JP2017188476A - 耐酸化性誘導装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2010年5月5日出願の米国仮特許出願第61/331,627号の優先権および利益を主張し、その全体の開示が、この出願において全ての目的のために組み込まれる。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
(項目1)
耐酸化性材料を含み、トーチに無線周波エネルギーをもたらすことによって前記トーチ内でプラズマを維持するために前記トーチを受け取るよう構成された、誘導装置。
(項目2)
前記耐酸化性材料は無塗装材料を含む、項目1に記載の誘導装置。
(項目3)
前記無塗装材料はアルミニウム合金を含む、項目2に記載の誘導装置。
(項目4)
前記耐酸化性材料は、前記耐酸化性材料が酸素と反応した場合に負となる全電極電位をもたらすよう選択される、項目2に記載の誘導装置。
(項目5)
前記耐酸化性材料は、前記材料が相当に酸化すること無く、少なくとも10時間、前記トーチ内で前記プラズマを維持するために有効である、項目1に記載の誘導装置。
(項目6)
前記誘導装置は、前記トーチを囲むように構成された誘導コイルを備える、項目1に記載の誘導装置。
(項目7)
前記誘導装置は、前記トーチを受け取るために構成された中心空隙を備えるプレート電極として構成される、項目1に記載の誘導装置。
(項目8)
前記誘導装置は、実質上アルミニウム合金から成る、項目1に記載の誘導装置。
(項目9)
前記耐酸化性材料は、RF波源に電気的に結合される、項目1に記載の誘導装置。
(項目10)
前記誘導装置は、前記耐酸化性材料の少なくとも97重量%を含む、項目1に記載の誘導装置。
(項目11)
耐酸化性常磁性体を含み、トーチに無線周波エネルギーをもたらすことによって前記トーチ内でプラズマを維持するために前記トーチを受け取るよう構成された、誘導装置。
(項目12)
前記耐酸化性常磁性体は無塗装材料を含む、項目11に記載の誘導装置。
(項目13)
前記無塗装常磁性体はアルミニウム合金を含む、項目12に記載の誘導装置。
(項目14)
前記耐酸化性常磁性体は、前記耐酸化性常磁性体が酸素と反応した場合に負となる全電極電位をもたらすよう選択される、項目12に記載の誘導装置。
(項目15)
前記耐酸化性常磁性体は、前記材料が相当に酸化すること無く、少なくとも10時間、前記トーチ内でプラズマを維持するために有効である、項目11に記載の誘導装置。
(項目16)
前記誘導装置は、前記トーチを囲むように構成された誘導コイルを備える、項目11に記載の誘導装置。
(項目17)
前記誘導装置は、前記トーチを受け取るために構成された中心空隙を備えるプレート電極として構成される、項目11に記載の誘導装置。
(項目18)
前記誘導装置は、実質上アルミニウム合金から成る、項目11に記載の誘導装置。
(項目19)
前記誘導装置は、実質上プラチナから成る、項目11に記載の誘導装置。
(項目20)
前記耐酸化性常磁性体は、RF波源に電気的に結合される、項目11に記載の誘導装置。
(項目21)
トーチ本体と、
耐酸化性材料を含み、前記トーチ本体に無線周波エネルギーをもたらすことによって前記トーチ本体内でプラズマを維持するために前記トーチ本体を受け取るよう構成された誘導装置と、
を備えた、トーチアセンブリ。
(項目22)
前記耐酸化性材料は無塗装材料を含む、項目21に記載のトーチアセンブリ。
(項目23)
前記無塗装材料はアルミニウム合金を含む、項目22に記載のトーチアセンブリ。
(項目24)
前記耐酸化性材料は耐酸化性常磁性体である、項目21に記載のトーチアセンブリ。
(項目25)
前記耐酸化性材料は、前記材料が相当に酸化すること無く、少なくとも10時間、前記トーチ内でプラズマを維持するために有効である、項目21に記載のトーチアセンブリ。
(項目26)
前記誘導装置は、前記トーチを囲むように構成された誘導コイルを備える、項目21に記載のトーチアセンブリ。
(項目27)
前記誘導装置は、前記トーチを受け取るために構成された中心空隙を備えるプレート電極として構成される、項目21に記載のトーチアセンブリ。
(項目28)
前記誘導装置は、実質上アルミニウム合金から成る、項目21に記載のトーチアセンブリ。
(項目29)
前記誘導装置は、RF波源に電気的に結合される、項目21に記載のトーチアセンブリ。
(項目30)
前記誘導装置は、前記耐酸化性材料の少なくとも97重量%を含む、項目21に記載のトーチアセンブリ。
(項目31)
誘導結合プラズマを維持するよう構成されたトーチ本体と、
耐酸化性材料を含み、前記トーチ本体内で前記プラズマを維持するために前記トーチ本体に無線周波エネルギーをもたらすよう構成された誘導装置と、
前記誘導結合プラズマにもたらされる種の光学発光を検出するよう構成された光学検出器と、
を備える、光学発光装置。
(項目32)
前記誘導装置は、実質上アルミニウム合金から成る、項目31に記載の光学発光装置。
(項目33)
前記誘導装置は、実質上、耐酸化性常磁性体から成る、項目31に記載の光学発光装置。
(項目34)
前記光学検出器は、光電子増倍管または回折格子を備える、項目31に記載の光学発光装置。
(項目35)
前記誘導装置に電気的に結合された無線周波発生器をさらに備える、項目31に記載の光学発光装置。
(項目36)
誘導結合プラズマを維持するよう構成されたトーチ本体と、
耐酸化性材料を含み、前記トーチ本体内で前記プラズマを維持するために前記トーチ本体に無線周波エネルギーをもたらすよう構成された誘導装置と、
前記誘導結合プラズマにもたらされる種を励起するための光をもたらすよう構成された光源と、
前記励起された種を検出するよう構成された検出器と、
を備える、原子吸光装置。
(項目37)
前記誘導装置は、実質上アルミニウム合金から成る、項目36に記載の原子吸光装置。
(項目38)
前記誘導装置は、実質上、耐酸化性常磁性体から成る、項目36に記載の光学発光装置。
(項目39)
前記光学検出器は、光電子増倍管または回折格子を備える、項目36に記載の光学発光装置。
(項目40)
前記誘導装置に電気的に結合された無線周波発生器をさらに備える、項目36に記載の光学発光装置。
(項目41)
誘導結合プラズマを維持するよう構成されたトーチ本体と、
耐酸化性材料を含み、前記トーチ本体内で前記プラズマを維持するために前記トーチ本体に無線周波エネルギーをもたらすよう構成された誘導装置と、
チャンバと流体的に連結され、質量電荷比に基づいて種を分離するよう構成された質量分析器と、
を備える、質量分光計。
(項目42)
前記誘導装置は、実質上アルミニウム合金から成る、項目41に記載の質量分光計。
(項目43)
前記誘導装置は、実質上、耐酸化性常磁性体から成る、項目41に記載の質量分光計。
(項目44)
