V65(2,2-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile),2,2-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)),反应16小时,从而制造了粘合剂树脂D。
制造的粘合剂树脂D的酸值为125mgKOH/g,重均分子量为8100。
制造的粘合剂树脂D具有下述所表示的结构单元。
[感光性树脂组合物的制造]
[感光性树脂组合物比较例1的制造]
混合在下述表1中所示的组成来制造比较例1的感光性树脂组合物。
[表1]
[感光材料树脂组合物比较例2的制造]
混合下述表2所示的组成来制造比较例2的感光性树脂组合物。
[表2]
[感光性树脂组合物实施例1至3的制造]
以与上述表1所记载的相同的含量,如下述表3所记载的那样适用粘合剂树脂,从而制造了实施例1至3的感光性树脂组合物。
[表3]
实施例1 实施例2 实施例3
粘合剂树脂 A B C
<实验例>
[制作基板]
将根据上述实施例1至3、比较例1和2制造的感光性树脂组合物旋涂在玻璃(5cm×5cm)上,在110℃进行70秒的前烘处理而形成膜。利用光罩将上述膜在高压水银灯下以40mJ/cm2的能量进行曝光,然后利用KOH碱水溶液将图案进行显影,并用蒸馏水洗涤。去除蒸馏水后,以230℃进行20分钟后烘处理,从而得到了彩色图案。
[耐热性评价]
对以如上所述的条件制作的后烘处理基板,利用光谱仪(MCPD,大冢公司)得到了380至780nm波长范围的吸收光谱。
将后烘处理基板进一步在230℃处理120分钟,从而得到了相同设备和相同测定范围下的透射率光谱。
利用通过将C光源作为背光而得到的吸收光谱得到的值L*、a*、b*,并通过下述计算式1计算出ΔEab(耐热性)并示于下述表3。
[计算式1]
ΔEab(L*,a*,b*)={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2
ΔEab值小说明颜色变化小,从而表示耐热性优异。
[表4]
ΔEab(耐热性)
比较例1 6.37
比较例2 8.79
实施例1 2.59
实施例2 2.48
实施例3 2.15
根据上述表4,确认了与比较例1至2相比,实施例1至3的ΔEab值小,根据本说明书的感光性树脂组合物的耐热性优异。

Claims (9)

1.一种感光性树脂组合物,其中,包含呫吨染料、含有由下述化学式1表示的结构的粘合剂树脂、多官能性单体、光引发剂、以及溶剂:
化学式1
在所述化学式1中,
是指与其它取代基或结合部连接的部分,
Lm为被-OH取代或未取代的碳原子数1至10的亚烷基、-L'-COO-、或-OCO-,
m为0至3的整数,m为2以上时,Lm彼此相同或不同,
L'为直接键合、或者碳原子数1至10的亚烷基,
T1为氢或碳原子数1至10的烷基,
T2为氢,
T3和T4为碳原子数1至10的烷基,
t2为0至2的整数。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述呫吨染料由下述化学式2表示:
化学式2
在所述化学式2中,
R1至R6彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、卤素基团、硝基、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳基、以及取代或未取代的杂芳基,
R7至R11彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、-OH、-SO3 -、-SO3H、-SO3 -Z+、-COO-、-COOH、-COO-Z+、-COORa、-SO3Rb、-SO2NRcRd、-CONReRe’、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、以及取代或未取代的杂芳基,
Z+表示[N(Rf)4]+、Na+或K+
Ra至Rf和Re'彼此相同或不同,各自独立地选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、以及取代或未取代的杂芳基,
其中,Rc和Rd任选地彼此结合而形成包含氮原子的杂环,
Rf任选地相同或不同,
所述R7至R11中的至少一个为-SO3 -、-SO3H、-SO3 -Z+、-COO-、-COO-Z+、-COORa、-SO3Rb、或-SO2NRcRd,
R12至R15彼此相同或不同,各自独立地选自氢、氘、取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、以及取代或未取代的杂芳基,
Q1和Q2彼此相同或不同,各自独立地为直接键合、或者取代或未取代的亚烷基,
Rx为阴离子性基团或铵结构,
a为0或1,
其中“取代或未取代的”这一用语是指被选自氘;卤素基团;腈基;-OH;烷基;芳基;和杂芳基中的1个以上的取代基取代或不具有任何取代基。
3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,以所述感光性树脂组合物总重量为基准,包含:
0.1至30重量%的所述呫吨染料;
1至40重量%的含有由所述化学式1表示的结构的所述粘合剂树脂;
1至40重量%的所述多官能性单体;
0.1至10重量%的所述光引发剂;以及
余量的所述溶剂。
4.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述粘合剂树脂的重均分子量为5000g/mol至50000g/mol。
5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述感光性树脂组合物进一步包含选自颜料和染料中的一种以上。
6.根据权利要求5所述的感光性树脂组合物,其中,所述颜料选自酞菁系、吡咯并吡咯二酮系、蒽醌系、紫菜嗪系、三芳基甲烷系、喹酞酮系和偶氮系。
7.一种感光材料,其中,包含权利要求1至6中任一项所述的感光性树脂组合物。
8.一种滤色器,其中,包括权利要求7所述的感光材料。
9.一种显示装置,其中,包括权利要求8所述的滤色器。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0987534A (ja) 1995-09-25 1997-03-31 Konica Corp インクジェット記録液
JP2004286810A (ja) * 2003-03-19 2004-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd 染料含有硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルターおよびその製造方法
JP2006091662A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2006251464A (ja) * 2005-03-11 2006-09-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レンズ形成用感光性樹脂組成物
JP5121912B2 (ja) * 2010-11-24 2013-01-16 富士フイルム株式会社 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置
JP5646663B2 (ja) * 2013-02-08 2014-12-24 株式会社Dnpファインケミカル カラーフィルタ用着色樹脂組成物、色材分散液、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機発光表示装置
KR101997656B1 (ko) * 2015-06-17 2019-07-09 주식회사 엘지화학 잔텐계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20170128678A (ko) * 2016-05-12 2017-11-23 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물 및 표시장치
KR102067858B1 (ko) * 2016-05-24 2020-01-17 주식회사 엘지화학 화합물 및 이를 포함하는 색재 조성물 및 이를 포함하는 수지 조성물
KR102092438B1 (ko) * 2016-07-26 2020-03-23 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 컬러필터
KR101998777B1 (ko) * 2017-01-13 2019-07-10 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
US20180259850A1 (en) * 2017-03-10 2018-09-13 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method for forming patterned cured film, photosensitive composition, dry film, and method for producing plated shaped article

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