JP2017188306A - 回路部材接続用シートおよび半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 217
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 134
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 215
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 59
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 56
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 51
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 44
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 26
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 16
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 10
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 5
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 25
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 27
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 27
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 25
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 24
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 23
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 22
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 20
- -1 biphenol Chemical compound 0.000 description 19
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 19
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 18
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 18
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Chemical class C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Chemical class O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Chemical class OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 13
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 10
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 8
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 8
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 8
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 7
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- WVUYYXUATWMVIT-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-ethoxybenzene Chemical compound CCOC1=CC=C(Br)C=C1 WVUYYXUATWMVIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ILUJQPXNXACGAN-UHFFFAOYSA-N O-methylsalicylic acid Chemical compound COC1=CC=CC=C1C(O)=O ILUJQPXNXACGAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 3
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003067 (meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001050985 Disco Species 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 229910020836 Sn-Ag Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020988 Sn—Ag Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N pentanal Chemical compound CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKUSYGZVIAWWPY-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxane;7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1COCOC1.C1CCCC2OC21 QKUSYGZVIAWWPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRMKFAFIVOVETG-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis(methoxymethyl)-4-methylphenol Chemical compound COCC1=CC(C)=CC(COC)=C1O VRMKFAFIVOVETG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNUYOWCKBJFOGS-UHFFFAOYSA-N 2-[[10-(2,2-dicarboxyethyl)anthracen-9-yl]methyl]propanedioic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(C(=O)O)C(O)=O)=C(C=CC=C3)C3=C(CC(C(O)=O)C(O)=O)C2=C1 DNUYOWCKBJFOGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJBWJFWNFUKAGS-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(C=1C(=CC=CC=1)O)C1=CC=CC=C1O LJBWJFWNFUKAGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FESDHLLVLYZNFY-UHFFFAOYSA-N 2-benzylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1 FESDHLLVLYZNFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSXYESVZDBAKKT-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1O XSXYESVZDBAKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZMACLAARXHRRZ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarbohydrazide Chemical compound NNC(=O)CC(O)(C(=O)NN)CC(=O)NN TZMACLAARXHRRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical class [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEWFQHAOPHWBPR-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanedihydrazide Chemical compound NNC(=O)CC(=C)C(=O)NN NEWFQHAOPHWBPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C(CC=C)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYNRYMUTXBXSQ-FOQJRBATSA-N 59096-14-9 Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1[14C](O)=O BSYNRYMUTXBXSQ-FOQJRBATSA-N 0.000 description 1
- ALEBYBVYXQTORU-UHFFFAOYSA-N 6-hydrazinyl-6-oxohexanoic acid Chemical class NNC(=O)CCCCC(O)=O ALEBYBVYXQTORU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKOUCJUTMGHNOR-UHFFFAOYSA-N Diphenolic acid Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(CCC(O)=O)(C)C1=CC=C(O)C=C1 VKOUCJUTMGHNOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N N-phenyl amine Natural products NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJTFFORYSFGNCT-UHFFFAOYSA-N Thiocarbohydrazide Chemical compound NNC(=S)NN LJTFFORYSFGNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)-2-phenyl-1h-imidazol-5-yl]methanol Chemical compound N1C(CO)=C(CO)N=C1C1=CC=CC=C1 UUQQGGWZVKUCBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N aluminum;borate Chemical compound [Al+3].