CN111936532A - 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法 - Google Patents

化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111936532A
CN111936532A CN201980024057.6A CN201980024057A CN111936532A CN 111936532 A CN111936532 A CN 111936532A CN 201980024057 A CN201980024057 A CN 201980024057A CN 111936532 A CN111936532 A CN 111936532A
Authority
CN
China
Prior art keywords
group
carbon atoms
compound
polymerizable
heterocyclic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201980024057.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111936532B (zh
Inventor
金原有希子
中屋敷哲千
末吉孝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Original Assignee
Adeka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Adeka Corp filed Critical Adeka Corp
Priority to CN202410225978.1A priority Critical patent/CN118084809A/zh
Publication of CN111936532A publication Critical patent/CN111936532A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111936532B publication Critical patent/CN111936532B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/67—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
    • C07C69/708—Ethers
    • C07C69/712—Ethers the hydroxy group of the ester being etherified with a hydroxy compound having the hydroxy group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/732—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids of unsaturated hydroxy carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
    • C07C69/734—Ethers
    • C07C69/736—Ethers the hydroxy group of the ester being etherified with a hydroxy compound having the hydroxy group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/96—Esters of carbonic or haloformic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D249/18—Benzotriazoles
    • C07D249/20—Benzotriazoles with aryl radicals directly attached in position 2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/34—Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • C08F230/085—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon the monomer being a polymerisable silane, e.g. (meth)acryloyloxy trialkoxy silanes or vinyl trialkoxysilanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
    • C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
    • C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

本发明的课题在于提供能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。本发明为一种化合物，其具有下述通式(A)所表示的结构和含聚合性基团的基团。(式中，环A表示五元环或六元环的芳香环、或五元环或六元环的杂环，R101分别独立地表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基等，R102分别独立地表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基等，a1表示1以上的整数，a2表示1以上的整数。)

Description

化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及 组合物的制造方法
技术领域
本发明涉及能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物及潜伏性添加剂。
背景技术
为了对固化性组合物的固化物赋予耐光性、耐热性等功能，已知有添加紫外线吸收剂、抗氧化剂等添加剂的方法(专利文献1～3)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-048382号公报
专利文献2：US9518031
专利文献3：日本特开2015-108649号公报
发明内容
然而，专利文献1～3中记载的紫外线吸收剂等存在有时会阻碍固化性组合物的固化这样的问题。该问题起因于紫外线吸收剂具有吸收为了使固化性组合物固化而照射的光的作用，由于具有这样的作用，若将紫外线吸收剂添加到固化性组合物中，则有时会产生固化阻碍。
作为上述课题的解决手段，研究了在固化前的组合物中上述的吸收光的作用被失活化、且在固化后能够活化的潜伏性添加剂。
然而，即使是使用潜伏性添加剂的情况下，有时也无法充分地赋予耐光性、耐热性等功能。
本发明是鉴于上述问题而进行的，主要目的是提供能够不产生固化阻碍地形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物及潜伏性添加剂。
本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究，结果发现：包含特定的化合物的潜伏性添加剂可同时满足使固化性组合物的固化充分进行、在固化物中添加剂被稳定地保持这两者，能够经时稳定地发挥耐光性、耐热性等效果。
本发明人等基于这些认识，从而完成本发明。
即，本发明为一种化合物(以下，有时称为化合物A。)，其具有下述通式(A)所表示的结构和含聚合性基团的基团。
[化学式1]
Figure BDA0002710846890000021
(式中，环A表示五元环或六元环的芳香环、或五元环或六元环的杂环，
R101分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自下述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自下述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R102分别独立地表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、甲硅烷基、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自下述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自下述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
a1表示1以上的整数，
a2表示1以上的整数。)
(组1：烯键式不饱和基团、卤素原子、酰基、酰氧基、取代氨基、磺酰胺基、磺酰基、羧基、氰基、磺基、羟基、硝基、巯基、酰亚胺基、氨基甲酰基、磺酰胺基、膦酸基、磷酸基、羧基的盐、磺基的盐、膦酸基的盐、磷酸基的盐)
(组2：碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NR’-(R’表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基。)、-S-S-、-SO2-、在氧原子不相邻的条件下将它们组合而成的基团)
在本发明中，上述化合物A优选为下述通式(B1)、(B2)、(B3)或(C)所表示的化合物(以下，有时分别称为化合物B1、化合物B2及化合物B3、化合物C，将化合物B1～B3一并称为化合物B。)。
[化学式2]
Figure BDA0002710846890000031
(式中，R3及R4分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R11及R12分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R11及R12中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m1表示1～10的整数，
b1表示0～4的整数，
b2表示0～2的整数，
X1表示m1价的基团或m1价的含聚合性基团的基团，
上述R11、R12、R3、R4及X1中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
[化学式3]
Figure BDA0002710846890000041
(式中，R5及R6分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R21及R22分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R21及R22中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m2表示1～10的整数，
b3表示0～4的整数，
b4表示0～3的整数，
X2表示m2价的基团或m2价的含聚合性基团的基团，
上述R21、R22、R5、R6及X2中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
[化学式4]
Figure BDA0002710846890000051
(式中，R7、R8及R9分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R31、R32、R33及R34分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R31及R32中的至少一者为上述-O-R102，
R33及R34中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m3表示1～10的整数，
m31为1，
m32表示0～2的整数，
m31及m32的合计表示1～3的整数，
b5表示0～2的整数，
b6表示0～3的整数，
b7表示0～[3-(m31+m32)]的整数，
X3表示m3价的基团或m3价的含聚合性基团的基团，
上述R31、R32、R33、R34、R7、R8、R9及X3中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
[化学式5]
Figure BDA0002710846890000061
(式中，R42及R43分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～40的烷基或含聚合性基团的基团，
R44分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m4表示1～10的整数，
c1表示0～2的整数，
X4表示m4价的基团或m4价的含聚合性基团的基团，
上述R42、R43、R44及X4中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
在本发明中，优选上述通式(B1)中的R3及R4中的至少1者为含聚合性基团的基团，上述通式(B2)中的R5及R6中的至少1者为含聚合性基团的基团，上述通式(B3)中的R7及R8中的至少1者为含聚合性基团的基团，上述通式(C)中的R44中的至少1者为含聚合性基团的基团。
在本发明中，优选上述化合物包含上述通式(B3)所表示的化合物，上述通式(B3)中的相对于R31为间位的R7及相对于R33为间位的R8中的至少1者为上述含聚合性基团的基团。
在本发明中，上述R102优选为碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团中的氧原子侧末端的亚甲基被-CO-O-取代而得到的基团。
本发明为一种潜伏性添加剂，其包含上述化合物A。
本发明为一种组合物，其包含上述化合物A和树脂。
在本发明中，上述树脂优选包含聚合性化合物。
本发明为上述的组合物的固化物。
本发明为一种固化物的制造方法，其具有将上述的组合物中包含的上述聚合性化合物进行聚合的工序。
本发明为一种组合物的制造方法，其具有将上述R102从上述的组合物中包含的上述化合物中脱离的工序。
具体实施方式
本发明涉及化合物、潜伏性添加剂、包含该化合物的组合物及其固化物以及固化物的制造方法及组合物的制造方法。
以下，对本发明的化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法进行详细说明。
A.化合物及潜伏性添加剂
首先，对本发明的化合物及潜伏性添加剂进行说明。
本发明的化合物为具有下述通式(A)所表示的结构和含聚合性基团的基团的化合物(化合物A)。
另外，本发明的潜伏性添加剂包含上述化合物A。
[化学式6]
Figure BDA0002710846890000081
(式中，环A表示五元环或六元环的芳香环、或五元环或六元环的杂环，
R101分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团，
R102分别独立地表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团或甲硅烷基，
a1表示1以上的整数，
a2表示1以上的整数。)
更具体而言，上述通式(A)中，环A表示五元环或六元环的芳香环、或五元环或六元环的杂环，
R101分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自下述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自下述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R102分别独立地表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、甲硅烷基、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自下述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自下述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
a1表示1以上的整数，
a2表示1以上的整数。
(组1：烯键式不饱和基团、卤素原子、酰基、酰氧基、取代氨基、磺酰胺基、磺酰基、羧基、氰基、磺基、羟基、硝基、巯基、酰亚胺基、氨基甲酰基、磺酰胺基、膦酸基、磷酸基、羧基的盐、磺基的盐、膦酸基的盐、磷酸基的盐)
(组2：碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NR’-(R’表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基。)、-S-S-、-SO2-、在氧原子不相邻的条件下将它们组合而成的基团)
本发明的潜伏性添加剂通过包含上述化合物A，成为能够不产生固化阻碍地形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂。关于其理由，如以下那样推测。
上述化合物A由于具有含聚合性基团的基团，因此在固化性组合物的固化时，引起上述化合物A与聚合性化合物的共聚。其结果是，上述化合物A成为聚合物的一部分，能够有效地抑制从固化物中升华、析出等。从固化物中的升华、析出等的抑制即使在R102从上述化合物A中脱离而变得发挥紫外线吸收能力、抗氧化能力等之后也得以维持。
另外，上述化合物A由于酚性羟基被R102保护，因此用于赋予耐光性的功能的紫外线吸收能力、及用于赋予耐热性的功能的抗氧化能力等被失活化。其结果是，包含上述化合物A的潜伏性添加剂能够抑制固化性组合物的固化阻碍，能够获得充分固化的固化物。
进而，上述化合物A通过具有保护酚性羟基的R102及含聚合性基团的基团，从而与聚合性化合物等树脂的相容性优异，在组合物内变得容易均匀地分散。其结果是，上述化合物A中R102的脱离容易，而且在R102脱离后，能够在组合物或其固化物整体中发挥紫外线吸收能力、抗氧化能力等。另外，通过这样优异的分散性，上述化合物A及其R102脱离物从固化物中的析出等变得更少。
由于以上的情况，通过潜伏性添加剂中包含的化合物A具有上述的结构和含聚合性基团的基团，从而上述潜伏性添加剂成为紫外线吸收能力、抗氧化能力的经时变化少的潜伏性添加剂，变得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物。
本发明的潜伏性添加剂由于紫外线吸收能力、抗氧化能力的经时变化少，因此相对于以往所要求的紫外线吸收剂、抗氧化剂的添加量，可以以少量的添加而长期地发挥所期望的紫外线吸收能力、抗氧化能力等。
因此，上述潜伏性添加剂对于像光学构件等薄膜构件那样添加剂等的添加量的增量困难、要求以少量的添加赋予所期望的紫外线吸收能力等的用途、更具体而言，相对于滤色器等显示器中使用的光学构件用途等赋予紫外线吸收能力等是特别有用的。
另外，上述潜伏性添加剂具有上述那样优异的分散性，能够获得均匀分散性优异的组合物。
上述潜伏性添加剂能够在所期望的时机表现出耐光性等功能。因此，例如在用于正型树脂等感光性树脂的情况下，还能够在正型树脂的分解及显影后，在残存的正型树脂中表现出紫外线吸收能力等而赋予耐光性等。