前記誘導装置は、アルミニウム合金から成る、項目41に記載の質量分光計。
(項目45)
前記誘導装置に電気的に結合された無線周波発生器をさらに備える、項目41に記載の質量分光計。
(項目46)
前記質量分光計に結合された追加の質量分光計をさらに備える、項目41に記載の質量分光計。
(項目47)
前記質量分光計に結合されたガスクロマトグラフシステムをさらに備える、項目41に記載の質量分光計。
(項目48)
前記誘導装置は、前記耐酸化性材料の少なくとも97重量%を含む、項目41に記載の質量分光計。
(項目49)
前記誘導装置は無塗装材料を含む、項目41に記載の質量分光計。
(項目50)
前記耐酸化性材料は、前記材料が相当に酸化すること無く、少なくとも10時間、前記トーチ内で前記プラズマを維持するために有効である、項目41に記載の質量分光計。
(項目51)
プラズマ生成方法であって、
ガスをトーチ本体に導入することと、
耐酸化性材料を含む誘導装置を使って前記トーチに無線周波エネルギーをもたらすことと、
前記プラズマを生成するために前記トーチ本体内で前記ガスに点火することと、
を備える、プラズマ生成方法。
(項目52)
前記誘導装置は無塗装耐酸化性材料を含む、項目51に記載の方法。
(項目53)
前記誘導装置は、実質上アルミニウム合金から成る、項目51に記載の方法。
(項目54)
相当な酸化が前記誘導装置で発生すること無く、少なくとも10時間、前記トーチ本体内で前記プラズマを維持することをさらに備える、項目51に記載の方法。
(項目55)
相当な酸化が前記誘導装置で発生すること無く、少なくとも100時間、前記トーチ本体内で前記プラズマを維持することをさらに備える、項目51に記載の方法。
(項目56)
プラズマ生成方法であって、
ガスをトーチ本体に導入することと、
耐酸化性常磁性体を含む誘導装置を使って前記トーチに無線周波エネルギーをもたらすことと、
前記プラズマを生成するために前記トーチ本体内で前記ガスに点火することと、
を備える、プラズマ生成方法。
(項目57)
前記誘導装置は無塗装耐酸化性常磁性体を含む、項目56に記載の方法。
(項目58)
前記誘導装置は、実質上アルミニウム合金から成る、項目56に記載の方法。
(項目59)
相当な酸化が前記誘導装置で発生すること無く、少なくとも10時間、前記トーチ本体内で前記プラズマを維持することをさらに備える、項目56に記載の方法。
(項目60)
相当な酸化が前記誘導装置で発生すること無く、少なくとも100時間、前記トーチ本体内で前記プラズマを維持することをさらに備える、項目56に記載の方法。
(項目61)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、耐酸化性材料を含む誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目62)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、耐酸化性常磁性体を含む誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目63)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、実質上、耐酸化性材料から成る誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目64)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、実質上、耐酸化性常磁性体から成る誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目65)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、耐酸化性材料から成る誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目66)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、耐酸化性常磁性体から成る誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目67)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、アルミニウム合金を含む誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目68)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、アルミニウムを含む誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目69)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、実質上アルミニウム合金から成る誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目70)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、実質上アルミニウムから成る誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目71)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、アルミニウム合金から成る誘導装置を提供することを備える、方法。
(項目72)
プラズマの生成を容易にする方法であり、前記方法は、アルミニウムから成る誘導装置を提供することを備える、方法。
実施例1
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013532349A (ja) * | 2010-05-05 | 2013-08-15 | ペルキネルマー ヘルス サイエンシーズ, インコーポレイテッド | 耐酸化性誘導装置 |
US9799493B2 (en) * | 2012-11-28 | 2017-10-24 | Tibbar Plasma Technologies, Inc. | Electrical transformer |
US9565747B2 (en) * | 2013-03-14 | 2017-02-07 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Asymmetric induction devices and systems and methods using them |