[O-]B([O-])[O-] OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- QYCSNMDOZNUZIT-UHFFFAOYSA-N benzhydrylidenehydrazine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=NN)C1=CC=CC=C1 QYCSNMDOZNUZIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKXSKSHDVLQNKG-UHFFFAOYSA-N benzilic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 UKXSKSHDVLQNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WARCRYXKINZHGQ-UHFFFAOYSA-N benzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1 WARCRYXKINZHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- LTMGJWZFKVPEBX-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile;prop-2-enoic acid Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.OC(=O)C=C LTMGJWZFKVPEBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCOMFAYPHBFMKU-UHFFFAOYSA-N butanedihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCC(=O)NN HCOMFAYPHBFMKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- XEVRDFDBXJMZFG-UHFFFAOYSA-N carbonyl dihydrazine Chemical compound NNC(=O)NN XEVRDFDBXJMZFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N hexanal Chemical compound CCCCCC=O JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJFXRHURBJZNAO-UHFFFAOYSA-N meta--hydroxybenzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1 IJFXRHURBJZNAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- LGYJSPMYALQHBL-UHFFFAOYSA-N pentanedihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCC(=O)NN LGYJSPMYALQHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- PSIKPHJLTVSQFO-UHFFFAOYSA-N propanedihydrazide Chemical compound NNC(=O)CC(=O)NN PSIKPHJLTVSQFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910021647 smectite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
〔回路部材接続用シート〕
図1に示すように、本実施形態に係る回路部材接続用シート1(以下「接続用シート1」という場合がある。)は、基材11と、基材11の少なくとも一方の面側に積層された粘着剤層12と、粘着剤層12における基材11とは反対の面側に積層された接着剤層13とを備える。
(1)物性
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、接着剤層13は、硬化性を有する。ここで、硬化性を有するとは、接着剤層13が加熱等によって硬化し得ることをいう。すなわち、接着剤層13は、接続用シート1を構成している状態では未硬化である。接着剤層13は、熱硬化性であってもよく、または、エネルギー線硬化性であってもよい。しかしながら、接続用シート1を半導体装置の製造方法に用いる場合に硬化を良好に行うことができるという観点から、接着剤層13は、熱硬化性であることが好ましい。具体的には、接続用シート1を半導体装置の製造方法に用いる際、後述するように、接着剤層13は、半導体ウエハに貼付された状態で個片化される。これにより、半導体チップと個片化された接着剤層13との積層体が得られる。当該積層体は、その接着剤層13側の面が回路基板上や半導体チップの積層体上に貼付され、その状態で、接着剤層13の硬化が行われる。一般的に、回路基板や半導体チップはエネルギー線に対する透過性を有しないか、当該透過性が非常に低い場合が多く、そのような場合であっても、接着剤層13が熱硬化性を有するものであれば、接着剤層13を速やかに硬化させることが可能となる。