从这样的观点出发，上述潜伏性添加剂对于对不含聚合性化合物的组合物赋予耐光性等也是有用的。
以下，对本发明的潜伏性添加剂的各成分等进行详细说明。
1.化合物A
上述潜伏性添加剂中包含的化合物A为具有上述通式(A)所表示的结构(以下，有时称为结构A。)和含聚合性基团的基团的化合物。
(1)含聚合性基团的基团
上述化合物A为具有含聚合性基团的基团的化合物。
作为上述含聚合性基团的基团的聚合性基团，可以根据上述化合物A的种类、用途等而适当设定，例如可列举出自由基聚合性基团、阳离子聚合性基团、阴离子聚合性基团等。
在本发明中，例如在上述潜伏性添加剂与自由基聚合性化合物一起使用的情况下，上述聚合性基团优选为自由基聚合性基团。这是由于通过上述聚合性基团为上述的基团，上述潜伏性添加剂成为能够更容易地形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂。
作为上述自由基聚合性基团，可列举出丙烯酰基(CH2＝CH-CO-)、甲基丙烯酰基(CH2＝C(CH3)-CO-)、乙烯基((CH2＝CH-)或(-CH＝CH-))等烯键式不饱和双键基团。
在本发明中，上述自由基聚合性基团更优选为甲基丙烯酰基。这是因为，由于甲基丙烯酰基反应性优异，因此上述潜伏性添加剂成为能够更容易地形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂。
作为上述阳离子聚合性基团，可列举出环氧基、氧杂环丁烷基等环状醚基、及乙烯基醚基等。
作为上述阴离子聚合性基团，可列举出环氧基、内酯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基等。
上述含聚合性基团的基团的键合部位可以设定为上述结构A的任意的部位。
上述含聚合性基团的基团可以设定为与上述结构A中的环A键合的基团、作为将取代基R101的一个或两个以上氢原子取代的取代基而键合的基团等。
上述含聚合性基团的基团只要是包含聚合性基团的基团则没有限制，可以是聚合性基团相对于结构A直接键合的基团，也可以是聚合性基团介由键合基团而键合的基团。
需要说明的是，后述的式(B-22)、(B-23)、(B-24)、(B-3)、(B-31)、(C-7)所表示的化合物为含聚合性基团的基团与环A直接键合的化合物、即具有上述通式(A)所表示的结构中的环A中的1个氢原子被上述含聚合性基团的基团取代而得到的结构的化合物。另外，后述的式(B-32)所表示的化合物为具有取代基R101的1个氢原子被上述含聚合性基团的基团取代而得到的结构的化合物。
上述含聚合性基团的基团的数目在上述化合物A中只要为1以上即可，但优选为1以上且10以下，其中，优选为1以上且6以下，特别优选为1以上且3以下。这是由于上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物，另外，上述化合物A变得容易合成。
作为这样的含聚合性基团的基团，例如可以使用下述通式(D)所表示的基团(以下，有时称为含聚合性基团的基团D。)。
这是由于在本发明中，通过上述含聚合性基团的基团为上述含聚合性基团的基团D，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物，另外，上述化合物A变得容易合成。
[化学式7]
*-L1-(D)d (D)
(式中，L1表示直接键合或d+n价的键合基团，
D表示聚合性基团，
d表示1～10的整数，
n为与上述通式(A)所表示的结构的键合数，表示1～10的整数，
d+n表示2～11的整数，
*表示与上述通式(A)所表示的结构的键合部位。)
上述含聚合性基团的基团D中的d表示含聚合性基团的基团D中包含的聚合性基团的数目，为1～10的整数，从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，优选为1～3，优选为1。
上述含聚合性基团的基团D中的n为与上述通式(A)所表示的结构的键合数，为1～10的整数。在n为2以上的情况下，L1为将结构A彼此连结的交联基。上述n根据上述根据化合物A的用途等而适当设定，例如可以设定为与后述的“(3-1)第1实施方式”的项中记载的m1～m3及“(3-2)第2实施方式”的项中记载的m4等同样。在本发明中，上述n优选为1～6的整数，其中，优选为1～3的整数，特别优选为1～2的整数。这是由于上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物，另外，上述化合物A变得容易合成。
上述含聚合性基团的基团D中的d+n为2～11的整数，从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，优选为2～6的整数，更优选为2～5的整数，特别优选为2～4的整数。
在上述含聚合性基团的基团D为例如与后述的“(3-1)第1实施方式”的项中记载的通式(B1)～(B3)中的R11、R12、R21、R22、R31、R32、R33、R34、R3、R4、R5、R6、R7、R8及R9、以及后述的“(3-2)第2实施方式”的项中记载的通式(C)中的R42、R43及R44等结构A键合的取代基的情况下，成为n＝1，作为L1，可以使用直接键合或d+1价的键合基团。
另外，在上述含聚合性基团的基团D为例如后述的“(3-1)第1实施方式”的项中记载的通式(B1)～(B3)中的m1～m3分别为1时的X1～X3、或后述的“(3-2)第2实施方式”的项中记载的通式(C)中的X4的情况下，成为n＝1，作为L1，可以使用直接键合或d+1价的键合基团。
进而，在上述含聚合性基团的基团D为例如后述的“(3-1)第1实施方式”的项中记载的通式(B1)～(B3)中的m1～m3及后述的“(3-2)第2实施方式”的项中记载的通式(C)中的m4分别为2以上时的X1～X4的情况下，成为n＝m(＝m1～m4的任一者)，作为L1，可以使用d+m价的键合基团。
上述通式(D)中使用的L1表示直接键合或d+n价的键合基团。
在本发明中，从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，上述L1优选为d+n价的键合基团。
作为用作d+n价的键合基团的L1，也可以为2价以上的基团，例如可列举出氮原子、氧原子、硫原子、磷原子、下述(II-a)或(II-b)所表示的基团、>C＝O、-NH-CO-、-CO-NH-、>NR53或具有与d+n同数的价数的碳原子数为1～120的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团。
上述R53为氢原子、碳原子数为1～120的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团。
作为L1及R53使用的上述碳原子数为1～120的脂肪族烃基、上述碳原子数为6～35的含芳香环烃基及上述碳原子数为2～35的含杂环基团的一个或两个以上亚甲基有时被-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NR’-、-S-S-、-SO2-、氮原子或它们的组合取代，上述芳香环或杂环也有与其他的环稠合的情况。上述R’表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基。另外，上述组合以氧原子不相邻作为条件。
但是，作为L1使用的氮原子、磷原子或下述(II-a)或(II-b)所表示的键合基团作为3价的键合基团使用。另外，作为L1使用的氧原子或硫原子、>C＝O、-NH-CO-、-CO-NH-或>NR53的键合基团作为2价的键合基团使用。
[化学式8]
Figure BDA0002710846890000141
(*是指在*部分与相邻的基团键合。)
所谓上述碳原子数为1～120的脂肪族烃基中的亚甲基被取代的情况的碳数是指亚甲基被取代后的碳原子数，而不是指亚甲基被取代前的碳原子数。其他的基团中的亚甲基被取代的情况也相同。
作为R53中使用的碳原子数为1～120的脂肪族烃基，例如可列举出甲基、乙基、丙基、异丙基、环丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、环戊基、己基、2-己基、3-己基、环己基、二环己基、1-甲基环己基、庚基、2-庚基、3-庚基、异庚基、叔庚基、正辛基、异辛基、叔辛基、2-乙基己基、壬基、异壬基、癸基等烷基；甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异丁氧基、戊氧基、异戊氧基、叔戊氧基、己氧基、环己氧基、庚氧基、异庚氧基、叔庚氧基、正辛氧基、异辛氧基、叔辛氧基、2-乙基己氧基、壬氧基、癸氧基等烷氧基；甲硫基、乙硫基、丙硫基、异丙硫基、丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、异丁硫基、戊硫基、异戊硫基、叔戊硫基、己硫基、环己硫基、庚硫基、异庚硫基、叔庚硫基、正辛硫基、异辛硫基、叔辛硫基、2-乙基己硫基等烷硫基；乙烯基、1-甲基乙烯基、2-甲基乙烯基、2-丙烯基、1-甲基-3-丙烯基、3-丁烯基、1-甲基-3-丁烯基、异丁烯基、3-戊烯基、4-己烯基、环己烯基、二环己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十五烯基、二十烯基、二十三烯基等烯基及这些基团被后述的取代基取代而得到的基团等。
作为R53中使用的碳原子数为6～35的含芳香环烃基，例如可列举出苄基、苯乙基、二苯基甲基、三苯基甲基、苯乙烯基、肉桂基等芳基烷基；苯基、萘基等芳基；苯氧基、萘氧基等芳氧基；苯硫基、萘基硫基等芳硫基及这些基团的一个或两个以上氢原子被后述的取代基取代而得到的基团等。
作为R53中使用的碳原子数为2～35的含杂环基团，例如可列举出吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、哌啶基、吡喃基、吡唑基、三嗪基、吡咯基、喹啉基、异喹啉基、咪唑基、苯并咪唑基、三唑基、呋喃基、呋喃基、苯并呋喃基、噻嗯基、硫代苯基、苯并硫代苯基、噻二唑基、噻唑基、苯并噻唑基、噁唑基、苯并噁唑基、异噻唑基、异噁唑基、吲哚基、2-吡咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-1-基、2,4-二氧基咪唑烷-3-基、2,4-二氧基噁唑烷-3-基、苯并三唑基等及这些基团的一个或两个以上氢原子被后述的取代基取代而得到的基团等。
上述键合基团L1中使用的碳原子数为1～120的脂肪族烃基的结构可以根据上述化合物A的用途等而适当设定。
上述脂肪族烃基可以使用直链、支链、环状(脂环式烃)及它们的组合中的任一者。
作为上述L1中使用的2价以上的碳原子数为1～120的脂肪族烃基，可列举出为从上述的R53中使用的1价的碳原子数为1～120的脂肪族烃基中除去一个或两个以上氢原子而得到的结构的基团。具体而言，可列举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、丁基二基等亚烷基；上述亚烷基的一个或两个以上亚甲基被-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-取代而得到的基团；乙二醇、丙二醇、丁二醇、戊二醇、己二醇等二醇的残基；乙烷二硫醇、丙烷二硫醇、丁烷二硫醇、戊烷二硫醇、己烷二硫醇等二硫醇的残基及这些基团的一个或两个以上氢原子被后述的取代基取代而得到的基团等。
作为上述L1中使用的3价的碳原子数为1～120的脂肪族烃基，具体而言，可列举出次丙基、1,1,3-次丁基等次烷基及这些基团的一个或两个以上氢原子被后述的取代基取代而得到的基团。
所谓上述碳原子数为1～120的脂肪族烃基中的氢原子被取代基取代的情况的碳原子数是指氢原子被取代基取代后的碳原子数，并不是指氢原子被取代基取代前的碳原子数。其他的基团中的氢原子被取代的情况也相同。
上述L1中使用的碳原子数为6～35的含芳香环烃基的结构可以根据上述化合物A的用途等而适当设定。
作为上述L1中使用的2价以上的碳原子数为6～35的含芳香环烃基，可列举出为从上述的R53中使用的1价的碳原子数为6～35的含芳香环烃基中除去一个或两个以上氢原子而得到的结构的基团。具体而言，可列举出亚苯基、亚萘基等亚芳基；儿茶酚、双酚等二官能苯酚的残基；2,4,8,10-四氧杂螺[5,5]十一烷等及这些基团的一个或两个以上氢原子被后述的取代基取代而得到的基团。
作为上述L1中使用的3价的碳原子数为6～35的含芳香环烃基，可列举出苯基-1,3,5-三亚甲基及这些基团的一个或两个以上氢原子被后述的取代基取代而得到的基团。
上述L1中使用的碳原子数为2～35的含杂环基团的结构可以根据上述化合物的用途等而适当设定。
作为上述L1中使用的2价以上的碳原子数为2～35的含杂环基团，例如可列举出为从上述的R53中使用的1价的碳原子数为2～35的含杂环基团中除去一个或两个以上氢原子而得到的结构的基团。具体而言，可列举出具有吡啶环、嘧啶环、哌啶环、哌嗪环、三嗪环、呋喃环、噻吩环、吲哚环等的基团及这些基团的一个或两个以上氢原子被后述的取代基取代而得到的基团。
作为上述L1中使用的3价的碳原子数为2～35的含杂环基团，可列举出具有异氰脲酸环的基团、具有三嗪环的基团及这些基团的一个或两个以上氢原子被后述的取代基取代而得到的基团。
上述的脂肪族烃基、含芳香环烃基及含杂环基团等也可以具有取代基，只要没有特别说明，可以设定为不具有取代基的未取代的基团或具有取代基的基团。作为上述取代基，可列举出与将后述的“(2)结构A”的项中记载的R101等中使用的烷基等的氢原子取代的取代基同样的取代基。
作为上述L1，在d+n为2、3、4、5、6时，还可分别列举出日本特开2017-001184号公报中的作为在n为2时可使用的通式(1)、在n为3时可使用的通式(2)、在n为4时可使用的通式(3)、在n为5时可使用的通式(4)、在n为6时可使用的通式(5)而记载的基团。
在上述L1为2价的键合基团的情况下，优选为>C＝O、-NH-CO-、-CO-NH-、>NR53或2价的碳原子数为1～120的脂肪族烃基，其中，优选为2价的碳原子数为1～20的脂肪族烃基，更优选为2价的碳原子数为1～10的脂肪族烃基，特别更优选为2价的碳原子数为2～8的脂肪族烃基，其中特别更优选为2价的碳原子数为3～6的脂肪族烃基。这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
在上述L1为3价～6价的键合基团的情况下，优选为碳原子数为1～30的脂肪族烃基，其中，优选为碳原子数为1～20的脂肪族烃基。在上述L1为3价的键合基团的情况下，优选为3价的碳原子数为2～10的脂肪族烃基，其中，优选为3价的碳原子数为3～8的脂肪族烃基。这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于，上述化合物A变得容易合成。
在上述L1为碳原子数为1～120的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团的情况下，这些基团的一个或两个以上亚甲基优选被-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-NH-CO-O-、-NR’-、-S-S-、-SO2-或它们的组合取代，其中，优选被-O-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-取代，特别优选被作为-O-、-O-CO-的二价的取代基取代。
另外，上述L1中使用的基团优选该基团中的一个或两个以上亚甲基被-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-取代，特别也优选被-O-、-S-、-O-CO-取代而得到的基团。
这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
在上述L1中，上述的脂肪族烃基、含芳香环烃基及含杂环基团中的被-O-等二价的取代基取代的亚甲基的数目优选为1以上且10以下，其中，优选为1以上且5以下，优选为1以上且3以下。
上述L1优选结构A侧的末端的亚甲基被-O-取代、即L1介由-O-与结构A键合。这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于，上述化合物A变得容易合成。
上述L1还优选结构A侧的末端的亚甲基被-S-取代、即L1介由-S-与结构A键合。这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
另外，上述L1优选聚合性基团侧的末端的亚甲基被-O-取代、即L1介由-O-与聚合性基团键合。这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
作为上述L1，在d+n为2时，可以优选使用下述通式(1)所表示的基团。
上述L1在d+n为3时，可以优选使用下述通式(2)所表示的基团。
上述L1在d+n为4时，可以优选使用下述通式(3)所表示的基团。
上述L1在d+n为5时，可以优选使用下述通式(4)所表示的基团。
上述L1在d+n为6时，可以优选使用下述通式(5)所表示的基团。
[化学式9]
*-Z1-Y1-Z2-*(1)
(上述通式(1)中，Y1表示单键、-NR57-、2价的碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，该脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基及碳原子数为2～35的含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基也有被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-或-NH-或它们的组合的键合基团取代的情况，
Z1及Z2分别独立地表示直接键合、-O-、-S-、>CO、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-SS-、-SO-、>NR58或>PR58，
R57及R58表示氢原子、碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，
*是指在*部分与相邻的基团键合。)
[化学式10]
Figure BDA0002710846890000191
(上述通式(2)中，Y11表示三价的碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，
Z1、Z2及Z3分别独立地表示与上述通式(1)中的Z1～Z2所表示的基团相同范围的基团，
该脂肪族烃基、含芳香环烃基及含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基也有被碳一碳双键、-O-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-或-SO2-取代的情况。)
[化学式11]
Figure BDA0002710846890000192
(上述通式(3)中，Y12表示碳原子或四价的碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，
该脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基及碳原子数为2～35的含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基也有被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-或-CONH-取代的情况，