US10178749B2 (en) | 2016-10-27 | 2019-01-08 | Tibbar Plasma Technologies, Inc. | DC-DC electrical transformer |
US10172226B2 (en) | 2016-10-28 | 2019-01-01 | Tibbar Plasma Technologies, Inc. | DC-AC electrical transformer |
CN111033684B (zh) * | 2017-03-29 | 2023-08-15 | 珀金埃尔默保健科学公司 | 冷却装置和包括该冷却装置的仪器 |
US10334713B2 (en) | 2017-05-22 | 2019-06-25 | Tibbar Plasma Technologies, Inc. | DC to DC electrical transformer |
US10809124B2 (en) * | 2018-05-07 | 2020-10-20 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Spectrometers and instruments including them |
JP6740299B2 (ja) * | 2018-08-24 | 2020-08-12 | ファナック株式会社 | 加工条件調整装置及び機械学習装置 |
CN110519904B (zh) * | 2019-08-16 | 2020-09-29 | 中国地质大学(武汉) | 一种基于集磁器的icp等离子源形成装置及方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63304598A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-12-12 | ザ・パーキン‐エルマー・コーポレイシヨン | 誘導プラズマ発生装置及びその電源回路 |
JPS64699A (en) * | 1987-03-06 | 1989-01-05 | Perkin Elmer Corp:The | Induced plasma generator and its method |
JPH04341552A (ja) * | 1991-05-16 | 1992-11-27 | Sansha Electric Mfg Co Ltd | インダクションプラズマ溶射装置 |
JP2003109795A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-11 | Japan Science & Technology Corp | プラズマジェット発生装置 |
JP2007287406A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 大気圧プラズマ発生装置及び発生方法 |
JP2009510670A (ja) * | 2005-09-02 | 2009-03-12 | パーキンエルマー・インコーポレイテッド | プラズマ生成用誘導装置 |
JP2013532349A (ja) * | 2010-05-05 | 2013-08-15 | ペルキネルマー ヘルス サイエンシーズ, インコーポレイテッド | 耐酸化性誘導装置 |
Family Cites Families (58)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3059149A (en) | 1958-02-12 | 1962-10-16 | Zenith Radio Corp | Plasma accelerator |
US3012955A (en) | 1958-08-20 | 1961-12-12 | Russell M Kulsrud | High temperature reactor |
US3038099A (en) | 1960-08-26 | 1962-06-05 | William R Baker | Cusp-pinch device |
US3324334A (en) | 1966-03-15 | 1967-06-06 | Massachusetts Inst Technology | Induction plasma torch with means for recirculating the plasma |
US3492074A (en) | 1967-11-24 | 1970-01-27 | Hewlett Packard Co | Atomic absorption spectroscopy system having sample dissociation energy control |
US3904366A (en) | 1968-10-07 | 1975-09-09 | Fritz Grasenick | Method for the quantitative elementary analysis of preferably organic substances |
US4050956A (en) * | 1970-02-20 | 1977-09-27 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organization | Chemical bonding of metals to ceramic materials |
JPS5532317A (en) | 1978-08-28 | 1980-03-07 | Asahi Chemical Ind | High frequency magnetic field coupling arc plasma reactor |
US4300834A (en) * | 1980-05-22 | 1981-11-17 | Baird Corporation | Inductively coupled plasma atomic fluorescence spectrometer |
DE3130908A1 (de) | 1981-08-05 | 1983-03-10 | Horst Dipl.-Ing. 5100 Aachen Müller | "plasma-reaktor" |
US4629887A (en) | 1983-03-08 | 1986-12-16 | Allied Corporation | Plasma excitation system |
US4575609A (en) | 1984-03-06 | 1986-03-11 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Concentric micro-nebulizer for direct sample insertion |