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、接着剤層13を構成する材料は、硬化前における90℃での溶融粘度(以下、「90℃溶融粘度」ということがある。)が、上限値として5.0×105Pa・s以下であり、好ましくは1.0×105Pa・s以下であり、特に好ましくは5.0×104Pa・s以下である。90℃溶融粘度が上記上限値以下であると、接着剤層13を電極間に介在させたときに、チップや基板等の回路部材の表面の凹凸に良好に追従し、回路部材と接着剤層13との界面にボイドが発生するのを防止することができる。また、90℃溶融粘度は、下限値として1.0×100Pa・s以上であり、好ましくは1.0×101Pa・s以上であり、特に好ましくは1.0×102Pa・s以上である。90℃溶融粘度が上記下限値以上であると、接着剤層13を構成する材料がフローし過ぎることがなく、接着剤層13貼付時や回路接続時において装置の汚染を防止することができる。そのため、本実施形態に係る回路部材接続用シート1は、構成する材料の90℃溶融粘度が上記範囲にあることで、高い信頼性を有するものとなる。
本実施形態において、接着剤層13を構成する材料は、硬化物の0〜130℃における平均線膨張係数(以下、単に「平均線膨張係数」ということがある。)が、上限値として45ppm以下であり、好ましくは35ppm以下であり、特に好ましくは25ppm以下である。平均線膨張係数が上記上限値以下であると、硬化物からなる接着剤層13と被着体(回路部材)との線膨張係数の差が小さくなり、かかる差に基づき接着剤層13と被着体との間で発生し得る応力を低減することができる。これにより、本実施形態に係る回路部材接続用シート1は、回路部材同士の接続信頼性を高いものとすることができ、特に実施例で示す温度サイクル試験において高い接続信頼性を示すものとなる。
本実施形態において、接着剤層13を構成する材料は、硬化物のガラス転移温度(Tg)が、下限値として150℃以上であることが好ましく、200℃以上であることがさらに好ましく、240℃以上であることが特に好ましい。硬化物のガラス転移温度が上記下限値以上であると、温度サイクル試験時に硬化物が変形せず、応力が発生しづらくなるため、好ましい。一方、硬化物のガラス転移温度の上限値は特に制限されないが、硬化物の脆化を抑制する観点から、350℃以下であることが好ましく、300℃以下であることがより好ましい。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、接着剤層13を構成する材料の硬化物は、熱重量測定による5%質量減少温度が、350℃以上であることが好ましく、特に360℃以上であることが好ましい。当該5%質量減少温度が350℃以上であることで、接着剤層13の硬化物が高温に対する耐性に優れたものとなる。そのため、半導体装置の製造等において、当該硬化物が高温に曝された場合であっても、当該硬化物の含有成分の分解に伴う揮発成分の発生等が抑制され、半導体装置の性能が良好に維持される。なお、当該5%質量減少温度の上限としては特に限定されないものの、当該5%質量減少温度は、通常500℃以下であることが好ましい。当該5%質量減少温度の測定方法は、後述する試験例に示す通りである。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、接着剤層13の硬化後の23℃における貯蔵弾性率は、1.0×102MPa以上であることが好ましく、特に1.0×103MPa以上であることが好ましい。また、当該貯蔵弾性率は、1.0×105MPa以下であることが好ましく、特に1.0×104MPa以下であることが好ましい。当該貯蔵弾性率が上記範囲であることで、特に半導体チップを複数積層して積層回路を製造する場合に、半導体チップと個片化された接着剤層13とが交互に積層されてなる積層体が良好な強度を有するものとなる。その結果、さらに半導体チップを積層する場合や当該積層体を取り扱う際であっても、積層した状態が良好に維持され、優れた品質を有する積層回路を製造することができる。なお、当該貯蔵弾性率の測定方法は、後述する試験例に示す通りである。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、硬化前における接着剤層13は、示差走査熱量分析(DSC)法により昇温速度10℃/分で測定される発熱開始温度(TS)が、70℃〜150℃の範囲内であることが好ましく、特に100℃〜150℃の範囲内であることが好ましく、さらには120℃〜150℃の範囲内であることが好ましい。当該発熱開始温度(TS)が上記範囲であることで、例えば、ダイシングブレードにより半導体ウエハをダイシングする際に生じる熱を受けた場合のような、意図しない段階において接着剤層13が硬化することが抑制されるとともに、接続用シート1の保存安定性にも優れる。特に、積層回路を作製するため、半導体チップを複数積層した後に、半導体チップ間に存在する複数の接着剤層13を一括で硬化させる場合には、半導体チップの積層が完了する前といった意図しない段階において接着剤層13が硬化することを抑制することができる。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、接着剤層13の厚さ(T2)は、2μm以上であることが好ましく、特に5μm以上であることが好ましく、さらには10μm以上であることが好ましい。また、当該厚さ(T2)は、500μm以下であることが好ましく、特に300μm以下であることが好ましく、さらには100μm以下であることが好ましい。接着剤層13の厚さ(T2)が2μm以上であることで、回路部材に存在するバンプまたは貫通電極を、接着剤層13に良好に埋め込むことが可能となる。また、接着剤層13の厚さ(T2)が500μm以下であることで、半導体チップと基板とを接着剤層13によって接着する際や、貫通電極を有する半導体チップを、接着剤層13を介して接着する際に、接着剤層13が側面に染み出しすぎることがなく、信頼性の高い半導体装置を製造することができる。なお、接着剤層13の厚さ(T2)は、接続用シート1において、50mm間隔で合計100点を測定した際の平均値とする。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、接着剤層13は、前述した90℃溶融粘度および平均線膨張係数を満たす材料によって構成される。