Z1～Z4分别独立地为与上述通式(1)中的Z1～Z2所表示的基团相同范围的基团。)
[化学式12]
Figure BDA0002710846890000201
(上述通式(4)中，Y13表示五价的碳原子数为2～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～30的含芳香环烃基或碳原子数为2～30的含杂环基团，
该脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基及碳原子数为2～35的含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基也有被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-或-CONH-取代的情况，
Z1～Z5分别独立地为与上述通式(1)中的Z1～Z2所表示的基团相同范围的基团。)
[化学式13]
Figure BDA0002710846890000202
(上述通式(5)中，Y14表示单键、六价的碳原子数为2～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，
该脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基也有被-COO-、-O-、-OCO-、-NHCO-、-NH-或-CONH-取代的情况，
Z1～Z6分别独立地为与上述通式(1)中的Z1～Z2所表示的基团相同范围的基团。)
作为上述通式(1)所表示的基团中的Y1中使用的2价的碳原子数为1～35的脂肪族烃基，可列举出上述L1中使用的2价的脂肪族烃基中符合的碳原子数的基团。
作为上述2价的碳原子数为1～35的脂肪族烃基，更具体而言，可列举出甲烷、乙烷、丙烷、异丙烷、丁烷、仲丁烷、叔丁烷、异丁烷、己烷、2-甲基己烷、3-甲基己烷、庚烷、2-甲基庚烷、3-甲基庚烷、异庚烷、叔庚烷、1-甲基辛烷、异辛烷、叔辛烷、环丙烷、环丁烷、环戊烷、环己烷、环庚烷、2,4-二甲基环丁烷、4-甲基环己烷等脂肪族烃的氢原子被Z1及Z2取代而得到的2价的基团。
另外，作为上述脂肪族烃基，可列举出环辛烷、环癸烷、金刚烷、降冰片烯等脂环族烃的氢原子被Z1及Z2取代而得到的2价的基团。
这些基团中包含的亚甲基有时被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-NH-或将它们组合而成的基团取代。
作为上述通式(1)所表示的基团中的Y1中使用的2价的碳原子数为6～35的含芳香环烃基，可列举出上述L1中使用的2价的含芳香环烃基。
作为上述2价的碳原子数为6～35的含芳香环烃基，更具体而言，可列举出苯、萘、联苯等含芳香环的烃的氢原子被Z1及Z2取代而得到的2价的基团等。
作为上述通式(1)所表示的基团中的Y1中使用的2价的碳原子数为2～35的含杂环基团，可列举出上述L1中使用的2价的含杂环基团。
作为上述2价的碳原子数为2～35的含杂环基团，更具体而言，可列举出吡啶、吡嗪、哌啶、哌嗪、嘧啶、哒嗪、三嗪、六氢三嗪、呋喃、四氢呋喃、色满、呫吨、噻吩、硫杂环戊烷等含杂环的化合物的氢原子被Z1及Z2取代而得到的2价的基团。
上述通式(1)所表示的基团中的Y1中使用的脂肪族烃基、含芳香环烃基及含杂环基团等各官能团也可以具有取代基，只要没有特别说明，可以设定为不具有取代基的未取代的基团或具有取代基的基团。
作为取代这样的脂肪族烃基、含芳香环烃基及含杂环基团等的氢原子的取代基，可列举出与将后述的“(2)结构A”的项中记载的R101等中使用的烷基等的氢原子取代的取代基同样的取代基，例如可列举出卤素原子、氰基、硝基或碳原子数为1～8的烷氧基。
作为上述通式(1)所表示的基团中的R57及R58中使用的碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基及碳原子数为2～35的含杂环基团，可列举出与上述的R53及R54中使用的基团同样的基团。
作为上述通式(2)所表示的基团中的Y11中使用的三价的碳原子数为3～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基及碳原子数为2～35的含杂环基团，可列举出上述通式(1)中的Y1的说明中例示的脂肪族烃、含芳香环的烃及含杂环的化合物的氢原子被Z1、Z2及Z3取代而得到的三价的基团。
这些基团中包含的亚甲基有时被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-NH-或将它们组合而成的基团取代。
作为上述通式(3)所表示的基团中的Y12中使用的四价的碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基及碳原子数为2～35的含杂环基团，可列举出上述通式(1)中的Y1的说明中例示的脂肪族烃、含芳香环的烃及含杂环的化合物的氢原子被Z1、Z2、Z3及Z4取代而得到的四价的基团。
这些基团中包含的亚甲基有时被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-NH-或将它们组合而成的基团取代。
作为上述通式(4)所表示的基团中的Y13中使用的五价的碳原子数为2～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基及碳原子数为2～35的含杂环基团，可列举出上述通式(1)中的Y1的说明中例示的脂肪族烃、含芳香环的烃及含杂环的化合物的氢原子被Z1、Z2、Z3、Z4及Z5取代而得到的五价的基团。
这些基团中包含的亚甲基有时被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-NH-或将它们组合而成的基团取代。
作为上述通式(5)中的Y14中使用的六价的碳原子数为2～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基及碳原子数为2～35的含杂环基团，可列举出上述通式(1)中的Y1的说明中例示的脂肪族烃、含芳香环的烃及含杂环的化合物的氢原子被Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及Z6取代而得到的六价的基团。
这些基团中包含的亚甲基有时被-O-、-S-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-SO2-、-NH-或将它们组合而成的基团取代。
上述通式(1)中的Y1优选为2价的碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，其中，优选为碳原子数为1～35的脂肪族烃基，特别优选为碳原子数为1～20的脂肪族烃基，最优选为碳原子数为1～10的脂肪族烃基，其中特别优选为碳原子数为2～8的脂肪族烃基，其中特别优选为碳原子数为3～6的脂肪族烃基。这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
上述通式(2)～(5)中的Y11、Y12、Y13及Y14优选为各个价数的碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，其中，优选为碳原子数为1～35的脂肪族烃基，特别优选为碳原子数为1～30的脂肪族烃基，最优选为碳原子数为1～20的脂肪族烃基。这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
其中在本发明中，上述通式(3)中的Y12优选为碳原子数为2～10的脂肪族烃基，最优选为碳原子数为3～8的脂肪族烃基。这是由于通过上述L1为这样的结构，上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
在上述通式(1)～(5)中的Y1、Y11、Y12、Y13及Y14为各个价数的碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团的情况下，它们的一个或两个以上亚甲基优选被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-NH-或将它们组合而成的基团取代，其中，优选被-O-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-取代，特别优选被-O-、-O-CO-取代。另外，Y1、Y11、Y12、Y13及Y14中使用的脂肪族烃基、含芳香环烃基或含杂环基团还优选被-O-、-S-取代。这是由于上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。
在上述通式(1)～(5)中的上述Y1、Y11、Y12、YY13及Y14中，作为上述的被-O-等取代的亚甲基的数目，优选为1以上且10以下，其中，优选为1以上且5以下，优选为1以上且3以下。这是由于上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。
上述通式(1)～(5)中的Z1～Z6优选为-O-。这是由于上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。
在本发明中，Z1～Z6中的与含聚合性基团的基团键合的基团优选为-O-。另外，在本发明中，Z1～Z6中的与含聚合性基团的基团键合的基团以外的基团优选为-O-、-S-。这是由于上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
需要说明的是，作为与含聚合性基团的基团键合的基团以外的基团，具体而言，可列举出与上述结构A中的环A键合的基团、作为将取代基R101的一个或两个以上氢原子取代的取代基而与R101键合的基团等。
作为上述含聚合性基团的基团的数目，在化合物A中只要为1以上则没有限制，其中，优选为1以上且10以下，特别优选为1以上且5以下，其中特别优选为1以上且3以下。这是由于通过上述数目为上述的范围，包含上述化合物A的潜伏性添加剂成为能够形成耐光性、耐热性等更优异的固化物的潜伏性添加剂。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
上述含聚合性基团的基团的种类在化合物A中包含2种以上的情况下，可以是一种，也可以是两种以上。
在本发明中，上述含聚合性基团的基团的种类优选为一种。这是由于包含上述化合物A的潜伏性添加剂成为能够形成耐光性、耐热性等更优异的固化物的潜伏性添加剂。另外，这是由于上述化合物A变得容易合成。
(2)结构A
上述化合物A为包含上述的通式(A)所表示的结构(结构A)的化合物。
上述通式(A)中的环A为五元环或六元环的芳香环、或五元环或六元环的杂环。
作为五元环的芳香环，只要是具有芳香族性的五元环且五元环的环结构仅包含碳原子则没有限制，可列举出环戊二烯、二茂铁等。
作为五元环的杂环，只要是具有芳香族性的五元环且五元环的环结构包含碳原子以外的原子则没有限制，可列举出呋喃、噻吩、吡咯、吡咯烷、吡唑烷、吡唑、咪唑、咪唑烷、噁唑、异噁唑、异噁唑烷、噻唑、异噻唑、异噻唑烷等。
作为六元环的芳香环，只要是具有芳香族性的六元环且六元环的环结构仅包含碳原子则没有限制，可列举出苯、萘、蒽、芴、苝、芘等。
作为六元环的杂环，只要是具有芳香族性的六元环且六元环的环结构包含碳原子以外的原子则没有限制，可列举出哌啶、哌嗪、吗啉、硫代吗啉、吡啶、吡嗪、嘧啶、哒嗪、三嗪等。
这些环也可以与其他的环稠合或被取代，例如也可以构成喹啉、异喹啉、吲哚、久洛尼定、苯并噁唑、苯并三唑、薁等。
在本发明中，关于上述环A，包含五元环及六元环的两者的环设定为符合六元环。
另外，关于上述环A，包含芳香环及杂环的两者的环设定为符合杂环。
在本发明中，从得到耐光性、耐热性等功能优异的固化物的观点出发，优选为六元环的芳香环或杂环，其中，优选为仅包含六元环的芳香环的环，特别优选为苯、萘、蒽、芘等。
上述通式(A)中的R101分别独立地为卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团，R102分别独立地为碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团或甲硅烷基。
作为上述卤素原子，可列举出氟、氯、溴、碘。
作为上述碳原子数为1～40的烷基，可列举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、异丁基、戊基、异戊基、叔戊基、环戊基、己基、2-己基、3-己基、环己基、4-甲基环己基、庚基、2-庚基、3-庚基、异庚基、叔庚基、1-辛基、异辛基、叔辛基、金刚烷基等。
作为上述碳原子数为6～20的芳基，可列举出苯基、萘基、蒽基等。
作为上述碳原子数为7～20的芳基烷基，可列举出苄基、芴基、茚基、9-芴基甲基等。
作为上述碳原子数为2～20的含杂环基团，可列举出吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、哌啶基、吡喃基、吡唑基、三嗪基、吡咯基、喹啉基、异喹啉基、咪唑基、苯并咪唑基、三唑基、呋喃基、呋喃基、苯并呋喃基、噻嗯基、硫代苯基、苯并硫代苯基、噻二唑基、噻唑基、苯并噻唑基、噁唑基、苯并噁唑基、异噻唑基、异噁唑基、吲哚基、2-吡咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-1-基、2,4-二氧基咪唑烷-3-基、2,4-二氧基噁唑烷-3-基等。
作为上述碳原子数为2～20的烯基，可列举出乙烯基、烯丙基、1-丙烯基、异丙烯基、2-丁烯基、1,3-丁二烯基、2-戊烯基、2-辛烯基等。
作为上述甲硅烷基，可以使用氢原子未取代的甲硅烷基、氢原子被其他的取代基取代而得到的取代甲硅烷基。
作为上述取代甲硅烷基，可列举出单烷基甲硅烷基、单芳基甲硅烷基、二烷基甲硅烷基、二芳基甲硅烷基、三烷基甲硅烷基、三芳基甲硅烷基、单烷基二芳基甲硅烷基、二烷基单芳基甲硅烷基之类的甲硅烷基。
作为上述单烷基甲硅烷基，可列举出单甲基甲硅烷基、单乙基甲硅烷基、单丁基甲硅烷基、单异丙基甲硅烷基、单癸基甲硅烷基、单二十烷基甲硅烷基、单三十烷甲硅烷基等。
作为上述单芳基甲硅烷基，可列举出单苯基甲硅烷基、单甲苯基甲硅烷基、单萘基甲硅烷基、单蒽基甲硅烷基等。
作为上述二烷基甲硅烷基，可列举出二甲基甲硅烷基、二乙基甲硅烷基、二甲基乙基甲硅烷基、二异丙基甲硅烷基、二丁基甲硅烷基、二辛基甲硅烷基、二癸烷甲硅烷基等。
作为上述二芳基甲硅烷基，可列举出二苯基甲硅烷基、二甲苯基甲硅烷基等。
作为上述三烷基甲硅烷基，可列举出三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、二甲基乙基甲硅烷基、三异丙基甲硅烷基、三丁基甲硅烷基、三辛基甲硅烷基等。
作为上述三芳基甲硅烷基，可列举出三苯基甲硅烷基、三甲苯基甲硅烷基等。
作为上述单烷基二芳基甲硅烷基，可列举出甲基二苯基甲硅烷基、乙基二苯基甲硅烷基等。
作为上述二烷基单芳基甲硅烷基，可列举出二甲基苯基甲硅烷基、甲基乙基苯基甲硅烷基等。
上述烷基、芳基、芳基烷基、含杂环基团、烯基及甲硅烷基中的一个或两个以上亚甲基可以被选自碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NR’-、-S-S-或-SO2-中的基团、或在氧原子不相邻的条件下将它们组合而成的基团取代。R’表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基。
上述烷基有时末端的亚甲基被-O-取代而成为烷氧基。
作为上述烷氧基，例如可列举出甲氧基、乙氧基、异丙氧基、丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、异丁氧基、戊氧基、异戊氧基、叔戊氧基、己氧基、2-己氧基、3-己氧基、环己氧基、4-甲基环己氧基、庚氧基、2-庚氧基、3-庚氧基、异庚氧基、叔庚氧基、1-辛氧基、异辛氧基、叔辛氧基等。
上述烷基、芳基、芳基烷基、含杂环基团、烯基及甲硅烷基等也可以具有取代基。作为将这些基团的一个或两个以上氢原子取代的取代基，可列举出氟、氯、溴、碘等卤素原子；乙酰基、2-氯乙酰基、丙酰基、辛酰基、苯基羰基(苯甲酰基)、酞酰基、4-三氟甲基苯甲酰基、新戊酰基、水杨酰基、草酰基、硬脂酰基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、叔丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基、氨基甲酰基等酰基；乙酰氧基、苯甲酰氧基等酰氧基；氨基、乙基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、丁基氨基、环戊基氨基、2-乙基己基氨基、十二烷基氨基、苯胺基、氯苯基氨基、甲苯胺基、茴香氨基、N-甲基-苯胺基、二苯基氨基、萘基氨基、2-吡啶基氨基、甲氧基羰基氨基、苯氧基羰基氨基、乙酰基氨基、苯甲酰基氨基、甲酰基氨基、新戊酰基氨基、月桂酰基氨基、氨基甲酰基氨基、N,N-二甲基氨基羰基氨基、N,N-二乙基氨基羰基氨基、吗啉代羰基氨基、甲氧基羰基氨基、乙氧基羰基氨基、叔丁氧基羰基氨基、正十八烷氧基羰基氨基、N-甲基-甲氧基羰基氨基、苯氧基羰基氨基、氨磺酰基氨基、N,N-二甲基氨基磺酰基氨基、甲基磺酰基氨基、丁基磺酰基氨基、苯基磺酰基氨基等取代氨基；磺酰胺基、磺酰基、羧基、氰基、磺基、羟基、硝基、巯基、酰亚胺基、氨基甲酰基、磺酰胺基、膦酸基、磷酸基、或羧基、磺基、膦酸基或磷酸基的盐等。
即，作为取代芳基、芳基烷基、含杂环基团、烯基及甲硅烷基的一个或两个以上氢原子的取代基，可列举出烯键式不饱和基团、卤素原子、酰基、酰氧基、取代氨基、磺酰胺基、磺酰基、羧基、氰基、磺基、羟基、硝基、巯基、酰亚胺基、氨基甲酰基、磺酰胺基、膦酸基或磷酸基、或羧基、磺基、膦酸基或磷酸基的盐等。
上述R101也可以多个R101彼此键合而形成苯环或萘环等环。
从作为潜伏性紫外线吸收剂而耐光性等优异的观点出发，上述R101优选为碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团，更优选为碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团。特别优选为环A侧的末端的亚甲基被-CO-取代的碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团。作为这样的基团，例如可列举出苯并咪唑基、苯基酮基、三嗪基等。
从作为潜伏性抗氧化剂而耐热性等优异的观点出发，上述R101优选为碳原子数为1～10的烷基，更优选为不具有取代基的未取代的碳原子数为1～10的烷基。特别优选为C4H9所表示的基团，最优选为叔丁基。
上述R101的键合部位可以设定为上述环A的任意的部位，但优选键合于与上述R102相邻的部位。这是由于容易赋予耐光性、耐热性等。
在上述R102为碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团的情况下，优选为氧原子侧的末端的亚甲基被-CO-O-取代的基团、即在氧原子侧的末端键合有-CO-O-的基团。
上述R102具体而言优选为氧原子侧的末端的亚甲基被-CO-O-取代的碳原子数为1～40的烷基或碳原子数为2～20的烯基，其中，优选为氧原子侧的末端的亚甲基被-CO-O-取代的碳原子数为1～40的烷基、即-CO-O-R”(R”为有时具有取代基的碳原子数为1～40的烷基)所表示的基团。R”优选为碳原子数为1～8的烷基，更优选为不具有取代基的未取代的碳原子数为1～8的烷基。特别是R”优选为C4H9所表示的基团，最优选为叔丁基。这是由于作为潜伏性抗氧化剂能够有效地表现出耐光性、耐热性等功能。
