JP2017183607A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017183607A5
JP2017183607A5 JP2016071278A JP2016071278A JP2017183607A5 JP 2017183607 A5 JP2017183607 A5 JP 2017183607A5 JP 2016071278 A JP2016071278 A JP 2016071278A JP 2016071278 A JP2016071278 A JP 2016071278A JP 2017183607 A5 JP2017183607 A5 JP 2017183607A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface area
plasma
ultraviolet light
generated
irradiated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016071278A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6757162B2 (ja
JP2017183607A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2016071278A priority Critical patent/JP6757162B2/ja
Priority claimed from JP2016071278A external-priority patent/JP6757162B2/ja
Publication of JP2017183607A publication Critical patent/JP2017183607A/ja
Publication of JP2017183607A5 publication Critical patent/JP2017183607A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6757162B2 publication Critical patent/JP6757162B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

JP2016071278A 2016-03-31 2016-03-31 プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置 Active JP6757162B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016071278A JP6757162B2 (ja) 2016-03-31 2016-03-31 プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016071278A JP6757162B2 (ja) 2016-03-31 2016-03-31 プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020144026A Division JP7030915B2 (ja) 2020-08-28 2020-08-28 プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017183607A JP2017183607A (ja) 2017-10-05
JP2017183607A5 true JP2017183607A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2019-05-09
JP6757162B2 JP6757162B2 (ja) 2020-09-16

Family

ID=60007670

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016071278A Active JP6757162B2 (ja) 2016-03-31 2016-03-31 プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6757162B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7095029B2 (ja) * 2019-09-09 2022-07-04 芝浦メカトロニクス株式会社 プラズマ処理装置
JP7030915B2 (ja) * 2020-08-28 2022-03-07 芝浦メカトロニクス株式会社 プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置
JP7605569B2 (ja) 2021-07-21 2024-12-24 東京エレクトロン株式会社 プラズマ源及びプラズマ処理装置
CN115346852A (zh) * 2022-08-12 2022-11-15 中核四0四有限公司 一种远程等离子体源发生装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0410415A (ja) * 1989-08-11 1992-01-14 Sanyo Electric Co Ltd ドライエッチング方法
JPH06318581A (ja) * 1993-05-07 1994-11-15 Sanyo Electric Co Ltd ドライエッチング方法
JP2787006B2 (ja) * 1995-05-10 1998-08-13 株式会社日立製作所 加工方法及び加工装置並びにプラズマ光源
JP3582916B2 (ja) * 1995-10-14 2004-10-27 スピードファム株式会社 プラズマエッチング装置
US20020124867A1 (en) * 2001-01-08 2002-09-12 Apl Co., Ltd. Apparatus and method for surface cleaning using plasma

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017183607A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP5217951B2 (ja) レジスト除去方法及びその装置
JP2012504865A5 (enrdf_load_stackoverflow)
WO2009063755A1 (ja) プラズマ処理装置および半導体基板のプラズマ処理方法
JP5861696B2 (ja) 光照射装置
WO2009018044A3 (en) Advanced multi-workpiece processing chamber
JP2014150202A5 (enrdf_load_stackoverflow)
CN105493235B (zh) 光照射装置
JP4968028B2 (ja) レジスト除去装置
JP2008294168A (ja) レジスト除去方法及びその装置
JP5317852B2 (ja) 紫外線照射装置
GB201303809D0 (en) Method and apparatus
TWI471226B (zh) 層積體之製造方法
KR102469600B1 (ko) 성막장치 및 성막방법
JP2015085267A (ja) デスミア処理装置
JP6135764B2 (ja) デスミア処理装置
JP2015111611A (ja) アッシング方法およびアッシング装置
JP2018146617A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP2014107278A (ja) 半導体装置の製造方法、基板処理システム、及び基板処理装置
JP6242163B2 (ja) テープ拡張装置
JP5500197B2 (ja) レーザリフトオフ方法およびレーザリフトオフ装置
JP6123649B2 (ja) アッシング装置および被処理物保持構造体
JP2013207235A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP6067372B2 (ja) プラズマ処理装置
JP2017103393A (ja) 炭素膜処理装置