接着剤層13を構成する材料は、熱硬化性成分を含有することが好ましい。熱硬化性成分としては、半導体チップ等の回路部材の接続用に通常用いられる接着剤成分であれば特に限定されない。具体的には、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、フェノキシ樹脂などが挙げられ、これらは1種を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、接着性等の観点から、エポキシ樹脂およびフェノール樹脂が好ましく、エポキシ樹脂が特に好ましい。
接着剤層13を構成する材料が前述した熱硬化性成分を含有する場合、当該材料はさらに硬化剤および硬化触媒を含有することが好ましい。
上記接着剤層13を構成する材料は、前述した熱硬化性成分以外の高分子量成分を含有することが好ましい。当該高分子量成分を含有することで、当該材料の90℃溶融粘度と、平均線膨張係数とが、前述した数値範囲を満たしやすくなる。
接着剤層13を構成する材料は、無機フィラーを含有することが好ましい。接着剤層13を構成する材料は、無機フィラーを含有することで、平均線膨張係数が低い値となるため、本実施形態に係る回路部材接続用シート1を用いたときに、回路部材同士の接続信頼性を高いものとすることができる。
本実施形態において、回路部材の電極が半田で接合される場合、接着剤層13を構成する材料は、フラックス機能を有する成分(以下「フラックス成分」ということがある。)を含有することが好ましい。フラックス成分は、電極表面に形成された金属酸化膜を除去する作用を有するものであり、半田による電極間の電気的接続をより確実なものとし、半田接合部における接続信頼性を高めることができる。
接着剤層13は、当該接着剤層13を構成する材料として、さらに、可塑剤、安定剤、粘着付与材、着色剤、カップリング剤、帯電防止剤、酸化防止剤、導電性粒子等を含有してもよい。
(1)材料
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、粘着剤層12は、非硬化性粘着剤から構成されてもよく、または硬化性粘着剤から構成されてもよい。後述する通り、本実施形態に係る回路部材接続用シート1を半導体装置の製造方法に使用する場合、接着剤層13が、基材11と粘着剤層12との積層体から剥離される。そのため、当該剥離を容易に行う観点から、粘着剤層12は、硬化性粘着剤から構成され、硬化により粘着力が低下するものであることが好ましい。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、粘着剤層12の23℃における貯蔵弾性率は、1×103Pa以上であることが好ましく、特に1×104Pa以上であることが好ましい。また、当該貯蔵弾性率は、1×109Pa以下であることが好ましく、特に1×108Pa以下であることが好ましい。なお、当該貯蔵弾性率は、粘着剤層12が硬化性粘着剤から構成される場合には硬化前の貯蔵弾性率をいうものとする。粘着剤層12の23℃における貯蔵弾性率が上記範囲であることで、回路部材に接続用シート1を貼付する際に、回路部材に存在するバンプまたは貫通電極を、接着剤層13に良好に埋め込むことが可能となる。また、接続用シート1を使用して、半導体ウエハのバンプが形成されていない面をバックグラインドする場合には、半導体ウエハの反りやディンプルの発生を抑制することができる。なお、粘着剤層12の23℃における貯蔵弾性率の測定方法は、後述する試験例に示す通りである。
(1)材料
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、基材11を構成する材料としては、特に限定されない。しかしながら、接続用シート1を、ダイシングシート一体型接着シートとする場合、基材11を構成する材料は、ダイシングシートを構成する基材に一般的に使用される材料であることが好ましい。例えば、このような基材11の材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、エチレン酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、ビニルポリイソプレン、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上の混合物を用いることができる。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1において、基材11の23℃における引張弾性率は、100MPa以上であることが好ましく、特に200MPa以上であることが好ましく、さらには300MPa以上であることが好ましい。また、当該引張弾性率は、5000MPa以下であることが好ましく、特に4000MPa以下であることが好ましく、さらには3000MPa以下であることが好ましい。基材11の23℃における引張弾性率が上記範囲内であることで、回路部材に接続用シート1を貼付する際に、回路部材に存在するバンプまたは貫通電極を、接着剤層13に良好に埋め込むことが可能となる。