上述通式(A)中的a1为1以上的整数。
上述a1表示与环A键合的R101的数目，可以适当设定。
从上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物的观点、合成的容易性的观点出发，上述a1优选为1～3的整数，更优选为1～2的整数。
上述通式(A)中的a2为1以上的整数。
上述a2表示与环A键合的-O-R102的数目，可以根据上述潜伏性添加剂的用途等而适当设定。
例如在环A为五元环的情况下，上述a2可以设定为1～4的整数，在环A为六元环的情况下，可以设定为1～5的整数。
从上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物的观点、合成的容易性的观点出发，上述a2优选为1～3的整数，更优选为1～2的整数。
上述a1及a2的合计为环A可取的取代基的数目以下。
其中，所谓为环A可取的取代基的数目以下是指环A所具有的可取代的氢原子的数目以下，例如在环A为吡咯烷等仅1个五元环的杂环的情况下，上述a1及a2的合计为5以下，在环A为苯环的情况下，上述a1及a2的合计为6以下。
上述化合物A为具有至少1个上述结构A的化合物，也可以具有2个以上，例如可以具有1个以上且10个以下的上述结构A。
(3)化合物A
上述化合物A为具有上述通式(A)所表示的结构(结构A)和含聚合性基团的基团的化合物。
上述化合物A的具体结构可以根据包含上述化合物A的潜伏性添加剂的用途等而选择适合的结构。例如可列举出适于将上述潜伏性添加剂用作潜伏性紫外线吸收剂的情况的结构(第1实施方式)、适于将上述潜伏性添加剂用作潜伏性抗氧化剂的情况的结构(第2实施方式)等。
以下，对于本发明中使用的化合物A的更具体的结构，分成上述的各实施方式进行说明。
(3-1)第1实施方式
上述化合物A的第1实施方式为具有适于将上述潜伏性添加剂用作潜伏性紫外线吸收剂的情况的结构的化合物。
作为具有这样的结构的化合物，例如可列举出下述通式(B1)、(B2)或(B3)所表示的化合物(以下，有时分别称为化合物B1、化合物B2及化合物B3。另外，有时将这些化合物B1～B3一并称为化合物B。)。
在本发明的潜伏性添加剂中，优选使用化合物B1或化合物B3，特别优选使用化合物B3。这是由于通过使用上述的化合物，上述潜伏性添加剂成为能够形成耐光性更优异的固化物的潜伏性添加剂。
[化学式14]
Figure BDA0002710846890000301
(式中，R3及R4分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团或含聚合性基团的基团，
R11及R12分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102或含聚合性基团的基团，
R11及R12中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m1表示1～10的整数，
b1表示0～4的整数，
b2表示0～2的整数，
X1表示m1价的基团或m1价的含聚合性基团的基团，
上述R11、R12、R3、R4及X1中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
更具体而言，上述通式(B1)中，R3及R4分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R11及R12分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R11及R12中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m1表示1～10的整数，
b1表示0～4的整数，
b2表示0～2的整数，
X1表示m1价的基团或m1价的含聚合性基团的基团，
上述R11、R12、R3、R4及X1中的至少1者为含聚合性基团的基团。
[化学式15]
Figure BDA0002710846890000311
(式中，R5及R6分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团或含聚合性基团的基团，
R21及R22分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102或含聚合性基团的基团，
R21及R22中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m2表示1～10的整数，
b3表示0～4的整数，
b4表示0～3的整数，
X2表示m2价的基团或m2价的含聚合性基团的基团，
上述R21、R22、R5、R6及X2中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
更具体而言，上述通式(B2)中，R5及R6分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R21及R22分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R21及R22中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m2表示1～10的整数，
b3表示0～4的整数，
b4表示0～3的整数，
X2表示m2价的基团或m2价的含聚合性基团的基团，
上述R21、R22、R5、R6及X2中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
[化学式16]
Figure BDA0002710846890000331
(式中，R7、R8及R9分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团或含聚合性基团的基团，
R31、R32、R33及R34分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102或含聚合性基团的基团，
R31及R32中的至少一者为上述-O-R102，
R33及R34中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m3表示1～10的整数，
m31为1，
m32表示0～2的整数，
m31及m32的合计表示1～3的整数，
b5表示0～2的整数，
b6表示0～3的整数，
b7表示0～[3-(m31+m32)]的整数，
X3表示m3价的基团或m3价的含聚合性基团的基团，
上述R31、R32、R33、R34、R7、R8、R9及X3中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
更具体而言，上述通式(B2)中，R7、R8及R9分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R31、R32、R33及R34分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自上述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自上述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R31及R32中的至少一者为上述-O-R102，
R33及R34中的至少一者为上述-O-R102，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m3表示1～10的整数，
m31为1，
m32表示0～2的整数，
m31及m32的合计表示1～3的整数，
b5表示0～2的整数，
b6表示0～3的整数，
b7表示0～[3-(m31+m32)]的整数，
X3表示m3价的基团或m3价的含聚合性基团的基团，
上述R31、R32、R33、R34、R7、R8、R9及X3中的至少1者为含聚合性基团的基团。
上述化合物B1～B3分别具有在X1～X3所表示的m1价的基团(m1价的特定的原子或基团)、m2价的基团(m2价的特定的原子或基团)及m3价的基团(m3价的特定的原子或基团)上键合有m1～m3个特定的基团的结构。
该m1～m3个基团可以彼此相同，也可以不同。
m1、m2及m3分别独立地为1～10的整数，从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，优选为1～6，更优选为1～5，特别优选为1～4。
其中在本发明中，m1优选为1～3，特别优选为1～2。
其中在本发明中，m2优选为1～3，特别优选为1～2。
其中在本发明中，m3优选为1～3，特别优选为1～2，优选为1。
这是由于通过上述m1～m3为上述的范围，可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡变得优异。
在上述化合物B1中，上述R11、R12、R3、R4及X1中的至少1者为含聚合性基团的基团。其中，优选上述R3及R4中的至少1者为含聚合性基团的基团，更优选至少R4为含聚合性基团的基团。特别优选上述R11、R12、R3、R4及X1中的仅R4为含聚合性基团的基团。
另外，在上述化合物B1中，在b2为2的情况下，优选2个R4中仅1个R4为含聚合性基团的基团。
另外，在本发明中，还优选上述R11、R12、R3、R4及X1中仅R3为含聚合性基团的基团的化合物。
另外，在上述化合物B1中，在b1为2～4的情况下，优选2个～4个R3中仅1个R3为含聚合性基团的基团。
在上述化合物B2中，上述R21、R22、R5、R6及X2中的至少1者为含聚合性基团的基团。其中，优选上述R5及R6中的至少1者为含聚合性基团的基团，更优选R5及R6的两者为含聚合性基团的基团。
在上述化合物B3中，上述R31、R32、R33、R34、R7、R8、R9及X3中的至少1者为含聚合性基团的基团。其中，优选上述R7及R8中的至少1者为含聚合性基团的基团，更优选上述R7及R8的两者为含聚合性基团的基团。
在上述化合物B3中，还优选上述R7及R8中的仅任一者为含聚合性基团的基团。
在上述化合物B3中的在与三嗪环键合的苯环上键合有含聚合性基团的基团的情况下，与1个苯环键合的含聚合性基团的基团的数目优选为2个以下，其中，优选为1个。
例如在上述化合物B3中的与三嗪环键合的苯环具有2个以上的R7、且包含作为含聚合性基团的基团的R7的情况下，优选仅1个R7为含聚合性基团的基团。
另外，在上述化合物B3中m32为2、与三嗪环键合的2个苯环各自具有2个以上的R8、且包含作为含聚合性基团的基团的R8的情况下，优选在各个苯环中，仅1个R8为含聚合性基团的基团。
另外，在上述化合物B3中，优选相对于R31为间位(相对于三嗪环为对位)的R7及相对于R33为间位(相对于三嗪环为对位)的R8中的至少1者为含聚合性基团的基团。
这是由于通过在上述化合物B1～B3中如上述那样包含上述含聚合性基团的基团，从而包含上述化合物B的潜伏性添加剂成为能够形成耐光性等更优异的固化物的潜伏性添加剂。另外，这是由于上述化合物B变得容易合成。
在上述化合物B1中的R11、R12、R3及R4中的至少1者、上述化合物B2中的R21、R22、R5及R6中的至少1者、上述化合物B3中的R31、R32、R33、R34、R7、R8及R9中的至少1者为含聚合性基团的基团的情况下，作为上述含聚合性基团的基团，例如可以优选使用上述通式(D)所表示的基团中的d+n为2～6的整数的基团，其中，可以优选使用d+n为2～4的整数的基团。这是由于包含上述化合物B的潜伏性添加剂成为能够形成耐光性等更优异的固化物的潜伏性添加剂。另外，这是由于上述化合物B变得容易合成。
在本发明中，可以是在上述化合物B3中的与三嗪环键合的全部苯环上键合有含聚合性基团的基团的化合物，也可以是在与三嗪环键合的仅一部分苯环上键合有含聚合性基团的基团的化合物。这是由于在上述全部苯环上键合有含聚合性基团的基团的情况下，容易制成析出等更少的化合物。这是由于在上述仅一部分苯环上键合有含聚合性基团的基团的情况下，在未键合含聚合性基团的基团的上述苯环上键合例如烷氧基等，例如变得容易提高与基材等的粘接性等等，容易赋予其他的功能。
需要说明的是，后述的式(B-22)、(B-23)、(B-24)所表示的化合物是在与三嗪环键合的全部苯环上键合有含聚合性基团的基团的化合物的例子。
另外，后述的式(B-31)所表示的化合物是在与三嗪环键合的仅一部分苯环上键合有含聚合性基团的基团的化合物的例子。
在本发明中，上述化合物B1在1分子中所具有的含聚合性基团的基团的数目只要为1个以上即可，但优选为1以上且2×m1以下，其中，优选为1以上且m1以下。即，在m1为2的情况下，上述化合物B1在1分子中所具有的含聚合性基团的基团优选为1个以上且4个以下，其中，优选为1个以上且2个以下。另外，在m1为1的情况下，优选为1个以上且2个以下，其中，优选为1个。这是由于上述化合物B1成为能够形成耐光性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物B1变得容易合成。
另外，上述化合物B1如上所述具有以X1键合有m1个基团的结构，但m1个基团各自所具有的含聚合性基团的基团的数目优选为2以下，优选为1。这是由于上述化合物B1成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物B1变得容易合成。
需要说明的是，后述的式(B-3)所表示的化合物为符合化合物B1的化合物，是该1分子中所具有的含聚合性基团的基团为1个的化合物的例子。
另外，后述的式(B-3)所表示的化合物为在上述化合物B1中m1为1的化合物，是m1个基团所具有的含聚合性基团的基团的数目为1的化合物的例子。
在本发明中，上述化合物B2在1分子中所具有的含聚合性基团的基团的数目只要为1个以上即可，但优选为1以上且2×m2以下，其中，优选为1以上且m2以下。即，在m2为2的情况下，上述化合物B2在1分子中所具有的含聚合性基团的基团优选为1个以上且4个以下，其中，优选为1个以上且2个以下，其中，优选为2个。另外，上述化合物B2在1分子中所具有的含聚合性基团的基团的数目在m2为1的情况下，优选为1个以上且2个以下，其中，优选为1个。这是由于上述化合物B2成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物B2变得容易合成。
另外，上述化合物B2如上所述具有以X2键合有m2个基团的结构，但m2个基团各自所具有的含聚合性基团的基团的数目优选为2以下，优选为1。这是由于上述化合物B2成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物B2变得容易合成。
在本发明中，上述化合物B3在1分子中所具有的含聚合性基团的基团的数目只要为1以上即可，但优选为1以上且6×m3以下，其中，优选为1以上且3×m3以下。即，在m3为1的情况下，上述化合物B3在1分子中所具有的含聚合性基团的基团优选为1个以上且6个以下，其中，优选为1个以上且3个以下。这是由于上述化合物A成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物B3变得容易合成。
另外，上述化合物B3如上所述具有以X3键合有m3个基团的结构，但m3个基团各自所具有的含聚合性基团的基团的数目优选为6以下，优选为1以上且3以下。这是由于上述化合物B3成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物B3变得容易合成。
需要说明的是，后述的式(B-22)、(B-23)、(B-24)所表示的化合物为符合化合物B3的化合物，是在1分子中所具有的含聚合性基团的基团的数目为3的化合物的例子。
另外，后述的式(B-31)所表示的化合物为符合化合物B3的化合物，是在1分子中所具有的含聚合性基团的基团的数目为1的化合物的例子。
关于作为上述R11、R12、R21、R22、R31、R32、R33、R34、R3、R4、R5、R6、R7、R8及R9使用的碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团，可以设定为与作为上述R101使用的基团同样。
关于上述R3、R4、R5、R6、R7及R8，多个R3彼此、多个R4彼此、多个R5彼此、多个R6彼此、多个R7彼此及多个R8彼此可以分别键合而形成苯环或萘环。
上述化合物B中的R102与上述通式(A)中的R102相同。
作为上述R11、R12、R21、R22、R31、R32、R33、R34、R3、R4、R5、R6、R7、R8及R9使用的含聚合性基团的基团由于可以设定为与上述“(1)含聚合性基团的基团”的项中记载的内容同样，因此这里省略说明。
关于上述R11、R12、R21、R22、R31、R32、R33及R34，R11及R12中的至少一者、R21及R22中的至少一者、R31及R32中的至少一者以及R33及R34中的至少一者为上述-O-R102。
即，上述R11与R12的组合、R21与R22的组合、R31与R32的组合及R33与R34的组合中分别至少一者为上述-O-R102。
在上述组合中，从将上述化合物B制成潜伏性解除前后的紫外线吸收能力的变化大的化合物的观点、及上述化合物B的合成容易的观点出发，优选一者为上述-O-R102。
在上述组合中，从制成潜伏性解除前后的紫外线吸收能力的变化大的化合物的观点出发，优选两者为上述-O-R102。
在上述组合中，在仅一者为上述-O-R102的情况下，另一者优选为氢原子、羟基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团，更优选为氢原子或碳原子数为1～40的烷基。
这是由于通过上述组合中的另一者为上述官能团，上述化合物B成为紫外线吸收能力的变化大的化合物。另外，这是由于上述化合物B成为固化阻碍少的化合物。
另外，作为上述烷基及芳基烷基等，例如还可以优选使用亚甲基被-O-、-CO-等取代而得到的基团。
在上述R3、R4、R5、R6、R7、R8及R9为含聚合性基团的基团以外的基团的情况下，分别独立地优选为氰基、羟基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为7～20的芳基烷基，更优选为氰基、羟基、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为7～10的芳基烷基，更优选为碳原子数为3～10的烷基。
另外，R4也可以优选使用碳原子数为1～10的烷基，其中，可以更优选使用碳原子数为1～5的烷基。
这是由于通过上述R3、R4、R5、R6、R7、R8及R9为上述的基团，上述化合物B的合成变得容易，化合物B在保护基R102脱离后发挥优异的紫外线吸收能力。
另外，作为上述R3、R4、R5、R6、R7、R8及R9中使用的上述烷基及上述芳基烷基，也可以优选使用亚甲基被-O-、-CO-等取代而得到的基团。
在本发明中，R7及R8优选为碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为1～20的烷基的基团中的亚甲基被-O-、-CO-取代而得到的基团，其中，优选为碳原子数为1～8的烷基、碳原子数为2～10的烷基的基团中的亚甲基被-O-、-CO-取代而得到的基团，特别优选为碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为3～8的烷基的基团中的亚甲基被-O-、-CO-取代而得到的基团。