JPS61161138A (ja) | 1985-01-09 | 1986-07-21 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | プラズマ利用化学反応装置 |
DE3521529A1 (de) | 1985-06-15 | 1987-01-02 | Harald Dipl Chem Dr Berndt | Vorrichtung zum zerstaeuben von probenfluessigkeit fuer spektroskopische zwecke |
US4815279A (en) | 1985-09-27 | 1989-03-28 | The United States Of America As Represented By The National Aeronautics And Space Administration | Hybrid plume plasma rocket |
JPS62213056A (ja) | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Yokogawa Electric Corp | 高周波誘導結合プラズマを用いた分析装置 |
JPH0624112B2 (ja) | 1986-04-16 | 1994-03-30 | 横河電機株式会社 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析計 |
JPS62273047A (ja) | 1986-05-22 | 1987-11-27 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 燃焼炎複合高周波熱プラズマ発生装置 |
US4833294A (en) | 1986-08-29 | 1989-05-23 | Research Corporation | Inductively coupled helium plasma torch |
JPS63158799A (ja) | 1986-12-22 | 1988-07-01 | 日本高周波株式会社 | 多段無電極高周波プラズマ反応装置 |
US5087434A (en) | 1989-04-21 | 1992-02-11 | The Pennsylvania Research Corporation | Synthesis of diamond powders in the gas phase |
JPH0781953B2 (ja) | 1990-02-07 | 1995-09-06 | 川崎製鉄株式会社 | 分析試料の原子化方法 |
GB9226335D0 (en) | 1992-12-17 | 1993-02-10 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
US5033850A (en) | 1990-03-28 | 1991-07-23 | Pennington Hurm D | Gas flow chamber for use in atomic absorption and plasma spectroscopy |
DE4021182A1 (de) | 1990-07-03 | 1992-01-16 | Plasma Technik Ag | Vorrichtung zur beschichtung der oberflaeche von gegenstaenden |
US5259254A (en) | 1991-09-25 | 1993-11-09 | Cetac Technologies, Inc. | Sample introduction system for inductively coupled plasma and other gas-phase, or particle, detectors utilizing ultrasonic nebulization, and method of use |
JPH05119006A (ja) | 1991-10-30 | 1993-05-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 炭化水素濃度測定装置 |
US5217362A (en) | 1991-12-30 | 1993-06-08 | Thompson Richard E | Method for enhanced atomization of liquids |
JPH05251038A (ja) | 1992-03-04 | 1993-09-28 | Hitachi Ltd | プラズマイオン質量分析装置 |
JP3116151B2 (ja) | 1993-03-05 | 2000-12-11 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 加熱気化誘導結合プラズマ質量分析装置 |
US5865896A (en) | 1993-08-27 | 1999-02-02 | Applied Materials, Inc. | High density plasma CVD reactor with combined inductive and capacitive coupling |
WO1995015672A1 (en) | 1993-12-01 | 1995-06-08 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method and apparatus for planar plasma processing |
FR2722939B1 (fr) | 1994-07-22 | 1996-08-23 | Alcatel Fibres Optiques | Torche a plasma par induction |
US5725153A (en) | 1995-01-10 | 1998-03-10 | Georgia Tech Research Corporation | Oscillating capillary nebulizer |
US5905566A (en) | 1997-04-10 | 1999-05-18 | International Business Machines Corporation | Laser ablation top surface reference chuck |
AU7937198A (en) * | 1997-07-03 | 1999-01-25 | Hamamatsu Photonics K.K. | Discharge tube and method of calibrating laser wavelength by using the same |