なお、基材11の23℃における引張弾性率の測定方法は、後述する試験例に示す通りである。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1は、さらに剥離シートが積層されていてもよい。この場合、剥離シートの構成は任意であり、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンフィルムなどのプラスチックフィルムが挙げられる。これらの剥離面(接続用シート1の接着剤層13と接する面)には、剥離処理が施されていることが好ましい。剥離処理に使用される剥離剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系等の剥離剤が挙げられる。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1は、従来の回路部材接続用シート1と同様に製造することができる。例えば、接着剤層13と剥離シートとの積層体、および粘着剤層12と基材11との積層体をそれぞれ作製し、接着剤層13と粘着剤層12とが接するようにこれらの積層体を貼合することで、接続用シート1を得ることができる。
本実施形態に係る回路部材接続用シート1を使用して、半導体装置を製造することができる。特に、本実施形態に係る回路部材接続用シート1は、フリップチップ実装方式による半導体装置の製造に用いることが好ましい。また、本実施形態に係る回路部材接続用シート1は、貫通電極を有する半導体チップを複数積層することによる積層回路の製造に用いることが好ましい。
まず、フリップチップ実装方式により、バンプを備えた半導体チップと回路基板とを接着する場合を説明する。特に、本実施形態に係る回路部材接続用シート1をバックグラインドシート一体型接着シートとして使用する態様(第1の態様)、および本実施形態に係る回路部材接続用シート1をダイシングシート一体型接着シートとして使用する態様(第2の態様)について説明する。
最初に、回路および半田バンプが形成された半導体ウエハの回路面に、本実施形態に係る回路部材接続用シート1を貼付する。具体的には、回路部材接続用シート1の接着剤層13側の面を、半導体ウエハの回路面に貼付する。これにより、半導体ウエハの回路面は回路部材接続用シート1により保護された状態となる。ここで、本実施形態に係る回路部材接続用シート1は、接着剤層13を構成する材料の硬化前における90℃溶融粘度が1.0×100〜5.0×105Pa・sであるため、回路面の凹凸に良好に追従し、接着剤層13と回路面との界面におけるボイドの発生を抑制することができる。
上述した第1の態様では、回路部材接続用シート1を半導体ウエハに貼付した状態でバックグラインド工程を行っているのに対し、第2の態様では、予めバックグラインド工程が施された薄厚化された半導体ウエハを用いる。
次に、貫通電極を有する半導体チップを複数積層して、積層回路を製造する場合を説明する。この製造方法では、本実施形態に係る回路部材接続用シート1は、ダイシングシート一体型接着シートとして使用される。
表1に示す構成成分を含有する組成物を、メチルエチルケトンにて固形分濃度が40質量%となるように希釈し、塗工液を得た。当該塗工液の25℃における粘度を、B型粘度計を用いて測定したところ、50mPa・sであった。当該塗工液を、シリコーン処理された剥離フィルム(リンテック社製,SP−PET381031)上に塗布し、得られた塗膜をオーブンにて100℃で1分間乾燥することで、厚さ45μmの接着剤層と剥離フィルムとからなる第1の積層体を得た。
表1に示す構成成分を含有する組成物を、メチルエチルケトンにて固形分濃度が55質量%となるように希釈し、塗工液を得た。当該塗工液の25℃における粘度を、B型粘度計を用いて測定したところ、150mPa・sであった。当該塗工液を使用して接着剤層を形成した以外は、比較例1と同様にして回路部材接続用シートを得た。
高分子量成分
・ポリビニルアセタール樹脂:ガラス転移温度86℃,重量平均分子量13万
・ポリビニルブチラール樹脂:ガラス転移温度71℃,重量平均分子量11万
・ポリエステル樹脂:ガラス転移温度83℃,重量平均分子量4万
・ビスフェノールA(BisA)型フェノキシ樹脂:ガラス転移温度84℃,重量平均分子量6万
・ビスフェノールA(BPA)/ビスフェノールF(BPF)共重合型フェノキシ樹脂:東都化成社製,製品名「ZX−1356−2」,ガラス転移温度71℃,重量平均分子量6万
・ポリアクリル酸エステル:ガラス転移温度−28℃,重量平均分子量80万
熱硬化性成分
・ビスフェノールA(BisA)型エポキシ樹脂:エポキシ当量180−190g/eq
・エポキシ樹脂1:トリス(ヒドロキシフェニル)メタン型固形エポキシ樹脂,ジャパンエポキシレジン社製,製品名「E1032H60」,5%重量減少温度350℃,固形,融点60℃
・エポキシ樹脂2:Bis−F型液状エポキシ樹脂,ジャパンエポキシレジン社製,製品名「YL−983U」,エポキシ当量184
・エポキシ樹脂3:長鎖Bis−F変性型エポキシ樹脂,ジャパンエポキシレジン社製,製品名「YL−7175」
・トリフェニルメタン型エポキシ樹脂:トリフェニルメタン型エポキシ樹脂,日本化薬社製,製品名「EPPN−502H」,エポキシ当量168
硬化触媒
・イミダゾール系熱硬化触媒:2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール,四国化成工業社製,製品名「2PHZ−PW」,融点230℃
・2MZA−PW:2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン,四国化成工業社製,製品名「2MZA−PW」,融点250℃
無機フィラー
・表面修飾シリカフィラー:平均粒径100nm,最大粒子径450nm
・カラム :「TSK guard column HXL−L」、「TSK gel G2500HXL」、「TSK gel G2000HXL」、「TSK gel G1000HXL」(いずれも東ソー社製)を順次連結したもの
・カラム温度:40℃
・展開溶媒 :テトラヒドロフラン
・流速 :1.0mL/min
・検出器 :示差屈折計
・標準試料 :ポリスチレン
実施例および比較例で作製した第1の積層体を使用して、接着剤層を複数積層することにより、厚さ15mmの測定用サンプルを作製した。得られた測定用サンプルについて、フローテスター(島津製作所社製,CFT−100D)を用い、荷重50kgf、温度範囲50〜120℃、昇温速度10℃/minの条件で溶融粘度を測定した。90℃における溶融粘度の値を表2に示す。
実施例および比較例で作製した第1の積層体を、15×4.5mmに切断し、測定用サンプルとした。得られたサンプルを160℃で1時間処理することにより接着剤層を硬化させた。得られた硬化物について、熱機械分析装置(ブルカー・エイエックス社製,TMA4030SA)を用い、荷重2g、温度範囲0〜300℃、昇温速度5℃/minの条件にて線膨張係数を測定した。得られた結果より、0〜130℃での平均線膨張係数を算出した。結果を表2に示す。
実施例および比較例で作製した第1の積層体を、5×20mmに切断し、測定用サンプルとした。得られたサンプルを160℃で1時間処理することにより接着剤層を硬化させた。得られた硬化物について、動的粘弾性測定機器(ティー・エイ・インスツルメント社製,DMA Q800)を使用し、周波数11Hz、振幅10μm、昇温速度3℃/分で、0℃から300℃まで昇温させたときの引張モードによる粘弾性を測定し、この測定で得られたtanδ(損失弾性率/貯蔵弾性率)の最大点の温度をガラス転移温度(Tg)とした。測定結果を表2に示す。
実施例および比較例で作製した第1の積層体を、15×4.5mmに切断し、測定用サンプルとした。得られたサンプルを160℃で1時間処理することにより接着剤層を硬化させた。得られた硬化物について、JIS K7120:1987に準拠して、示差熱・熱重量同時測定装置(島津製作所社製,DTG−60)を用い、流入ガスを窒素として、ガス流入速度100ml/min、昇温速度20℃/minで、40℃から550℃まで昇温させて熱重量測定を行った。得られた熱重量曲線に基づいて、温度100℃での質量に対して質量が5%減少する温度(5%質量減少温度)を求めた。結果を表2に示す。
実施例および比較例で作製した第1の積層体について、接着剤層の厚さ(T2)を、50mm間隔で合計100点測定した。この測定結果に基づいて、厚さ(T2)の平均値(μm)および厚さ(T2)の標準偏差(μm)を算出した。結果を表2に示す。
試験例3における、硬化後の接着剤層の粘弾性の測定結果から、接着剤層の硬化後の23℃における貯蔵弾性率(MPa)を読み取った。結果を表2に示す。
実施例および比較例で作製した第2の積層体を使用して、粘着剤層を複数積層することにより、厚さ800μmの粘着剤層の積層体を得た。この粘着剤層の積層体を直径10mmの円形に打ち抜き、これを測定用試料とした。
実施例および比較例で用いた基材を15mm×140mmの試験片に裁断し、JIS K7127:1999に準拠して、23℃における引張弾性率を測定した。具体的には、上記試験片を、引張試験機(島津製作所社製,オートグラフAG−IS 500N)にて、チャック間距離100mmに設定した後、200mm/minの速度で引張試験を行い、引張弾性率(MPa)を測定した。結果を表2に示す。
実施例および比較例で作製した第1の積層体を使用して、接着剤層を複数積層することにより、厚さ15mmの測定用サンプルを作製した。得られた測定用サンプルを、示差走査熱量計(TAインスツルメント社製,Q2000)を用いて、昇温速度10℃/分で常温から300℃まで加熱した。これにより得られるDSC曲線から、発熱が開始する温度(発熱開始温度)(TS)、および発熱ピーク温度(TP)を求めた。結果を表2に示す。
8インチウエハ(ウォルツ社製,WALTS−TEG MB50−0101JY_TYPE−B,ポリイミド膜有り,厚さ:725μm)を準備した。このウエハ上に形成された各個片化予定領域上には、544個のパッドが存在する。それらの各パッドに対して、30μmの高さの銅(Cu)ピラーを形成し、更にそれらの銅(Cu)ピラー上にSn−Agはんだを15μmの高さで設け、合計高さ45μmのバンプとした。以上の手順により、フリップチップ型ウエハを模した評価用ウエハを用意した。
○:接続抵抗値の変化率が20%以下である。
×:接続抵抗値の変化率が20%超である。
試験例10に記載される方法により半導体装置を複数製造した。これらの半導体装置から無作為に選択した5個の半導体装置の4側面をデジタル顕微鏡で観察し、バンプにおけるクラックの発生の有無、および接着剤層へのバンプの埋め込みの状態を確認するとともに、それぞれの面における積層方向の厚さを測定した。これらの結果に基づいて、以下の評価基準に従って、実施例および比較例で得た回路部材接続用シートにおけるバンプの埋込性を評価した。結果を表2に示す。
○:5個の半導体装置全てにおいて、バンプにクラックが発生しておらず、バンプが接着剤層に良好に埋め込まれており、積層方向の厚さが4側面間で同一である。
×:5個の半導体装置のうち、バンプにクラックが発生しているか、接着剤層へのバンプの埋め込みが不十分であるか、または積層方向の厚さが4側面間で同一でないものがある。
11…基材
12…粘着剤層
13…接着剤層
Claims (12)
- 相対向する電極間に介在され、前記相対向する電極を電気的に接続するために用いられる回路部材接続用シートであって、