这是由于通过上述R3、R4、R5、R6、R7、R8及R9为上述的基团，上述化合物B的合成变得容易，化合物B在保护基R102脱离后发挥优异的紫外线吸收能力。
上述m31为1，m32表示0～2的整数，m31及m32的合计表示1～3的整数。
从成为在化合物B的潜伏性解除前后紫外线吸收能力的变化大的化合物的观点出发，上述m31及m32的合计优选为2～3的整数，特别优选为3。
上述b1表示0～4的整数。从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，上述b1优选为0～3的整数，更优选为0～2的整数，特别优选为0～1的整数。
上述b2表示0～2的整数。从溶解性的观点出发，上述b2优选为1～2的整数。
上述b3表示0～4的整数。从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，上述b3优选为0～3的整数，更优选为0～2的整数，特别优选为0～1的整数。
上述b4表示0～3的整数。从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，上述b4优选为0～2的整数，特别优选为1～2的整数。
上述b5表示0～2的整数。从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，上述b5特别优选为1～2的整数。
上述b6表示0～3的整数。从可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂的效果及合成的容易性的平衡的观点出发，上述b6优选为0～2的整数，特别优选为1～2的整数。
上述b7表示0～[3-(m31+m32)]的整数。从合成的容易性的观点出发，优选为0～1的整数，优选为0。
上述X1、X2及X3(以下，有时将X1～X3一并称为X。)分别为m1价～m3价的基团(以下，有时将m1～m3一并称为m。另外，有时将m1价～m3价的基团一并称为m价的基团。)或m价的含聚合性基团的基团。
作为上述X使用的m价的含聚合性基团的基团只要是具有聚合性基团的基团则没有特别限制，例如由于可以设定为与上述“(1)含聚合性基团的基团”的项中记载的内容同样，因此这里省略说明。
作为上述X使用的m价的基团表示直接键合、氢原子、氮原子、氧原子、硫原子、磷原子、下述(III-a)或(III-b)所表示的基团、>C＝O、>NR153、-OR153、-SR153、-NR153R154或具有与m同数的价数的碳原子数为1～120的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，R153及R154为氢原子、碳原子数为1～35的脂肪族烃基、碳原子数为6～35的含芳香环烃基或碳原子数为2～35的含杂环基团，该脂肪族烃基、含芳香环烃基及含杂环基团的一个或两个以上亚甲基也有被-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-NH-CO-O-、-NR’-、-S-S-、-SO2-、氮原子或它们的组合取代的情况，上述芳香环或杂环也有与其他的环稠合的情况。将上述亚甲基取代的组合以氧原子不相邻作为条件。
在上述X为氮原子、磷原子或下述(III-a)或(III-b)所表示的键合基团的情况下，m为3，在X为直接键合、氧原子、硫原子、>C＝O、-NH-CO-、-CO-NH-或>NR153的情况下，m为2，在X为氢原子、-OR153、-SR153或-NR153R154的情况下，m为1。
[化学式17]
Figure BDA0002710846890000421
(*是指在*部分与相邻的基团键合。)
作为上述m价的基团使用的具有与m同数的价数的碳原子数为1～120的脂肪族烃基的结构可以根据潜伏性添加剂的用途等而适当设定。
作为1价～3价的碳原子数为1～120的脂肪族烃基，具体而言，可列举出上述“(1)含聚合性基团的基团”的项中记载的作为R53使用的碳原子数为1～120的脂肪族烃基、及作为L1使用的2价～3价的碳原子数为1～120的脂肪族烃基。
上述m价的基团中使用的具有与m同数的价数的碳原子数为6～35的含芳香环烃基的结构可以根据潜伏性添加剂的用途等而适当设定。
作为1价～3价的碳原子数为6～35的含芳香环烃基，具体而言，可列举出上述“(1)含聚合性基团的基团”的项中记载的作为R53使用的碳原子数为6～35的含芳香环烃基、及作为L1使用的2价～3价的碳原子数为6～35的含芳香环烃基。
上述m价的基团中使用的具有与m同数的价数的碳原子数为2～35的含杂环基团的结构可以根据潜伏性添加剂的用途等而适当设定。
作为1价～3价的碳原子数为2～35的含杂环基团，具体而言，可列举出上述“(1)含聚合性基团的基团”的项中记载的作为R53使用的碳原子数为2～35的含杂环基团、及作为L1使用的2价～3价的碳原子数为2～35的含杂环基团。
关于R153及R154，可以分别设定为与上述“(1)含聚合性基团的基团”的项中记载的R53及R54的内容同样。
上述m价的基团在m为2、3、4、5、6时，也可以分别使用日本特开2017-001184号公报中的作为在n为2时可使用的通式(1)、在n为3时可使用的通式(2)、在n为4时可使用的通式(3)、在n为5时可使用的通式(4)、在n为6时可使用的通式(5)记载的基团。
具体而言，作为上述m价的基团，可列举出上述“(1)含聚合性基团的基团”的项中记载的作为L1使用的通式(1)～(5)所表示的基团。
上述m价的基团在m为2的情况下，优选为碳原子数为1～120的脂肪族烃基，更优选为亚烷基或二醇残基，优选为碳原子数为1～10的亚烷基或碳原子数为1～10的二醇残基。这是由于化合物B的制造容易。
上述X的与苯环的键合位置可以设定为任意的位置，例如相对于上述R102-O-的键合位置，优选为邻位或间位。
上述化合物B也可以为具有酚性羟基的化合物、即具有未被保护基R102保护的酚性羟基的化合物，该酚性羟基的数目优选为2个以下，更优选为0个。这是由于上述化合物B成为固化阻碍少的化合物。
作为上述化合物B1～B3的具体例子，例如可列举出下述所表示的化合物。
[化学式18]
Figure BDA0002710846890000441
[化学式19]
Figure BDA0002710846890000451
[化学式20]
Figure BDA0002710846890000461
[化学式21]
Figure BDA0002710846890000471
(3-2)第2实施方式
上述化合物A的第2实施方式为具有适于将潜伏性添加剂用作潜伏性抗氧化剂的结构的化合物。
作为这样的化合物A，例如可以优选使用下述通式(C)所表示的化合物(以下，有时称为化合物C。)。
[化学式22]
Figure BDA0002710846890000472
(式中，R42及R43分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～40的烷基或含聚合性基团的基团，
R44分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团或含聚合性基团的基团，
R102与上述通式(A)中的R102相同，
m4表示1～10的整数，
c1表示0～2的整数，
X4表示m4价的基团或m4价的含聚合性基团的基团，
上述R42、R43、R44及X4中的至少1者为含聚合性基团的基团。)
上述化合物C具有在X4所表示的m4价的基团(m4价的特定的原子或基团)上键合有m4个特定的基团的结构。该m4个基团可以彼此相同，也可以不同。
m4的值为1～10的整数，从合成的容易性的方面出发，优选为1～6，其中，优选为1～5，特别优选为1～4，其中特别优选为1～3，其中特别优选为1～2。这是由于上述化合物C成为能够形成耐光性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物C变得容易合成。
在上述化合物C中，R42、R43、R44及X4中的至少1者为含聚合性基团的基团。
在上述化合物C中，优选R44中的至少1者为含聚合性基团的基团，更优选至少相对于-O-R102为间位的R44为含聚合性基团的基团，特别优选仅相对于-O-R102间位的R44为含聚合性基团的基团。
这是由于通过包含上述含聚合性基团的基团作为上述的基团，从而包含上述化合物C的潜伏性添加剂成为能够形成耐热性等更优异的固化物的潜伏性添加剂。另外，这是由于上述化合物C变得容易合成。
在上述化合物C中的R42、R43及R44中的至少1者为含聚合性基团的基团的情况下，作为上述含聚合性基团的基团，例如可以优选使用上述通式(D)所表示的基团中d+n为2～6的整数的基团，其中，可以优选使用d+n为2～4的整数的基团。这是由于上述化合物C成为能够形成耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物C变得容易合成。
在本发明中，上述化合物C在1分子中所具有的含聚合性基团的基团的数目只要为1以上即可，但优选为1以上且2×m4以下，其中，优选为1以上且m4以下。即，在m4为2的情况下，上述化合物C在1分子中所具有的含聚合性基团的基团优选为1个以上且4个以下，其中，优选为1个以上且2个以下。另外，在m4为1的情况下，优选为1个以上且2个以下，其中，优选为1个。这是由于上述化合物C成为能够形成耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物C变得容易合成。
另外，上述化合物C如上所述具有以X4键合有m4个基团的结构，但m4个基团各自所具有的含聚合性基团的基团的数目优选为2以下，优选为1。这是由于上述化合物C成为能够形成耐热性等优异的固化物的化合物。另外，这是由于上述化合物C变得容易合成。
关于上述R42、R43及R44中使用的碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团，可以设定为与作为上述R101使用的基团同样。
上述R44也可以多个R44彼此分别键合而形成苯环或萘环。
关于上述R102，与上述通式(A)中的R102相同。
上述R42、R43及R44中使用的含聚合性基团的基团由于可以设定为与上述“(1)含聚合性基团的基团”的项中记载的内容同样，因此这里省略说明。
上述R42及R43在为上述含聚合性基团的基团以外的基团的情况下，优选为氢原子、碳原子数为1～10的烷基，更优选为不具有取代基的未取代的碳原子数为1～10的烷基。其中，优选为C4H9所表示的基团，特别优选为叔丁基。
上述R42及R43优选至少一者为碳原子数为1～40的烷基，更优选R42及R43的两者为碳原子数为1～40的烷基，其中，优选R42及R43的两者为碳原子数为1～10的烷基。
上述R42及R43的两者优选为例如叔丁基等不具有取代基的未取代的碳原子数为1～10的烷基。
这是由于通过上述R42及R43为上述的基团，包含上述化合物C的潜伏性添加剂成为能够形成耐热性等更优异的固化物的潜伏性添加剂。另外，这是由于上述化合物C变得容易合成。
上述R44在为上述含聚合性基团的基团以外的基团的情况下，优选为碳原子数为1～40的烷基。
这是由于通过上述R44为上述的基团，包含上述化合物C的潜伏性添加剂成为能够形成耐热性等更优异的固化物的潜伏性添加剂。另外，这是由于上述化合物C变得容易合成。
上述c1为0～2的整数，但从合成的容易性的观点出发，优选为0～1。
上述X4为m4价的基团或m4价的含聚合性基团的基团。作为这样的X4，可以设定为与上述“(3-1)第1实施方式”中记载的X同样的内容。
上述键合基团X4的与苯环的键合位置可以设定为任意的位置，例如相对于上述R102-O-的键合位置，优选为对位。
这是由于通过上述键合位置为上述的位置，包含上述化合物C的潜伏性添加剂成为能够形成耐热性等更优异的固化物的潜伏性添加剂。另外，这是由于上述化合物C变得容易合成。
作为化合物C的具体例子，例如可列举出下述所表示的化合物等。
[化学式23]
Figure BDA0002710846890000501
[化学式24]
Figure BDA0002710846890000511
(3-3)其他
上述化合物A的制造方法只要是能够获得所期望的结构的方法则没有特别限定。上述制造方法例如可列举出下述方法等：通过与国际公开第2000/61685号中记载的方法同样的方法，相对于具有环结构A的化合物导入含聚合性基团的基团，接着，通过与国际公开第2014/021023号中记载的方法同样的方法，合成酚性羟基被R102保护的化合物。
上述化合物A的种类在潜伏性添加剂中可以为仅一种，也可以为两种以上。上述潜伏性添加剂例如可以包含两种以上且五种以下的化合物A。
例如作为上述化合物A，可以将化合物B1～B3与化合物C组合而使用。这种情况下，变得容易获得紫外线吸收能力及抗氧化能力的两者优异的固化物。
上述化合物A的含量只要是可获得能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂则没有限制，根据潜伏性添加剂的种类等而适当设定。
上述化合物A的含量例如在上述潜伏性添加剂的固体成分100质量份中，可以设定为100质量份、即上述潜伏性添加剂为上述化合物A。
另外，上述含量在潜伏性添加剂的固体成分100质量份中也可以设定为低于100质量份、即潜伏性添加剂为包含上述化合物A及其他成分的组合物，例如可以设定为多于10质量份且99.99质量份以下。
在本发明中，从由添加至组合物中带来的耐光性、耐热性等功能提高变得容易的方面出发，上述含量的下限优选为50质量份以上，更优选为70质量份以上，特别优选为90质量份以上。
另外，从粒径控制等变得容易等出发，上述含量的上限优选为99质量份以下，其中，优选为95质量份以下，特别优选为90质量份以下。
需要说明的是，所谓固体成分包含溶剂以外的全部成分。
另外，在作为化合物A包含两种以上的情况下，上述化合物A的含量表示它们的合计量。
上述化合物A优选为通过加热而保护基R102脱离的化合物。
作为上述保护基R102脱离的温度，例如可以设定为100℃以上且300℃以下，优选为120℃以上且250℃以下，更优选为150℃以上且230℃以下。
脱离温度可以设定为通过差示热分析法而显示出5重量％的热减量的温度。
作为测定方法，例如可以使用STA(差示热热重量同时测定装置)，对于试样约5mg、氮200mL/min气氛下、常压下、升温开始温度30℃、升温结束温度500℃、以升温速度10℃/min升温时的试样测定热减量，将相对于30℃时刻的试样重量减量5％的时刻的温度设定为5％重量减少温度。
作为差示热热重量同时测定装置，可以使用STA7000(Hitachi High-TechScience Corporation制)。
2.其他的成分
上述潜伏性添加剂可以包含上述化合物A以外的其他的成分。
作为上述其他的成分，例如可列举出后述的“B.组合物”的“2.树脂”、“3.其他的成分”的项中记载的内容。
上述潜伏性添加剂优选包含上述“2.树脂”的项中记载的非感光性树脂作为上述其他的成分。
上述其他的成分的含量可以根据上述潜伏性添加剂的用途等而适当设定，例如在潜伏性添加剂的固体成分100质量中，可以设定为50质量份以下，优选为10质量份以下。这是由于上述潜伏性添加剂变得容易制成化合物A的含有比例大的潜伏性添加剂，组合物的耐光性、耐热性等功能提高变得容易。
3.潜伏性添加剂
上述潜伏性添加剂的制造方法只要是能够制成以所期望的配合量包含上述化合物A及根据需要使用的其他成分的潜伏性添加剂的方法则没有限制。
在上述潜伏性添加剂包含化合物A及其他的成分的情况下，可列举出使用公知的混合手段的方法。
作为上述潜伏性添加剂的用途，可列举出向包含树脂等的组合物中的添加用途，其中，优选要求耐光性、耐热性等的用途、要求潜伏性添加剂均匀分散在组合物中的用途等。
作为添加上述潜伏性添加剂的组合物的用途，可以用于热固化性涂料、光固化性涂料或清漆、热固化性粘接剂、光固化性粘接剂、印刷电路基板、或彩色电视、PC监视器、便携信息终端、数码相机等彩色显示的液晶显示面板中的滤色器、CCD图像传感器的滤色器、光间隔物、黑色柱状间隔物、等离子体显示面板用的电极材料、触摸面板、触摸传感器、粉末涂敷、印刷油墨、印刷版、粘接剂、牙科用组合物、光造形用树脂、凝胶涂层、电子工学用的光致抗蚀剂、电镀抗蚀剂、蚀刻抗蚀剂、液状及干燥膜这两者、焊料抗蚀剂、用于制造各种显示用途用的滤色器或用于在等离子体显示面板、电发光显示装置及LCD的制造工序中形成结构的抗蚀剂、用于封入电气及电子部件的组合物、阻焊剂、磁记录材料、微小机械部件、波导、光开关、镀覆用掩模、蚀刻掩模、彩色试验系统、玻璃纤维电缆涂敷、丝网印刷用模版、用于通过立体光刻来制造三维物体的材料、全息记录用材料、图像记录材料、微细电子电路、脱色材料、用于图像记录材料的脱色材料、使用微胶囊的图像记录材料用的脱色材料、印刷布线板用光致抗蚀剂材料、UV及可见激光直接图像系用的光致抗蚀剂材料、印刷电路基板的逐次层叠中的电介质层形成中使用的光致抗蚀剂材料、3D安装用光致抗蚀剂材料或保护膜等各种用途，对其用途没有特别限制。
另外，作为上述用途，在上述潜伏性添加剂作为潜伏性紫外线吸收剂使用的情况下，并不限定于在作为制品的使用时等要求耐久性的用途，例如也可以适宜用于在制造过程中受到紫外线照射等的构件。
作为在制造过程中受到紫外线照射等的构件，例如可列举出为了谋求表面的润湿性提高、密合性提高等表面改性而受到紫外线等的照射的构件。
作为上述的要求润湿性提高、密合性提高等的构件，可列举出与其他的构件层叠的构件，例如可列举出等离子体显示面板、有机电致发光显示装置、液晶显示装置等各种图像显示、触摸面板等各种传感器、作为构成电路基板等的构件的滤色器、光间隔物、亮度提高板、导光板、TFT基板、取向膜、液晶层、绝缘膜、扬声器等音响元件、摄像用透镜、键盘、HDD用磁头等要求制造过程中的表面改性或构件的劣化防止的构件。
作为上述的要求制造过程中的表面改性或构件的劣化防止的构件，还可列举出介由粘接剂与其他的构件层叠的构件、通过涂料等被其他的构件被覆的构件，例如还可列举出汽车、飞机的内外装饰构件等搬运机器、冰箱、洗衣机等家电制品、住宅建材等各种用途的构成构件。
另外，有时在基材上形成图案状的构件后，为了露出的基材的表面改性等而与基材一起对上述构件实施紫外线照射等。作为上述用途，也可以优选用于与在这样的制造过程中要求表面改性等的构件一起使用的构件。作为上述用途，例如可列举出与塑料膜或玻璃、硅晶片、各种工程塑料、光学透镜、金属表面、镀层、陶瓷、模具等要求表面洗涤或表面改性等的构件一起使用的构件。
B.组合物
接着，对本发明的组合物进行说明。
本发明的组合物包含具有下述通式(A)所表示的结构及含聚合性基团的基团的化合物(化合物A)和树脂。
[化学式25]
Figure BDA0002710846890000551
(式中，环A表示五元环或六元环的芳香环、或五元环或六元环的杂环，
R101分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团，
R102分别独立地表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团或甲硅烷基，
a1表示1以上的整数，
a2表示1以上的整数。)
更具体而言，上述通式(A)中，环A表示五元环或六元环的芳香环、或五元环或六元环的杂环，
R101分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自下述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自下述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R102分别独立地表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、甲硅烷基、