US5908566A (en) | 1997-09-17 | 1999-06-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Modified plasma torch design for introducing sample air into inductively coupled plasma |
US6002129A (en) * | 1998-05-14 | 1999-12-14 | Seiko Instruments Inc. | Inductively coupled plasma mass spectrometric and spectrochemical analyzer |
US6293090B1 (en) | 1998-07-22 | 2001-09-25 | New England Space Works, Inc. | More efficient RF plasma electric thruster |
US6156667A (en) | 1999-12-31 | 2000-12-05 | Litmas, Inc. | Methods and apparatus for plasma processing |
US6291938B1 (en) | 1999-12-31 | 2001-09-18 | Litmas, Inc. | Methods and apparatus for igniting and sustaining inductively coupled plasma |
JP3902380B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2007-04-04 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | Icp分析装置 |
US6693253B2 (en) | 2001-10-05 | 2004-02-17 | Universite De Sherbrooke | Multi-coil induction plasma torch for solid state power supply |
JP2003168594A (ja) | 2001-11-29 | 2003-06-13 | High Frequency Heattreat Co Ltd | 高周波熱プラズマ装置 |
JP2003168595A (ja) | 2001-11-29 | 2003-06-13 | High Frequency Heattreat Co Ltd | 高周波熱プラズマ装置 |
JP2003267742A (ja) | 2002-03-13 | 2003-09-25 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 硬質脆性板のスクライブ方法 |
KR100502411B1 (ko) | 2002-10-17 | 2005-07-19 | 삼성전자주식회사 | 강유전체 메모리 장치 및 그것의 제어 방법 |
JP4232951B2 (ja) | 2002-11-07 | 2009-03-04 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 誘導結合プラズマトーチ |
US7106438B2 (en) | 2002-12-12 | 2006-09-12 | Perkinelmer Las, Inc. | ICP-OES and ICP-MS induction current |
US20040174242A1 (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-09 | Kuehn Mark D. | Inductively coupled plasma load coil |
JP2005142200A (ja) | 2003-11-04 | 2005-06-02 | Sharp Corp | 気相成長装置および気相成長方法 |
JP2006038729A (ja) | 2004-07-29 | 2006-02-09 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 誘導結合プラズマトーチ |
JP2006109637A (ja) | 2004-10-06 | 2006-04-20 | Kyocera Chemical Corp | ワニス含浸装置 |
CN101495262B (zh) | 2005-03-11 | 2014-11-12 | 魄金莱默有限公司 | 等离子体及其使用方法 |
JP2006261079A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Masaaki Takarada | 異種金属線編み線 |
US7742167B2 (en) | 2005-06-17 | 2010-06-22 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Optical emission device with boost device |
US8622735B2 (en) * | 2005-06-17 | 2014-01-07 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Boost devices and methods of using them |
US9170234B2 (en) * | 2006-11-01 | 2015-10-27 | Industry-Academic Cooperation Foundation, Chosun University | Magnetic sensor array and apparatus for detecting defect using the magnetic sensor array |
-
2011
- 2011-05-04 JP JP2013509205A patent/JP2013532349A/ja not_active Withdrawn
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63304598A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-12-12 | ザ・パーキン‐エルマー・コーポレイシヨン | 誘導プラズマ発生装置及びその電源回路 |
JPS64699A (en) * | 1987-03-06 | 1989-01-05 | Perkin Elmer Corp:The | Induced plasma generator and its method |
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