前記回路部材接続用シートは、基材と、前記基材の少なくとも一方の面側に積層された粘着剤層と、前記粘着剤層における前記基材とは反対の面側に積層された硬化性の接着剤層とを備え、
前記接着剤層を構成する材料は、硬化前における90℃での溶融粘度が1.0×100Pa・s以上、5.0×105Pa・s以下であり、硬化物の0〜130℃における平均線膨張係数が45ppm以下である
ことを特徴とする回路部材接続用シート。 - 前記接着剤層を構成する材料の硬化物は、ガラス転移温度が150℃以上、350℃以下であることを特徴とする請求項1に記載の回路部材接続用シート。
- 前記接着剤層を構成する材料の硬化物は、熱重量測定による5%質量減少温度が350℃以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の回路部材接続用シート。
- 前記基材の厚さ(T1)に対する前記接着剤層の厚さ(T2)の比(T2/T1)は、0.01以上、5.0以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の回路部材接続用シート。
- 前記接着剤層の厚さ(T2)の標準偏差は、2.0μm以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の回路部材接続用シート。
- 前記接着剤層の硬化後の23℃における貯蔵弾性率は、1.0×102MPa以上、1.0×105MPa以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の回路部材接続用樹脂シート。
- 前記粘着剤層の23℃における貯蔵弾性率は、1×103Pa以上、1×109Pa以下であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の回路部材接続用シート。
- 前記基材の23℃における引張弾性率は、100MPa以上、5000MPa以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の回路部材接続用シート。
- 前記接着剤層は、示差走査熱量分析法により昇温速度10℃/分で測定される発熱開始温度(TS)が、70℃〜150℃の範囲内であり、発熱ピーク温度(TP)が、TS+5〜60℃であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の回路部材接続用シート。
- 前記相対向する電極は、半導体チップに設けられた貫通電極であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の回路部材接続用シート。
- 請求項1〜10のいずれか一項に記載の回路部材接続用シートの前記接着剤層における前記粘着剤層とは反対の面と、バンプを備えた半導体ウエハにおける前記バンプが存在する面とを貼合する工程、
前記半導体ウエハを、前記回路部材接続用シートの前記接着剤層とともにダイシングし、接着剤層付き半導体チップに個片化する工程、
個片化された前記接着剤層付き半導体チップの前記バンプと、電極を備える回路基板の前記電極とが電気的に接合するように、前記接着剤層付き半導体チップを前記回路基板上に載置する工程、および
前記接着剤層付き半導体チップにおける前記接着剤層を硬化して、前記半導体チップと前記回路基板とを接着する工程
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の回路部材接続用シートの前記接着剤層における前記粘着剤層とは反対の面と、貫通電極を備えた半導体ウエハの少なくとも一方の面とを貼合する工程、
前記半導体ウエハを、前記回路部材接続用シートの前記接着剤層とともにダイシングし、接着剤層付き半導体チップに個片化する工程、
個片化された複数の前記接着剤層付き半導体チップを、前記貫通電極同士が電気的に接続され且つ前記接着剤層と前記半導体チップとが交互に配置されるように複数積層して、半導体チップ積層体を得る工程、および
前記半導体チップ積層体における前記接着剤層を硬化して、前記半導体チップ積層体を構成する前記半導体チップ同士を接着する工程
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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JP2016076186A JP6670156B2 (ja) | 2016-04-05 | 2016-04-05 | 回路部材接続用シートおよび半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016076186A JP6670156B2 (ja) | 2016-04-05 | 2016-04-05 | 回路部材接続用シートおよび半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017188306A true JP2017188306A (ja) | 2017-10-12 |
JP6670156B2 JP6670156B2 (ja) | 2020-03-18 |
Family
ID=60045057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016076186A Active JP6670156B2 (ja) | 2016-04-05 | 2016-04-05 | 回路部材接続用シートおよび半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6670156B2 (ja) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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