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自下述组1中的基团取代而得到的基团、或者
上述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自下述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
a1表示1以上的整数，
a2表示1以上的整数。
(组1：烯键式不饱和基团、卤素原子、酰基、酰氧基、取代氨基、磺酰胺基、磺酰基、羧基、氰基、磺基、羟基、硝基、巯基、酰亚胺基、氨基甲酰基、磺酰胺基、膦酸基、磷酸基、羧基的盐、磺基的盐、膦酸基的盐、磷酸基的盐)
(组2：碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NR’-(R’表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基。)、-S-S-、-SO2-、在氧原子不相邻的条件下将它们组合而成的基团)
本发明的组合物通过包含上述化合物A，成为耐光性、耐热性等优异的组合物。另外，能够获得上述潜伏性添加剂均匀地分散的组合物。
以下，对本发明的组合物的各成分进行详细说明。
1.化合物A
作为上述化合物A的含量，根据上述组合物的用途等而适当设定。例如在组合物的固体成分100质量份中，可以设定为0.01质量份以上且20质量份以下，优选为0.05质量份以上且10质量份以下。这是由于能够对组合物稳定地赋予耐光性、耐热性等。
对于上述化合物A，由于与上述“A.化合物及潜伏性添加剂”的项中记载的内容同样，因此这里省略说明。
2.树脂
作为上述树脂，可以使用具有聚合性基团的聚合性化合物、不具有聚合性基团的聚合物中的任一者。
从能够更有效地发挥成为能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的组合物的效果的观点出发，上述树脂优选包含聚合性化合物。
从赋予耐光性、耐热性等的时机的自由度优异的观点出发，上述树脂并不限于聚合性化合物，也可以优选使用不具有聚合性基团的聚合物。
(1)聚合性化合物
上述聚合性化合物为具有聚合性基团的化合物。
上述聚合性化合物根据聚合性基团的种类、即聚合反应的种类而特性不同，例如可列举出具有自由基聚合性基团的自由基聚合性化合物、具有阳离子聚合性基团的阳离子聚合性化合物、具有阴离子聚合性基团的阴离子聚合性化合物等。
在本发明中，上述聚合性化合物优选具有与上述化合物A所具有的聚合性基团相同种类的聚合性基团。
具体而言，在上述化合物A具有自由基聚合性基团作为聚合性基团的情况下，优选使用自由基聚合性化合物作为上述聚合性化合物。
通过化合物A与聚合性化合物具有相同种类的聚合性基团，它们之间容易引起聚合。而且，这是由于在固化物中，能够抑制化合物A及其R102脱离物的析出、升华等。另外，这是由于其结果是，变得容易形成耐光性等优异的固化物。
(1-1)自由基聚合性化合物
自由基聚合性化合物为具有自由基聚合性基团的化合物。
作为上述自由基聚合性基团，只要是能够通过自由基而聚合的基团则没有限制，例如可列举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基等烯键式不饱和基团等。
上述自由基聚合性化合物为具有1个以上自由基聚合性基团的化合物，可以是具有1个自由基聚合性基团的单官能化合物或具有2个以上自由基聚合性基团的多官能化合物中的任一者。
上述自由基聚合性化合物可以是具有酸值的化合物或不具有酸值的化合物中的任一者。
作为上述具有酸值的化合物，例如可列举出甲基丙烯酸、丙烯酸等具有羧基等的丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物等。
作为上述不具有酸值的化合物，可列举出氨基甲酸酯丙烯酸酯树脂、氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯树脂、环氧丙烯酸酯树脂、环氧甲基丙烯酸酯树脂、丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯等不具有羧基等的丙烯酸酯化合物、甲基丙烯酸酯化合物。
上述自由基聚合性化合物可以单独或将两种以上混合使用。例如作为自由基聚合性化合物，可以将具有烯键式不饱和基团且具有酸值的化合物和具有烯键式不饱和基团且不具有酸值的化合物组合使用。
在将两种以上自由基聚合性化合物混合而使用的情况下，可以将它们预先共聚而制成共聚物来使用。
作为这样的自由基聚合性化合物等，更具体而言，可列举出日本特开2016-176009号公报中记载的自由基聚合性化合物等。
(1-2)阳离子聚合性化合物
阳离子聚合性化合物为具有阳离子聚合性基团的化合物。
作为上述阳离子聚合性基团，只要是能够通过阳离子而聚合的基团则没有限制，例如可列举出环氧基、氧杂环丁烷基、乙烯基醚基等。
作为阳离子聚合性化合物，例如可列举出具有环氧基的环氧化合物及具有氧杂环丁烷基的氧杂环丁烷化合物等具有环状醚基的化合物、以及具有乙烯基醚基的乙烯基醚化合物等。
作为这样的阳离子聚合性化合物等，更具体而言，可列举出日本特开2016-176009号公报中记载的阳离子聚合性化合物等。
上述阳离子聚合性化合物为具有1个以上阳离子聚合性基团的化合物，可以是具有1个阳离子聚合性基团的单官能化合物或具有2个以上阳离子聚合性基团的多官能化合物中的任一者。
上述阳离子聚合性化合物可以单独或将两种以上混合使用。在将两种以上阳离子聚合性化合物混合而使用的情况下，可以将它们预先共聚而制成共聚物来使用。
阳离子聚合性化合物可以与光阳离子引发剂、热阳离子引发剂等阳离子引发剂一起使用。
(1-3)阴离子聚合性化合物
阴离子聚合性化合物为具有阴离子聚合性基团的化合物。
作为上述阴离子聚合性基团，只要是能够通过阴离子而聚合的基团则没有限制，可列举出环氧基、内酯基等。
作为上述阴离子聚合性化合物，例如可列举出具有环氧基的环氧化合物、具有内酯基的内酯化合物、具有丙烯酰基、甲基丙烯酰基的化合物等。
作为上述内酯化合物，可列举出β-丙内酯、ε-己内酯等。
作为上述环氧化合物，可列举出作为上述阳离子聚合性化合物而例示的环氧化合物。另外，作为具有丙烯酰基、甲基丙烯酰基等的化合物，可列举出作为上述自由基聚合性化合物而例示的化合物。
上述阴离子聚合性化合物为具有1个以上阴离子聚合性基团的化合物，可以是具有1个上述聚合性基团的单官能化合物或具有2个以上上述聚合性基团的多官能化合物中的任一者。
上述阴离子聚合性化合物可以单独或将两种以上混合使用。在将两种以上阴离子聚合性化合物混合而使用的情况下，可以将它们预先共聚而制成共聚物来使用。
(1-4)其他的聚合性化合物
作为上述聚合性化合物，只要是具有能够高分子量化的官能团的化合物则没有限制，例如还可列举出日本专利4932070号公报中记载的酚醛树脂、不饱和聚酯树脂、聚醚酰亚胺(PEI)、聚酰亚胺(PI)、聚酰胺酰亚胺(PAI)等热固化性树脂。
作为上述聚酰亚胺，可以使用通过进行加热固化并高分子量化而成为聚酰亚胺的化合物，具体而言，可列举出包含聚酰亚胺前体的化合物。作为上述聚酰亚胺前体，可列举出包含聚酰胺酸等的化合物。
作为上述聚酰胺酰亚胺树脂的市售品，例如可列举出HI406(日立化成社制、商品名)等。
作为上述聚酰亚胺，例如可列举出U酰亚胺(UNITIKA LTD.制、商品名)、U-清漆(宇部兴产社制、商品名)、HCI系列(日立化成社、商品名)、AURUM(三井化学社制、商品名)等。
(2)不具有聚合性基团的聚合物
上述聚合物为不具有聚合性基团的化合物。
作为这样的聚合物，只要是包含重复结构的聚合物则没有限制，可列举出具有感光性的感光性树脂、不具有感光性的非感光性树脂等。
(2-1)感光性树脂
上述感光性树脂为具有感光性的树脂，例如可列举出与酸产生剂一起使用且通过酸的作用向酯基或缩醛基等化学键的切断等相对于显影液的溶解性增加的方向变化的正型树脂。
作为这样的正型树脂，例如可列举出日本特开2016-89085号公报中记载的抗蚀剂基础树脂或化合物等。
(2-2)非感光性树脂
作为上述非感光性树脂，只要是不具有感光性的树脂则没有限制，例如可列举出聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醚砜、聚乙烯醇缩丁醛、聚亚苯基醚、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、降冰片烯系树脂、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、异丁烯马来酸酐共聚树脂、环状烯烃系等热塑性树脂。
作为上述非感光性树脂，除了上述的热塑性树脂以外，还可列举出国际公开2016/159103号公报中记载的聚酰亚胺(PI)、热塑性聚酰亚胺树脂(TPI)、聚酰胺酰亚胺(PAI)、液晶聚酯等热塑性树脂、天然橡胶、异戊二烯橡胶等弹性体。
作为上述非感光性树脂，还可列举出有机硅树脂、聚氟乙烯、聚偏氟乙烯等氟树脂等。
作为上述非感光性树脂，也可以使用上述聚合性化合物的聚合物。即，上述组合物也可以是包含聚合性化合物和化合物A的组合物的固化物。
(2-3)聚合物
上述聚合物的重均分子量(Mw)根据组合物的用途等而适当设定，例如可以设定为1500以上，可以设定为1500以上且300000以下。
需要说明的是，上述重均分子量Mw例如可以通过使用TOSOH CORPORATION制的HLC-8120GPC，将洗脱溶剂设定为添加了0.01摩尔/升的溴化锂的N-甲基吡咯烷酮，将校正曲线用聚苯乙烯标准设定为Mw377400、210500、96000、50400、20650、10850、5460、2930、1300、580(以上、Polymer Laboratories社制Easi PS-2系列)及Mw1090000(TOSOHCORPORATION制)，将测定柱设定为TSK-GEL ALPHA-M×2根(TOSOH CORPORATION制)而进行测定来获得。
另外，测定温度可以设定为40℃，流速可以设定为1.0mL/分钟。
3.其他的成分
上述组合物除了包含上述化合物A及树脂以外，根据需要还可以包含其他的成分。
作为上述其他的成分，可列举出与自由基聚合性化合物一起使用的自由基聚合引发剂、与阳离子聚合性化合物一起使用或与感光性化合物一起作为酸产生剂使用的阳离子聚合引发剂、与阴离子聚合性化合物一起使用的阴离子聚合引发剂等聚合引发剂等。
作为这样的自由基聚合引发剂及阳离子聚合引发剂等，更具体而言，可列举出日本特开2016-176009号公报中记载的自由基聚合引发剂及阳离子引发剂等。
另外，作为上述阴离子聚合引发剂等，更具体而言，可列举出日本特开2017-073389号公报中记载的光阴离子聚合引发剂、热阴离子聚合引发剂等。
上述其他的成分除了聚合引发剂以外，还可列举出分散或溶解上述各成分的溶剂、着色剂、无机化合物、使着色剂及无机化合物等分散的分散剂、链转移剂、增感剂、表面活性剂、硅烷偶联剂、三聚氰胺等添加剂。
上述添加剂可以使用公知的材料，例如可以使用国际公开第2014/021023号公报中记载的材料。
上述其他的成分的合计的含量在组合物的固体成分100质量份中可以设定为30质量份以下。
C.固化物
接着，对本发明的固化物进行说明。
本发明的固化物为上述的组合物的固化物。通过使用上述的组合物，固化变得容易。
本发明的固化物为使用上述的组合物的固化物。
以下，对本发明的固化物进行详细说明。
1.组合物
上述组合物为包含聚合性化合物作为树脂的组合物。
关于这样的组合物的内容，可以设定为与上述“B.组合物”的项中记载的内容同样。
2.固化物
上述固化物为包含聚合性化合物的聚合物的固化物。
作为上述固化物中包含的未反应的聚合性化合物的残存率，根据固化物的用途等而适当设定，例如相对于固化物100质量份为10质量份以下，优选为1质量份以下。
上述固化物为包含化合物A的固化物。
上述固化物中包含的化合物A优选介由化合物A中包含的聚合性基团与聚合性化合物等进行聚合。这是由于固化物成为耐光性、耐热性等优异的固化物。
上述固化物为上述组合物的固化物，固化物中包含的上述化合物A有时为失活化状态，也有时为活性状态，但优选为活性状态。这是由于上述固化物成为耐光性、耐热性等优异的固化物。
关于失活化状态及活性状态，如果为上述化合物A中的保护基R102未脱离的状态则可以判断为失活化状态，如果为保护基R102脱离的状态则可以判断为活性状态。
关于上述失活化状态，更具体而言，化合物A中包含的保护基R102脱离后的化合物(以下，有时称为化合物F。)的比例(化合物F/化合物A+化合物F)优选为20/100以下，更优选为10/100以下，特别优选为5/100以下，最优选为0/100。这是由于通过上述比例为上述的范围，能够更有效地发挥潜伏性添加剂的保存稳定性优异的效果。
在保护基R102脱离的情况下，上述固化物包含保护基R102从化合物A脱离后的化合物，进一步包含上述R102来源的脱离物。
上述固化物可以设定为实质上不含溶剂。
作为上述固化物中包含的溶剂的含量，例如相对于固化物100质量份，可以设定为1质量份以下，可以设定为0.5质量份以下。
关于上述固化物的俯视形状，根据上述固化物的用途等而适当设定，例如可以设定为点状、线状等图案状。
关于上述固化物的用途等，可以设定为与上述“A.化合物及潜伏性添加剂”的项中记载的内容同样。
作为上述固化物的制造方法，只要是能够按照成为所期望的形状的方式形成上述组合物的固化物的方法则没有特别限定。
作为这样的制造方法，例如由于可以设定为与后述的“D.固化物的制造方法”的项中记载的内容同样，因此这里省略说明。
D.固化物的制造方法
接着，对本发明的固化物的制造方法进行说明。
本发明的固化物的制造方法具有将上述的组合物中包含的上述聚合性化合物聚合的工序。
通过具有上述的工序，能够将上述聚合性化合物彼此聚合，并且上述化合物A能够化合物A彼此和/或与聚合性化合物聚合。其结果是，能够获得耐光性、耐热性等优异的固化物。
本发明的制造方法包含进行聚合的工序。
以下，对本发明的制造方法的各工序进行详细说明。
需要说明的是，关于上述的组合物，由于为与上述“B.组合物”的项中记载的内容同样的内容，因此这里省略记载。
1.聚合的工序
上述聚合的工序是将上述的组合物中包含的上述聚合性化合物进行聚合的工序。
上述聚合方法根据聚合性化合物及与其一起包含的聚合引发剂等固化剂的种类而不同。
例如在上述组合物包含聚合性化合物以及作为聚合引发剂的光聚合引发剂的情况下，可以使用对组合物进行光照射而将聚合性化合物彼此聚合的方法。
作为对组合物照射的光，例如可列举出包含波长为300nm～450nm的光的光。
作为上述光照射的光源，例如可列举出超高压汞、汞蒸气弧、碳弧、氙弧等。
作为上述照射的光，可以使用激光。作为激光，可列举出包含波长为340～430nm的光的激光。
作为激光的光源，可列举出氩离子激光器、氦氖激光器、YAG激光器、及半导体激光器等发出可见～红外区域的光的激光器。
需要说明的是，在使用这些激光器的情况下，上述组合物可以包含吸收可见～红外的该区域的增感色素。
作为上述聚合方法，例如在组合物包含聚合性化合物以及作为聚合引发剂的热聚合引发剂的情况下，可以使用对组合物进行加热处理而将聚合性化合物彼此聚合的方法。
加热温度只要是能够将上述组合物稳定地固化则没有限制，可以设定为60℃以上、优选100℃以上且300℃以下。加热温度可以设定为组合物的涂膜表面的温度。
作为加热时间，可以进行10秒～3小时左右。
上述聚合方法的种类可以包含仅一种，也可以包含两种以上。
2.其他的工序
上述固化物的制造方法具有上述聚合的工序，但根据需要也可以包含其他的工序。
作为上述其他的工序，可列举出在上述聚合的工序前将上述R102从上述组合物中包含的上述化合物A脱离的工序、将上述R102从上述聚合的工序后的组合物即上述的组合物的固化物所包含的上述化合物A中脱离的工序、将上述组合物涂布于基材上的工序等。
关于上述脱离的工序中的将上述R102从化合物A中脱离的方法，由于可以设定为与后述的“E.第2组合物的制造方法”的项中记载的内容同样，因此这里省略说明。
作为上述涂布的工序中的涂布组合物的方法，可列举出旋涂机、辊涂机、棒涂机、模涂机、帘式涂布机、各种印刷、浸渍等公知的方法。
作为上述基材，可以根据固化物的用途等而适当设定，可列举出包含钠玻璃、石英玻璃、半导体基板、金属、纸、塑料等的基材。
另外，上述固化物在基材上形成后，可以从基材上剥离而使用，也可以从基材转印到其他的被粘物而使用。
E.第2组合物的制造方法
接着，对第2组合物的制造方法进行说明。
本发明的第2组合物的制造方法具有将上述R102从上述的组合物所包含的上述化合物(化合物A)中脱离的工序。
通过具有上述的工序，上述化合物A中的被R102保护的酚性羟基变成未被保护的酚性羟基，变得能够发挥紫外线吸收能力、抗氧化能力等。其结果是，能够获得耐光性、耐热性等优异的组合物。
本发明的第2组合物的制造方法具有将保护基脱离的工序。
以下，对本发明的第2组合物的制造方法的各工序进行详细说明。
1.将保护基脱离的工序
本工序是将作为保护基的上述R102从上述的组合物所包含的上述化合物A中脱离的工序。
作为将上述R102从上述化合物A中脱离的方法，只要是能够将上述保护基R102稳定地脱离的方法即可，例如可列举出对上述组合物进行加热处理的方法。
上述加热处理中的加热温度只要是保护基R102脱离的温度则没有限制，例如可以设定为保护基R102的脱离温度以上的温度。
另外，在上述组合物包含酸催化剂、碱催化剂等的情况下，上述加热温度可以设定为在保护基R102单独时观察到的脱离温度以下。
上述加热处理的温度例如可以设定为50℃以上且250℃以下，其中优选为60℃以上且200℃以下，更优选为80℃以上且200℃以下。这是由于通过为上述加热处理的温度，能够抑制树脂的劣化等。上述组合物的温度可以设定为组合物表面的温度。
通过本工序，得到保护基R102从上述化合物A脱离后的化合物。
上述保护基R102脱离后的化合物为潜伏性被解除的状态，成为发挥作为紫外线吸收剂的功能的化合物。
需要说明的是，关于上述的组合物，由于为与上述“B.组合物”的项中记载的内容同样的内容，因此这里省略记载。
2.其他的工序
上述制造方法除了包含将保护基脱离的工序以外，根据需要还可以包含其他的工序。
作为上述其他的工序，例如可列举出将上述组合物涂布于基材上的工序、在上述组合物包含聚合性化合物作为树脂的情况下将上述聚合性化合物聚合的工序、在上述组合物包含感光性树脂作为树脂的情况下将感光性树脂显影的工序等。
关于上述涂布的工序及聚合的工序，可以设定为与上述“D.固化物的制造方法”的项中记载的内容同样。
作为上述显影的工序中的感光性树脂的显影方法，可以使用公知的方法，例如可列举出通过酸的作用而增加相对于显影液的溶解性、接着用显影液进行显影的方法等。
F.其他
1.一种潜伏性添加剂，其包含具有上述通式(A)所表示的结构和含聚合性基团的基团的化合物。
2.根据1所述的潜伏性添加剂，其中，上述化合物为上述通式(B1)、(B2)、(B3)或(C)所表示的化合物。
3.根据2所述的潜伏性添加剂，其中，上述通式(B1)中的R3及R4中的至少1者为含聚合性基团的基团，上述通式(B2)中的R5及R6中的至少1者为含聚合性基团的基团，上述通式(B3)中的R7及R8中的至少1者为含聚合性基团的基团，上述通式(C)中的R44中的至少1者为上述含聚合性基团的基团。
4.根据2或3所述的潜伏性添加剂，其中，上述化合物包含上述通式(B3)所表示的化合物，
上述通式(B3)中的相对于R31为间位的R7、及相对于R33为间位的R8中的至少1者为含聚合性基团的基团。
5.根据1～4中任一项所述的潜伏性添加剂，其中，上述R102为碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团，上述烷基、上述烯基、上述芳基、上述芳基烷基及上述含杂环基团为氧原子侧末端的亚甲基被-CO-O-取代的基团。
6.一种组合物，其包含具有上述通式(A)所表示的结构及含聚合性基团的基团的化合物和树脂。
7.根据6所述的组合物，其中，上述树脂包含聚合性化合物。
8.一种固化物，其是7所述的组合物的固化物。
9.一种固化物的制造方法，其具有将7所述的组合物中包含的上述聚合性化合物聚合的工序。
10.一种组合物的制造方法，其具有将上述R102从6或7所述的组合物所包含的上述化合物中脱离的工序。
本发明并不限定于上述实施方式。上述实施方式为例示，具有与权利要求书中记载的技术思想实质上相同的构成且发挥同样的作用效果的方式不管是任何方式均包含于本发明的技术范围内。
实施例
以下，列举出实施例等对本发明进一步进行详细说明，但本发明并不限定于这些实施例。
[实施例1]
将4,4’,4”-(1,3,5-三嗪-2,4,6-甲苯基)三(2-甲基苯-1,3-二醇)(60mmol)、碳酸钾(180mmol)、二甲基乙酰胺(DMAc)(120mL)投入反应容器中，升温至135℃。升温后，滴加3-氯-1-丙醇(200mmol)，搅拌10小时。反应结束后，加入甲苯(300mL)和水(300mL)，将油相分离，进行3次水洗。将油相在减压下脱溶剂后，进行晶析(DMF 800mL)。
将所得到的固体(1当量)、对甲苯磺酸(PTS)/H2O(0.1当量)、对甲氧基苯酚(0.05当量)、甲苯(800mL)投入反应容器中，升温至110℃。升温后，滴加甲基丙烯酸(6当量)，搅拌10小时。反应结束后，将反应液进行水洗，在减压下进行脱溶剂后，进行晶析(二甲基甲酰胺(DMF)/醋酸丁酯＝100/300)。
进而，将所得到的固体(1当量)、二碳酸二叔丁酯(5当量)、吡啶(300mL)投入反应容器中，在氮气氛下、室温下加入4-二甲基氨基吡啶(0.25当量)，在60℃下搅拌3小时。反应结束后，加入甲苯(500mL)和水(500mL)，将油相分离，进行3次水洗。将油相在减压下进行脱溶剂后，进行晶析(甲醇300mL)，得到包含下述通式(B-22)所表示的化合物的潜伏性添加剂(潜伏性紫外线吸收剂)。
将所得到的化合物的1H-NMR及IR的测定结果示于下述表1及表2中。
[实施例2～3]
除了使用6-氯1-己醇或2-(2-氯乙氧基)乙醇来代替3-氯-1-丙醇以外，通过与实施例1同样的方法，合成下述通式(B-23)及(B-24)所表示的化合物，得到包含该化合物的潜伏性添加剂(潜伏性紫外线吸收剂)。将所得到的化合物的1H-NMR及IR的测定结果示于下述表1及表2中。
[实施例4]
将2-[2-羟基-5-[2-(甲基丙烯酰氧基)乙基]苯基]-2H-苯并三唑(50mmol)、二碳酸二叔丁酯(75mmol)、吡啶(200mL)投入反应容器中，在氮气氛下、室温下加入4-二甲基氨基吡啶(12mmol)，在60℃下搅拌3小时。反应结束后，加入甲苯(500mL)和水(500mL)，将油相分离，进行3次水洗。将油相在减压下进行脱溶剂后，进行晶析(甲醇300mL)，得到包含下述通式(B-3)所表示的化合物的潜伏性添加剂(潜伏性紫外线吸收剂)。测定所得到的化合物的1H-NMR及IR，确认结构。
[化学式26]
Figure BDA0002710846890000681
[实施例5]
将甲基丙烯酸2-(4-(4,6-双(4-(己氧基)-2-羟基-3-甲基苯基)-1,3,5-三嗪-2-基)-3-羟基-2-甲基苯氧基)乙酯(50mmol)、二碳酸二叔丁酯(200mmol)、吡啶(200mL)投入反应容器中，在氮气氛下、室温下加入4-二甲基氨基吡啶(12mmol)，在40℃下搅拌3小时。反应结束后，加入醋酸乙酯(500mL)和水(500mL)，将油相分离，进行3次水洗。将油相在减压下进行脱溶剂后，进行硅胶柱纯化，用甲醇进行晶析，得到包含下述通式(B-31)所表示的化合物的潜伏性添加剂(潜伏性紫外线吸收剂)。将所得到的化合物的1H-NMR及IR的测定结果示于下述表1及表2中。
[化学式27]
Figure BDA0002710846890000691
[实施例6]
将2-(叔丁基)-6-(5-氯-2H-苯并[d][1,2,3]三唑-2-基)-4-甲基苯酚(60mmol)、碳酸钾(75mmol)、2-巯基乙醇(75mmol)、DMF(60mL)投入反应容器中，在氮气氛下、110℃下搅拌4小时。反应结束后，加入甲苯(500mL)和水(500mL)，将油相分离，进行3次水洗。将油相浓缩至60mL，向其中加入对甲苯磺酸(3mmol)、甲基丙烯酸(60mmol)，使用迪安-斯塔克装置，进行脱水缩合反应。反应结束后，追加甲苯(100mL)，进行3次水洗。将油相浓缩，将二碳酸二叔丁酯(75mmol)、吡啶(100mL)投入反应容器中，在氮气氛下、室温下加入4-二甲基氨基吡啶(12mmol)，在40℃下搅拌2小时。反应结束后，加入醋酸乙酯(500mL)和水(500mL)，将油相分离，进行3次水洗。将油相在减压下进行脱溶剂后，进行硅胶柱纯化，得到包含下述通式(B-32)所表示的化合物的潜伏性添加剂(潜伏性紫外线吸收剂)。将所得到的化合物的1H-NMR及IR的测定结果示于下述表1及表2中。
[化学式28]
Figure BDA0002710846890000701
[表1]
Figure BDA0002710846890000702
[表2]
Figure BDA0002710846890000711
[实施例7]
将3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸(50mmol)、季戊四醇(50mmol)、甲苯(300mL)投入反应容器中，加入对甲苯磺酸(PTS)/H2O(5mmol)，升温至110℃。升温后，反应3小时后，滴加丙烯酸(150mmol)，搅拌8小时。反应结束后，将反应液进行水洗，将油相在减压下进行脱溶剂，得到包含下述通式(C-7)所表示的化合物的潜伏性添加剂(潜伏性抗氧化剂)。测定所得到的化合物的1H-NMR及IR。
[化学式29]
Figure BDA0002710846890000721
[实施例2-1～2-17及比较例2-1～2-12]
按照下述表3～5中记载的配方，将实施例中得到的潜伏性添加剂(潜伏性紫外线吸收剂及潜伏性抗氧化剂)、紫外线吸收剂及抗氧化剂、树脂(具有酸值的聚合性化合物、不具有酸值的聚合性化合物)、光聚合引发剂、添加剂(硅烷偶联剂、流平剂)、溶剂及着色剂配合而得到组合物。
另外，各成分使用以下的材料。
需要说明的是，表中的配合量表示各成分的质量份。
[制造例1]树脂No.1的制造
将1,1-双〔4-(2,3-环氧基丙氧基)苯基〕茚满的30.0g、丙烯酸7.52g、2,6-二叔丁基对甲酚0.080g、四丁基氯化铵0.183g及丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)11.0g投入反应容器中，进行90℃下1小时、105℃下1小时及120℃下17小时搅拌。之后，冷却至室温，加入琥珀酸酐8.11g、四丁基氯化铵0.427g及PGMEA11.1g，在100℃下搅拌5小时。进而，加入1,1-双〔4-(2,3-环氧基丙氧基)苯基〕茚满12.0g、2,6-二叔丁基对甲酚0.080g及PGMEA 0.600g，进行90℃下90分钟、120℃下5小时搅拌后，加入PGMEA 24.0g，作为PGMEA溶液得到树脂No.1(Mw＝4900、Mn＝2250、酸值(固体成分)47mg·KOH/g、固体成分45.0质量％)。
(潜伏性紫外线吸收剂)
B-1：上述通式(B-22)所表示的化合物(实施例1中得到的潜伏性添加剂)
B-2：上述通式(B-23)所表示的化合物(实施例2中得到的潜伏性添加剂)
B-3：上述通式(B-24)所表示的化合物(实施例3中得到的潜伏性添加剂)
B-4：上述通式(B-3)所表示的化合物(实施例4中得到的潜伏性添加剂)
B-5：上述通式(B-31)所表示的化合物(实施例5中得到的潜伏性添加剂)
B-6：上述通式(B-32)所表示的化合物(实施例6中得到的潜伏性添加剂)
(紫外线吸收剂)
B’-1：下述通式(B’-1)所表示的化合物
B’-2：下述通式(B’-2)所表示的化合物
B’-3：下述通式(B’-3)所表示的化合物
B’-4：下述通式(B’-4)所表示的化合物
[化学式30]
Figure BDA0002710846890000731
(潜伏性抗氧化剂)
C-1：上述通式(C-7)所表示的化合物(实施例7中得到的潜伏性添加剂)
(抗氧化剂)
C’-1：下述通式(C’-1)所表示的化合物
C’-2：下述通式(C’-2)所表示的化合物
[化学式31]
Figure BDA0002710846890000741
(具有酸值的聚合性化合物)
D-1：自由基聚合性化合物(昭和电工社制Ripoxy SPC-1000固体成分29质量％PGMEA溶液)
D-2：制造例1中制造的树脂No.1
(不具有酸值的聚合性化合物)
E-1：自由基聚合性化合物(东亚合成社制ARONIX M-450(季戊四醇三及四丙烯酸酯3～4的混合物)
E-2：自由基聚合性化合物(日本化药社制KAYARAD DPHA(二季戊四醇五及六丙烯酸酯的混合物))
E-3：自由基聚合性化合物(新中村化学工业社制NK Oligo EA-1020(双酚A型环氧丙烯酸酯)
E-4：自由基聚合性化合物(根上工业社制Art Resin UN-3320(氨基甲酸酯丙烯酸酯))
(光聚合引发剂)
F-1：下述式(F1)所表示的化合物(肟酯系光自由基聚合引发剂)
F-2：下述式(F2)所表示的化合物(肟酯系光自由基聚合引发剂)
F-3：BASF公司制Irgacure TPO(氧化膦系自由基聚合引发剂)
F-4：下述式(F3)所表示的化合物(氨基苯乙酮系自由基聚合引发剂)
[化学式32]
Figure BDA0002710846890000751
(添加剂)
G-1：信越化学工业社制硅烷偶联剂KBE-403(硅烷偶联剂)
G-2：FZ-2122(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制、固体成分1％的PGMEA溶液流平剂)
(溶剂)
H-1：PGMEA
H-2：甲乙酮(MEK)
H-3：二甲基乙酰胺(DMAc)
(着色剂)
I-1：Acid Red52
I-2：下述式(I-2)所表示的五次甲基菁
[化学式33]
Figure BDA0002710846890000761
[评价]
对于实施例及比较例的组合物，进行了下述评价。
1.感度评价1
各实施例及比较例中制备的组合物中，作为包含具有酸值的聚合性化合物的实施例2-1～2-9、2-13～2-17及比较例2-1～2-12的组合物的感度评价，进行了下述线宽感度的评价。
首先，将上述实施例及比较例的各组合物旋涂(500rpm、2秒钟、900rpm、5秒钟)于玻璃基板上，形成干燥后(预烘烤后)的膜厚成为10μm的涂膜。
接着，对于涂膜，使用热板，在90℃下进行90秒钟预烘烤，使用高压汞灯作为光源，介由掩模(开口部的线宽20μm)进行曝光(40mJ/cm2)，得到固化物。
接着，使用2.5质量％碳酸钠水溶液作为显影液进行显影，充分水洗后，使用烘箱，在230℃下进行30分钟后烘烤，使图案定影。
用电子显微镜测定所得到的图案的线宽，按照以下的基准进行了线宽感度的评价。将结果示于下述表3～5中。
另外，使用触针式表面形状测定器来测定所得到的图案的膜厚，按照以下的基准进行了残膜感度的评价。将结果示于下述表3～5中。
(线宽感度)
〇：固化物的线宽/20μm为1.0以上。
×：固化物的线宽/20μm低于1.0。
需要说明的是，若线宽感度为“〇”，则表示组合物可抑制固化阻碍的产生，充分地固化。
(残膜感度)
〇：固化物的膜厚/10μm为0.75以上。
×：固化物的膜厚/10μm低于0.75。
需要说明的是，若残膜感度为“〇”，则表示组合物的固化阻碍的产生得以抑制，充分地固化。
2.感度评价2
实施例及比较例中制备的组合物中，作为不含具有酸值的聚合性化合物的实施例18～20及比较例17～19的组合物的感度评价，使用阶段式曝光表(Step Tablet)进行了评价。
具体而言，将上述组合物用棒涂机以约3μm的厚度涂布于PET膜上。
接着，在80℃下进行3分钟预烘烤后，使用超高压汞灯(UL750)作为光源进行曝光(20mW/cm2)。需要说明的是，曝光按照曝光光量成为400mJ的方式进行。
此时，为了能够测定光感度，使用了按照透光率阶段性变少的方式制作的负膜(将光学密度0.05设定为第1段且光学密度每1段各增加0.15的阶段式曝光表)。
接着，使用PGMEA，在25℃的环境下、进行10秒钟冲洗而显影。
接着，在80℃下干燥30分钟。
接着，通过测定形成于PET膜上的固化物的阶段式曝光表的段数来评价光感度。将其结果示于下述表3～5中。
需要说明的是，阶段式曝光表的段数越高表示光感度越高。
另外，若阶段式曝光表的段数为10以上，则表示组合物可抑制固化阻碍的产生，充分地固化。
3.耐热性
除了未进行显影处理及水洗以外，与“1.感度评价1”同样地操作而得到评价用样品。
接着，使用烘箱，进行了将评价用样品在200℃下进行2小时热处理的耐热性试验。
测定评价用样品的耐热性试验前后的波长430nm下的透射率(％)之差((耐热性试验前的透射率(％)-耐热性试验前的透射率(％))，按照以下的基准进行了耐热性评价。
〇：透射率差(％)相对于耐热性试验前的透射率低于1％。
△：透射率差(％)相对于耐热性试验前的透射率为1％以上且低于3％。
×：透射率差(％)相对于耐热性试验前的透射率为3％以上。
需要说明的是，若耐热性评价为“〇”，则表示固化物的耐热性优异，其次，按照“△”、“×”的顺序，耐热性优异。
4.耐光性
除了未进行显影处理及水洗以外，与“1.感度评价1”同样地操作而得到评价用样品。
接着，使用Suga Test Instruments Co.,Ltd.制氙耐光性试验机Table Sun XT-1500L，对评价用样品实施96小时耐光性试验。
测定评价用样品的耐光性试验前后的波长430nm下的透射率(％)之差((耐光性试验前的透射率(％)-耐光性试验后的透射率(％))，按照以下的基准进行了耐光性评价。
〇：透射率差(％)相对于耐光性试验前的透射率低于3％。
△：透射率差(％)相对于耐光性试验前的透射率为3％以上且低于5％。
×：透射率差(％)相对于耐光性试验前的透射率为5％以上。
需要说明的是，若耐光性评价为“〇”，则表示固化物的耐光性优异，其次，按照“△”、“×”的顺序，固化物的耐光性优异。
5.HAZE评价
除了未进行显影处理及水洗以外，与“1.感度评价1”同样地操作而得到评价用样品。
接着，对于评价用样品，使用雾度计进行了雾度测定。测定中使用日本电色制雾度计NDH5000，判定基准设定为如下。
〇：HAZE低于2
×：HAZE为2以上
需要说明的是，HAZE越大，表示抗氧化剂、紫外线吸收剂等添加剂的析出越多。因此，评价越为〇，表示添加剂等的析出越少而良好。
6.升华性试验
作为实施例2-5、比较例2-2、比较例2-3中得到的组合物的升华性试验，进行了以下的评价。
首先，在玻璃基板上旋涂(500rpm、7秒钟)上述组合物，使用热板在90℃下进行了90秒钟预烘烤。
接着，使用高压汞灯作为光源进行曝光(100mJ/cm2)，得到固化膜。在该固化膜上设置0.7mm的间隔物和玻璃基板，使用热板进行230℃2小时加热。
加热后，测定设置于固化膜上的玻璃基板的吸收光谱。将结果示于下述表6中。
需要说明的是，365nm的吸光度越低，表示添加剂的升华越少。
[表3]
Figure BDA0002710846890000801
[表4]
Figure BDA0002710846890000811
[表5]
Figure BDA0002710846890000821
[表6]
365nm吸光度
实施例2-5 0.02
比较例2-2 0.28
比较例2-3 1.08
[总结]
由表3～5可以确认，实施例的组合物通过包含本发明的潜伏性添加剂，可不产生固化阻碍地得到耐光性或耐热性优异的固化物。
特别是由实施例2-1和比较例2-1的结果推测：本发明的潜伏性添加剂通过得到充分固化的固化物、和介由聚合性基团与树脂聚合而变成从固化物的析出、升华少的潜伏性添加剂等，可得到紫外线吸收能力、抗氧化能力的经时变化少的固化物。
若将实施例2-2的HAZE评价结果与比较例2-2及比较例2-3的结果进行比较，则可以确认本发明的潜伏性添加剂通过具有聚合性基团，可抑制从固化物的析出。
若将实施例2-2的感度评价结果与比较例2-2～比较例2-4的结果进行比较，则可以确认本发明的潜伏性添加剂通过酚性羟基被R102保护，可得到感度优异的组合物。
由表6的结果可以确认，本发明的潜伏性添加剂从固化物的升华性低。另外，由比较例2-2及比较例2-3的结果可以确认，通过酚性羟基被R102保护，可得到充分地固化的固化物，结果是可抑制添加剂的升华。
产业上的可利用性
根据本发明，可提供能够形成耐光性、耐热性等优异的固化物的潜伏性添加剂及组合物。

Claims (11)

1.一种化合物，其具有：下述通式(A)所表示的结构、和
含聚合性基团的基团，
Figure FDA0002710846880000011
式中，环A表示五元环或六元环的芳香环、或五元环或六元环的杂环，
R101分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自下述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自下述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R102分别独立地表示碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、甲硅烷基、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自下述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自下述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
a1表示1以上的整数，
a2表示1以上的整数，
组1：烯键式不饱和基团、卤素原子、酰基、酰氧基、取代氨基、磺酰胺基、磺酰基、羧基、氰基、磺基、羟基、硝基、巯基、酰亚胺基、氨基甲酰基、磺酰胺基、膦酸基、磷酸基、羧基的盐、磺基的盐、膦酸基的盐、磷酸基的盐；
组2：碳-碳双键、-O-、-S-、-CO-、-O-CO-、-CO-O-、-O-CO-O-、-S-CO-、-CO-S-、-S-CO-O-、-O-CO-S-、-CO-NH-、-NH-CO-、-NH-CO-O-、-O-CO-NH-、-NR’-、-S-S-、-SO2-、在氧原子不相邻的条件下将它们组合而成的基团，
R’表示氢原子或碳原子数为1～8的烷基。
2.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述化合物以下述通式(B1)、(B2)、(B3)或(C)表示，
Figure FDA0002710846880000021
式中，R3及R4分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自所述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自所述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R11及R12分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自所述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自所述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R11及R12中的至少一者为所述-O-R102，
R102与所述通式(A)中的R102相同，
m1表示1～10的整数，
b1表示0～4的整数，
b2表示0～2的整数，
X1表示m1价的基团或m1价的含聚合性基团的基团，
所述R11、R12、R3、R4及X1中的至少1者为含聚合性基团的基团；
Figure FDA0002710846880000031
式中，R5及R6分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自所述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自所述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R21及R22分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自所述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自所述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R21及R22中的至少一者为所述-O-R102，
R102与所述通式(A)中的R102相同，
m2表示1～10的整数，
b3表示0～4的整数，
b4表示0～3的整数，
X2表示m2价的基团或m2价的含聚合性基团的基团，
所述R21、R22、R5、R6及X2中的至少1者为含聚合性基团的基团；
Figure FDA0002710846880000041
式中，R7、R8及R9分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自所述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自所述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R31、R32、R33及R34分别独立地表示氢原子、卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、-O-R102、含聚合性基团的基团、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自所述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自所述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R31及R32中的至少一者为所述-O-R102，
R33及R34中的至少一者为所述-O-R102，
R102与所述通式(A)中的R102相同，
m3表示1～10的整数，
m31为1，
m32表示0～2的整数，
m31及m32的合计表示1～3的整数，
b5表示0～2的整数，
b6表示0～3的整数，
b7表示0～[3-(m31+m32)]的整数，
X3表示m3价的基团或m3价的含聚合性基团的基团，
所述R31、R32、R33、R34、R7、R8、R9及X3中的至少1者为含聚合性基团的基团；
Figure FDA0002710846880000051
式中，R42及R43分别独立地表示表示氢原子、碳原子数为1～40的烷基或含聚合性基团的基团，
R44分别独立地表示卤素原子、氰基、羟基、硝基、羧基、碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基、碳原子数为2～20的含杂环基团、含聚合性基团的基团、
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团的一个或两个以上氢原子被选自所述组1中的基团取代而得到的基团、或者
所述烷基、芳基、芳基烷基或含杂环基团中的一个或两个以上亚甲基被选自所述组2中的二价的基团取代而得到的基团，
R102与所述通式(A)中的R102相同，
m4表示1～10的整数，
c1表示0～2的整数，
X4表示m4价的基团或m4价的含聚合性基团的基团，
所述R42、R43、R44及X4中的至少1者为含聚合性基团的基团。
3.根据权利要求2所述的化合物，其中，所述通式(B1)中的R3及R4中的至少1者为含聚合性基团的基团，
所述通式(B2)中的R5及R6中的至少1者为含聚合性基团的基团，
所述通式(B3)中的R7及R8中的至少1者为含聚合性基团的基团，
所述通式(C)中的R44中的至少1者为所述含聚合性基团的基团。
4.根据权利要求2或权利要求3所述的化合物，其中，所述化合物包含所述通式(B3)所表示的化合物，
所述通式(B3)中的相对于R31为间位的R7、及相对于R33为间位的R8中的至少1者为含聚合性基团的基团。
5.根据权利要求1～权利要求4中任一项所述的化合物，其中，所述R102为碳原子数为1～40的烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为6～20的芳基、碳原子数为7～20的芳基烷基或碳原子数为2～20的含杂环基团中的氧原子侧末端的亚甲基被-CO-O-取代而得到的基团。
6.一种潜伏性添加剂，其包含权利要求1～权利要求5中任一项所述的化合物。
7.一种组合物，其包含权利要求1～权利要求5中任一项所述的化合物、和树脂。
8.根据权利要求7所述的组合物，其中，所述树脂包含聚合性化合物。
9.一种固化物，其是权利要求8所述的组合物的固化物。
10.一种固化物的制造方法，其具有将权利要求8所述的组合物中包含的所述聚合性化合物聚合的工序。
11.一种组合物的制造方法，其具有将所述R102从权利要求7或权利要求8所述的组合物所包含的所述化合物中脱离的工序。
CN201980024057.6A 2018-05-08 2019-04-26 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法 Active CN111936532B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202410225978.1A CN118084809A (zh) 2018-05-08 2019-04-26 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-090259 2018-05-08
JP2018090259 2018-05-08
PCT/JP2019/017926 WO2019216266A1 (ja) 2018-05-08 2019-04-26 化合物、潜在性添加剤、組成物、硬化物、硬化物の製造方法及び組成物の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202410225978.1A Division CN118084809A (zh) 2018-05-08 2019-04-26 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111936532A true CN111936532A (zh) 2020-11-13
CN111936532B CN111936532B (zh) 2024-03-12

Family

ID=68467359

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201980024057.6A Active CN111936532B (zh) 2018-05-08 2019-04-26 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法
CN202410225978.1A Pending CN118084809A (zh) 2018-05-08 2019-04-26 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202410225978.1A Pending CN118084809A (zh) 2018-05-08 2019-04-26 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7469224B2 (zh)
KR (1) KR20210006324A (zh)
CN (2) CN111936532B (zh)
TW (1) TW201946908A (zh)
WO (1) WO2019216266A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7474613B2 (ja) * 2020-03-19 2024-04-25 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体を用いた水性組成物
JP7456819B2 (ja) * 2020-03-19 2024-03-27 ミヨシ油脂株式会社 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収単位を含む共重合体及びその組成物
JP2023527315A (ja) 2020-05-22 2023-06-28 アリゴス セラピューティクス インコーポレイテッド Ｐｄ－ｌ１を標的とするための方法及び組成物

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1029369A (ja) * 1996-07-16 1998-02-03 Konica Corp インクジェット記録用紙
JPH11181031A (ja) * 1997-10-15 1999-07-06 Fuji Photo Film Co Ltd 熱発色性ポリマーおよびそれを用いた画像記録媒体並びに画像記録方法
JP2000343828A (ja) * 1999-03-31 2000-12-12 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法並びに画像形成媒体
JP2000343836A (ja) * 1999-03-31 2000-12-12 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP2001088446A (ja) * 1999-09-27 2001-04-03 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP2017066370A (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 株式会社Adeka 組成物
US20170198117A1 (en) * 2014-08-05 2017-07-13 Adeka Corporation Antioxidant for thermoplastic resin and thermoplastic resin composition containing same
JP2017122221A (ja) * 2016-01-08 2017-07-13 エルジー・ケム・リミテッド 化合物、これを含む色材組成物、およびこれを含む樹脂組成物
WO2017170183A1 (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 株式会社Adeka 組成物及び新規化合物
JP2017203161A (ja) * 2016-05-10 2017-11-16 エルジー・ケム・リミテッド 化合物、これを含む色材組成物及びこれを含む樹脂組成物｛ｃｏｍｐｏｕｎｄ、ｃｏｌｏｒａｎｔ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ ｔｈｅ ｓａｍｅ ａｎｄ ｒｅｓｉｎ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ ｔｈｅ ｓａｍｅ｝
CN107817650A (zh) * 2012-07-31 2018-03-20 株式会社艾迪科 潜伏性添加剂以及含有该添加剂的组合物

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011048382A (ja) 2010-10-01 2011-03-10 Kodak Japan Ltd 感光性組成物、感光性平版印刷版および平版印刷版の作成方法
JP6049521B2 (ja) 2013-03-29 2016-12-21 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜、画像形成方法、固体撮像素子、カラーフィルタおよび紫外線吸収剤
JP2015108649A (ja) 2013-12-03 2015-06-11 凸版印刷株式会社 青色感光性組成物およびカラーフィルタ基板
WO2019069835A1 (ja) * 2017-10-04 2019-04-11 株式会社Adeka 組成物、硬化物及び硬化物の製造方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1029369A (ja) * 1996-07-16 1998-02-03 Konica Corp インクジェット記録用紙
JPH11181031A (ja) * 1997-10-15 1999-07-06 Fuji Photo Film Co Ltd 熱発色性ポリマーおよびそれを用いた画像記録媒体並びに画像記録方法
JP2000343828A (ja) * 1999-03-31 2000-12-12 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法並びに画像形成媒体
JP2000343836A (ja) * 1999-03-31 2000-12-12 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
JP2001088446A (ja) * 1999-09-27 2001-04-03 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録媒体
CN107817650A (zh) * 2012-07-31 2018-03-20 株式会社艾迪科 潜伏性添加剂以及含有该添加剂的组合物
US20170198117A1 (en) * 2014-08-05 2017-07-13 Adeka Corporation Antioxidant for thermoplastic resin and thermoplastic resin composition containing same
JP2017066370A (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 株式会社Adeka 組成物
JP2017122221A (ja) * 2016-01-08 2017-07-13 エルジー・ケム・リミテッド 化合物、これを含む色材組成物、およびこれを含む樹脂組成物
WO2017170183A1 (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 株式会社Adeka 組成物及び新規化合物
JP2017203161A (ja) * 2016-05-10 2017-11-16 エルジー・ケム・リミテッド 化合物、これを含む色材組成物及びこれを含む樹脂組成物｛ｃｏｍｐｏｕｎｄ、ｃｏｌｏｒａｎｔ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ ｔｈｅ ｓａｍｅ ａｎｄ ｒｅｓｉｎ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ ｔｈｅ ｓａｍｅ｝

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
KO HERMANS ET AL: "High aspect ratio surface relief structures by photoembossing", 《APPLIED PHYSICS LETTERS》 *
李华 等: "聚合型紫外线吸收剂的合成研究", 《合成树脂及塑料》 *

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210006324A (ko) 2021-01-18
JPWO2019216266A1 (ja) 2021-06-17
JP7469224B2 (ja) 2024-04-16
CN118084809A (zh) 2024-05-28
CN111936532B (zh) 2024-03-12
WO2019216266A1 (ja) 2019-11-14
TW201946908A (zh) 2019-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107636024B (zh) 组合物
JP2017008219A (ja) 組成物
CN111936532B (zh) 化合物、潜伏性添加剂、组合物、固化物、固化物的制造方法及组合物的制造方法
KR102316645B1 (ko) 감광성 조성물 및 신규 화합물
TWI729100B (zh) 感光性組合物
JP2020070436A (ja) 組成物、ソルダーレジスト組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
KR102314688B1 (ko) 조성물 및 신규 화합물
JPWO2017043353A1 (ja) 新規化合物、潜在性添加剤及び該添加剤を含有する組成物
JP2017066370A (ja) 組成物
CN110869467A (zh) 组合物、固化物及固化物的制造方法
WO2020032131A1 (ja) 化合物、チオール発生剤、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
WO2019202815A1 (ja) 化合物、光吸収剤、組成物及び光学フィルタ
CN113785009A (zh) 组合物、固化物、固化物的制造方法及添加剂
CN111836796A (zh) 化合物、自由基聚合引发剂、组合物、固化物及固化物的制造方法
JP2022551442A (ja) 高分子樹脂化合物、その製造方法およびこれを含む感光性樹脂組成物
KR20200064029A (ko) 화합물, 잠재성 자외선 흡수제, 조성물, 경화물 및 경화물의 제조 방법
WO2019160079A1 (ja) ラジカル重合開始剤、これを含有する組成物、その硬化物、その製造方法、および化合物
WO2023282045A1 (ja) 化合物、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
KR20220093043A (ko) 조성물, 경화물, 경화물의 제조 방법 및 첨가제

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant