JP2017179425A - 異常検知システム及び制御ボード - Google Patents

異常検知システム及び制御ボード Download PDF

Info

Publication number
JP2017179425A
JP2017179425A JP2016066052A JP2016066052A JP2017179425A JP 2017179425 A JP2017179425 A JP 2017179425A JP 2016066052 A JP2016066052 A JP 2016066052A JP 2016066052 A JP2016066052 A JP 2016066052A JP 2017179425 A JP2017179425 A JP 2017179425A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
abnormality
command
substrate processing
abnormality detection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016066052A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6695190B2 (ja
Inventor
勝人 廣瀬
Masato Hirose
勝人 廣瀬
敏夫 長谷川
Toshio Hasegawa
敏夫 長谷川
昌平 吉田
Shohei Yoshida
昌平 吉田
猛 篠原
Takeshi Shinohara
猛 篠原
川崎 真司
Shinji Kawasaki
真司 川崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2016066052A priority Critical patent/JP6695190B2/ja
Priority to CN201780021606.5A priority patent/CN108884566B/zh
Priority to PCT/JP2017/010496 priority patent/WO2017169804A1/ja
Priority to KR1020187028162A priority patent/KR102220434B1/ko
Priority to US16/088,102 priority patent/US11873560B2/en
Publication of JP2017179425A publication Critical patent/JP2017179425A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6695190B2 publication Critical patent/JP6695190B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/52Controlling or regulating the coating process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525Atomic layer deposition [ALD]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45527Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
    • C23C16/45536Use of plasma, radiation or electromagnetic fields
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45544Atomic layer deposition [ALD] characterized by the apparatus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/515Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using pulsed discharges
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/04Programme control other than numerical control, i.e. in sequence controllers or logic controllers
    • G05B19/048Monitoring; Safety
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B23/00Testing or monitoring of control systems or parts thereof
    • G05B23/02Electric testing or monitoring
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B23/00Testing or monitoring of control systems or parts thereof
    • G05B23/02Electric testing or monitoring
    • G05B23/0205Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults
    • G05B23/0218Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults characterised by the fault detection method dealing with either existing or incipient faults
    • G05B23/0221Preprocessing measurements, e.g. data collection rate adjustment; Standardization of measurements; Time series or signal analysis, e.g. frequency analysis or wavelets; Trustworthiness of measurements; Indexes therefor; Measurements using easily measured parameters to estimate parameters difficult to measure; Virtual sensor creation; De-noising; Sensor fusion; Unconventional preprocessing inherently present in specific fault detection methods like PCA-based methods
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B23/00Testing or monitoring of control systems or parts thereof
    • G05B23/02Electric testing or monitoring
    • G05B23/0205Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults
    • G05B23/0259Electric testing or monitoring by means of a monitoring system capable of detecting and responding to faults characterized by the response to fault detection
    • G05B23/0264Control of logging system, e.g. decision on which data to store; time-stamping measurements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/45Nc applications
    • G05B2219/45026Circuit board, pcb

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

【課題】基板処理装置に設けられた機器の異常を精度良く検知することを目的とする。【解決手段】基板処理装置を制御する上位コントローラと、該上位コントローラの指示に従い、前記基板処理装置に設けられた機器を制御する下位コントローラとを有し、前記機器の異常を検知する異常検知システムであって、前記下位コントローラは、前記機器の状態信号を、所定の周期における所定時間、所定のサンプリング間隔で収集し、収集した該機器の状態信号を蓄積する記憶部を有し、前記上位コントローラは、蓄積した前記機器の状態信号を、前記所定時間以上の時間間隔で前記下位コントローラから取得し、取得した前記機器の状態信号に基づき、前記機器の異常の有無を判定する異常判定部とを有する、異常検知システムが提供される。【選択図】図2

Description

本発明は、異常検知システム及び制御ボードに関する。
例えば、特許文献1には、プラズマ装置に設けられた複数のバルブの開閉動作を指示する複数の指示信号や、複数のバルブの開閉動作を検出する複数のセンサの複数の検出信号に基づき、複数のバルブの動作状態を把握する制御コントローラが開示されている。
プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)装置では、分単位の周期でプラズマ制御が行われる。これに対して、プラズマCVD装置を制御する制御コントローラは、100ms単位の周期でプラズマCVD装置に取り付けられた高周波電源(以下、「RF電源」ともいう。)やバルブ等の機器の状態信号を検知する。すなわち、制御コントローラは、100ms単位の周期でセンサやRF電源にポーリングする。
特開2013−168131号公報
しかしながら、原料ガスと反応ガスとを交互に処理容器内へ供給し、原子レベル又は分子レベルの厚さの薄膜を一層ずつ形成するプラズマALD(Atomic Layer Deposition)装置に対する制御では、プラズマ制御を10ms単位の周期で行っている。
よって、従来の100ms単位の周期でセンサやRF電源のIO(Input/Output)信号を制御すると、プラズマALD装置に設けられたバルブ等の機器の状態を正確に把握し、プロセスの制御を適切に行うことは困難である。
上記課題に対して、一側面では、本発明は、基板処理装置に設けられた機器の異常を精度良く検知することを目的とする。
上記課題を解決するために、一の態様によれば、基板処理装置を制御する上位コントローラと、該上位コントローラの指示に従い、前記基板処理装置に設けられた機器を制御する下位コントローラとを有し、前記機器の異常を検知する異常検知システムであって、前記下位コントローラは、前記機器の状態信号を、所定の周期における所定時間、所定のサンプリング間隔で収集し、収集した該機器の状態信号を蓄積する記憶部を有し、前記上位コントローラは、蓄積した前記機器の状態信号を、前記所定時間以上の時間間隔で前記下位コントローラから取得し、取得した前記機器の状態信号に基づき、前記機器の異常の有無を判定する異常判定部とを有する、異常検知システムが提供される。
一の側面によれば、基板処理装置に設けられた機器の異常を精度良く検知することができる。
一実施形態に係る基板処理システムの制御系統の一例を示す図。 一実施形態に係る基板処理装置、MC及びI/Oボードのハードウェア構成の一例を示す図。 一実施形態に係るMC及びI/Oボードの機能構成の一例を示す図。 第1実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す図。 第1実施形態に係る異常検知処理の一例を示すフローチャート。 第1実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャート。 第2実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す図。 第1〜第6実施形態に係る状態信号(ディジタル、アナログ信号)のタイミングを説明するための図。 第2実施形態に係る異常検知処理の一例を示すフローチャート。 第2実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャート。 第3実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す図。 第3実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャート。 第4実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す図。 第4実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャート。 第5実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す図。 第5実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャート。 第5実施形態に係る異常検知処理における積算方法を説明するための図。 第6実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す図。 第6実施形態に係る異常検知処理の一例を示すフローチャート。 第6実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャート。
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の構成については、同一の符号を付することにより重複した説明を省く。
[基板処理システムの制御系統例]
まず、本発明の一実施形態に係る基板処理システムの制御系統の一例について、図1を参照しながら説明する。例えば、基板処理システムは、複数の基板処理装置、搬送室(TM:Transfer Module)、ロードロック室(LLM:Load Lock Module)等を有し、複数の基板処理装置にて複数の基板の処理が実行される。システムコントローラ1(EC:Equipment Controller)は、基板処理システムの全体を制御する統括制御部である。
システムコントローラ1は、複数のモジュールコントローラ20(MC:Module Controller)とシステム内LAN(Local Area Network)を介して接続されている。モジュールコントローラ20は、システムコントローラ1の指示に従い、基板処理装置の制御を行う。
各モジュールコントローラ20は、複数のI/Oボード30とシステム内LAN(Local Area Network)等のネットワークを介して接続されている。複数のI/Oボード30は、各モジュールコントローラ20の指示に従い、基板処理装置、に設けられた複数の機器の少なくともいずれかを制御する。例えば、複数のI/Oボード30のうちの一のI/Oボード30は、図1及び図2に示すように、高周波電源の一例であるRF電源18及び整合器17の各機器を制御する。
図2に示すように、I/Oボード30は、モジュールコントローラ20の指令に従い、RFをオンするための指令信号(以下、「DO(Digital Output)信号」という。)をRF電源18に送出する。また、I/Oボード30は、DO信号に対する確認信号(以下、「DI(Digital Input)信号」という。)をRF電源18から入力する。
以下では、システムコントローラ1をEC1と表記し、モジュールコントローラ20をMC20と表記する。MC20は、I/Oボード30に対して上位コントローラであり、I/Oボード30は、MC20に対して下位コントローラである。I/Oボード30は、制御ボートともいう。
[基板処理装置、MC、I/Oボードのハードウェア構成]
次に、本発明の一実施形態に係る基板処理装置10、MC20、I/Oボード30のハードウェア構成の一例について、図2を参照しながら説明する。基板処理装置10は、プラズマCVD装置、プラズマALD装置、プラズマエッチング装置等の装置であり得る。本実施形態では、基板処理装置10は、基板の一例である半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」と記す。)Wに対して、複数のガスを、互いに異なるタイミングで間欠的に繰り返し供給して成膜を行うALD(Atomic Layer Deposition)装置として構成されている。
基板処理装置10は、処理容器11と、ウェハWの処理に使用される複数のガスを供給するガス供給源14と、整合器17を介して処理容器11と接続され、処理容器11内にRF(高周波)電力を印加するRF電源18と、排気装置16とを有する。
処理容器11は、天壁11a、底壁11b及び天壁11aと底壁11bとを連結する側壁11cを含み、略円筒状に形成され、内部は気密になっている。排気装置16が作動することにより、底壁11bに形成された排気口11dからガスが排気され、処理容器11の内部は、所定の真空度まで減圧される。
処理容器11の内部には、ウェハWを保持するためのステージ19と、ステージ19を支持する円筒状の支持部材15とが配置されている。更に、処理容器11の天壁11aには、ガス導入部12が設けられている。ガス供給源14から供給されるガスは、ガス供給管13を通り、ガス導入部12から処理容器11内に導入される。
(EC)
EC1は、工程管理者等によって指定されたレシピを含むプログラムを、ハードディスク装置や記憶媒体から読み出す。読み出したプログラムは、EC1から各MC20に送信される。また、EC1は、LANを介して基板処理システムが設置されている工場全体の製造工程を管理するMES(Manufacturing Execution System)としてのホストコンピュータに接続されている。ホストコンピュータは、工場における種々の工程に関するリアルタイム情報を基幹業務システムにフィードバックすると共に、工場全体の負荷等を考慮して工程を制御する。
基板処理システムの全体制御や基板処理装置10の異常検知やウエハWの加工に関するレシピは、例えば、記憶媒体に格納され、ハードディスク装置にインストールすることによって利用することができる。記憶媒体としては、例えば、CD−ROM、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリ、DVD等を使用することができる。また、上記レシピは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用することも可能である。
(MC)
複数のMC20は、EC1によって統括されて制御される。なお、MC20は、基板処理システム内の複数の基板処理装置10だけでなく、ロードロック室や、ローダーユニットに対応させて設けることが可能であり、これらもEC1によって統括されて制御される。
以下、基板処理装置10を制御するMC20を例に挙げて、MC20の構成について説明する。MC20は、I/O制御インターフェース21とCPU22とRAM等によって構成される揮発性メモリ23と、ROM等によって構成される不揮発性メモリ24とを有している。不揮発性メモリ24は、例えばSRAM、MRAM、EEPROM、フラッシュメモリ等の不揮発性メモリによって構成されている。不揮発性メモリ24には、基板処理装置10における種々のログ情報、例えば、基板処理装置10の異常が判定された場合の状態信号のログ等が保存される。状態信号として不揮発性メモリ24に記憶される情報は、MC20とI/Oボード30との間で入出力される各種の信号、例えば、DO(ディジタルアウトプット)信号、DI(ディジタルインプット)信号、AO(アナログアウトプット)信号、AI(アナログインプット)信号等である。
(I/Oモジュール)
MC20は、ネットワーク48を介して1つ以上のI/Oモジュール31と接続されている。ネットワーク48は、I/Oモジュール31毎に割り当てられた複数のチャンネルCH0,CH1,CH2・・・を有している。ネットワーク48は、GHOST(General High-Speed Optimum Scalable Transceiver)と称されるLSIを用いて実現されるネットワークであってもよい。
基板処理装置10に設けられた各機器のMC20による制御は、I/Oモジュール31を介して行われる。例えば、MC20のI/O制御インターフェース21は、I/Oモジュール31に種々の制御信号を送出する。また、I/O制御インターフェース21は、I/Oモジュール31から機器(例えば、RF電源18や整合器17)の状態信号を受け取る。
(I/Oボード)
MC20に対応する1つ以上のI/Oモジュール31は、基板処理装置10への制御信号の入出力信号の伝達を行う。1つのI/Oモジュール31は、1つ以上のI/Oボード30を有している。I/Oボード30は、MC20の指示に従い、各機器を直接制御する制御ボードである。
I/Oボード30の機能は、例えば、CPU32及びFPGA(Field Programmable Gate Array)回路34の少なくともいずれかを主な構成部品として実現される。FPGA回路34は、プログラマブルロジックデバイスの一例である。
I/Oモジュール31は、1つ以上の機器に接続されている。本実施形態では、一つのI/Oボード30にRF電源18及び整合器17が接続されている。
MC20(I/Oボード30)から機器に出力される出力信号(例えば、DO信号及びAO信号)及びI/Oボード30へ入力される入力信号(例えば、DI信号及びAI信号)の制御は、CPU32及びFPGA(Field-programmable gate array)34により実行される。
DO信号は、制御系統の上位に位置するMC20から、制御系統の下位に位置するRF電源18へ出力されるディジタル信号である。DO信号には、RF電源18のオンを指令する信号が含まれる。また、DO信号には、RF電源18のオフを指令する信号が含まれる。
DI信号は、制御系統の下位に位置するRF電源18から、制御系統の上位に位置するMC20(I/Oボード30)へ入力されるディジタル信号である。DI信号には、RF電源18のオンを指令する指令信号に対する確認信号が含まれる。また、DI信号には、RF電源18のオフを指令する指令信号に対する確認信号が含まれる。
FPGA回路34に内蔵されたDOカウンタ40は、指令信号の立ち上がり又は立下りの数をカウントする。FPGA回路34に内蔵されたDIカウンタ41は、指令信号に対する確認信号の立ち上がり又は立下りの数をカウントする。
FPGA回路34に内蔵された立上がり遅延時間カウンタ45は、RF電源18のオンを指令する指令信号であるDO信号(実際には、このDO信号をフィードバックして入力したDI信号)と、RF電源18のオンを指令する指令信号に対する確認信号であるDI信号との間の相対的な時間差を計測する。FPGA回路34に内蔵された立下がり遅延時間カウンタ46は、RF電源18のオフを指令する指令信号であるDO信号(実際には、このDO信号をフィードバックして入力したDI信号)と、RF電源18のオフを指令する指令信号に対する確認信号であるDI信号との間の相対的な時間差を計測する。
AI信号は、例えばRF電源18及び整合器17からMC20(I/Oボード30)へ入力されるアナログ信号である。AI信号には、RF電源18から供給される高周波(RF)の進行波の電力Pfを示す信号(以下、「Pf AI信号」という。)が含まれる。また、AI信号には、RF電源18から供給される高周波(RF)の反射波の電力Prを示す信号(以下、「Pr AI信号」という。)が含まれる。
また、AI信号には、RF電源18から供給される高周波(RF)の進行波の電圧Vppを示す信号(以下、「Vpp AI信号」という。)が含まれる。また、AI信号には、整合器17に設けられた可変コンデンサの整合位置を示す信号(以下、「Load AI信号」、「Tune AI信号」)が含まれる。
CPU32に内蔵された最大値レジスタ42には、Pf AI信号(RF進行波の電力Pfのアナログ信号)の最大値、Pr AI信号(RF反射波の電力Prのアナログ信号)の最大値、Vpp AI信号(RF進行波の電圧Vppのアナログ信号)の最大値、及びLoad AI信号とTune AI信号の最大値(整合器17の整合位置の最大値を示す信号)が格納される。
CPU32に内蔵された最小値レジスタ43には、Pf AI信号(RF進行波の電力Pfのアナログ信号)の最小値、Pr AI信号(RF反射波の電力Prのアナログ信号)の最小値、Vpp AI信号(RF進行波の電圧Vppのアナログ信号)の最小値、及びLoad AI信号とTune AI信号の最小値(整合器17の整合位置の最小値を示す信号)が格納される。
また、CPU32に内蔵された積算レジスタ44には、Pf AI信号(RF進行波の電力Pfのアナログ信号)の積算値、及びPr AI信号(RF反射波の電力Prのアナログ信号)の積算値が格納される。
なお、以下で説明する、第1〜第6実施形態における上記各種のアナログ信号とは、アナログ値で表される性質を有する信号をディジタル化した信号を意味する。
[MC及びI/Oボードの機能構成]
次に、本発明の一実施形態に係るMC20及びI/Oボード30の機能構成の一例について、図3を参照しながら説明する。
(I/Oボードの機能構成)
I/Oボード30は、通信部36、記憶部37、計時部38及び機器制御部39を有する。通信部36は、MC20からのRF電源18をオンする指令信号を受信し、該指令信号に従いDO信号をRF電源18に送信する。通信部36は、指令信号(DO信号)に対する確認信号(DI信号)をMC20に送信する。通信部36は、RF電源18の高周波に関するAI信号及び整合器17の整合位置に関するAI信号をMC20に送信する。
機器制御部39は、機器の状態信号を、所定の周期における所定時間、所定のサンプリング間隔で収集し、収集した機器の状態信号を記憶部37に蓄積する。具体的には、機器制御部39は、通信部36を介して基板処理装置10に設けられたRF電源18への指令信号の数、該指令信号に対する確認信号の数、RF電源18が出力する高周波の進行波の電力の信号、前記高周波の反射波の電力の信号、前記高周波の進行波の電圧の信号、整合器17の整合位置の信号、前記高周波の進行波の電力の積算値を示す信号、前記高周波電源への指令信号と該指令信号に対する確認信号の立上がりの遅延時間を示す信号、及び前記高周波電源への指令信号と該指令信号に対する確認信号の立下がりの遅延時間を示す信号の少なくとも一つを所定のサンプリング間隔で収集し、記憶部37に蓄積する。
例えば、記憶部37は、DOカウンタ40及びDIカウンタ41に、RF電源18のオンを指令するDO信号の数及び前記DO信号に対する確認信号であるDI信号の数を記憶する。記憶部37は、最大値レジスタ42に上記各種のAI信号の最大値を記憶し、最小値レジスタ43に上記各種のAI信号の最小値を記憶する。記憶部37は、積算レジスタ44にRF進行波及びRF反射波のAI信号の累積値を記憶する。記憶部37は、立上がり遅延時間カウンタ45に、RF電源18のオンを指令するDO信号の立上りと、その確認信号であるDI信号の立上りとの差分を遅延時間として記憶する。記憶部37は、立下がり遅延時間カウンタ46に、RF電源18のオンを指令するDO信号の立下りと、その確認信号であるDI信号の立下りとの差分を遅延時間として記憶する。
計時部38は、機器の状態信号を収集する際の所定の周期と、周期中でサンプリングを行う所定時間と、サンプリング間隔とを計時する。図1に示すように、I/Oボード30は、300μs〜1msの範囲で定められたサンプリング間隔でRF電源18及び整合器17にポーリングし、RF電源18及び整合器17の状態信号を収集する。基板処理装置10がプラズマALD装置の場合、一プロセスは200ms〜800msの周期で行われる。よって、計時部38は、200ms〜800ms毎(つまり、一プロセス毎)に、所定時間のサンプリング時間を計時する。所定時間は、50ms〜100msである。つまり、図8のRF AI信号に一例を示すように、200ms〜800msの周期で間欠的に行われるプロセス毎に、プロセス中の所定時間(50ms〜100msの間)、300μs〜1msの範囲で定められたサンプリング間隔でI/Oボード30からRF電源18及び整合器17にポーリングが行われる。これにより、I/Oボード30は、サンプリングデータとしてのRF電源18及び整合器17の状態信号を収集する。収集した機器の状態信号のサンプリングデータは、記憶部37に記憶される。記憶部37は、図2に示すCPU32内のRAM33及びFPGA回路34内の各種のカウンタ40,41及び各種のレジスタ42〜44により実現される。なお、以下の各実施形態において、サンプリング間隔は、300μsに設定される。
サンプリングデータは、MC20が100ms毎に送出するポーリングのタイミングに、I/Oボード30からMC20に送出される。
機器制御部39は、基板処理装置10に設けられた機器を制御する。具体的には、機器制御部39は、RF電源18のオン及びオフの制御、排気装置16の排気制御、ガス供給源14のガス供給制御等を行う。また、機器制御部39は、RF電源18や整合器17等の機器の異常の判定結果に応じて、該当機器の停止等の制御を行う。
(MCの機能構成)
MC20は、通信部25、制御部26、異常判定部27及びログ記憶部28を有する。通信部25は、I/Oボード30との間で各種の信号、例えば、DO信号、DI信号、AI信号を送受信する。制御部26は、EC1の指示に従い、基板処理装置10の制御を行う。
異常判定部27は、I/Oボード30において収集されたRF電源18の状態信号(例えばPf AI信号)及び整合器17の状態信号(例えばLoad/ Tune AI信号)のサンプリングデータのピーク値、平均値、中央値に基づき、RF電源18や整合器17等の機器の異常の有無を判定する。より詳しくは、異常判定部27は、機器の状態信号に基づき、以下の信号の少なくとも一つに基づき、機器の異常の有無又は機器間の配線の異常を判定してもよい。
・RF電源18への指令信号の数、その指令信号に対する確認信号の数
・高周波(RF)の進行波及び反射波の電力を示す信号のピーク値、中央値、平均値
・RFの進行波及び反射波の電圧を示す信号のピーク値、中央値、平均値
・RFの進行波及び反射波の電力を示す信号を積算した積算値
・整合器17の整合位置を示す信号のピーク値、中央値及び平均値
・RF電源18への指令信号の遅延時間、その指令信号に対する確認信号の遅延時間
ログ記憶部28は、異常判定部27がRF電源18等の機器に異常があると判定した場合、異常と判定された機器の状態信号をログ情報として記憶する。
(ALD法による成膜処理)
ALD法による成膜処理では、原料ガスを含む複数のガスの供給と停止を短時間で間欠的に繰り返し行う必要がある。例えば、CVD法による成膜処理を行うCVD装置のプラズマ制御の周期(一プロセスの時間)は、100ms程度あれば十分である。これに対して、ALD法による成膜処理を行うALD装置のプラズマ制御の周期は、RF電源18のオン及びオフの周期が短くなるため、10ms程度と短く設定する必要がある。よって、MC20が100ms毎に行うポーリングでは、MC20は、10ms程度の短周期でプラズマ制御されるRF電源18等の機器の状態信号を、必ずしも正しく取得できない場合がある。
そこで、本実施形態では、I/Oボード30が300μs〜1ms毎に行うポーリングで、機器の状態信号をI/Oボード30内の記憶部37に蓄積しておく。MC20は、100ms毎に行うポーリングにおいて、I/Oボード30内の記憶部37に蓄積された機器の状態信号を取得することで、RF電源18等の機器の状態信号を、I/Oボード30を介して正しく取得することができる。これにより、MC20は、10ms程度の短周期でプラズマ制御されるALD装置においても、取得した機器の状態信号に基づき、RF電源18等の機器の異常の有無を正確に判定することができる。
以下では、第1〜第6実施形態の順に、各実施形態に係る状態信号検出回路及び該回路を使用した異常検知処理について説明する。
<第1実施形態>
まず、第1実施形態に係る状態信号検出回路及び第1実施形態に係る異常検知処理の一例について、図4〜図6を参照しながら説明する。図4は、第1実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す。図5は、第1実施形態に係る異常検知処理の一例を示すフローチャートである。図6は、第1実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャートである。
(状態信号検出回路)
図4に示す第1実施形態に係る状態信号検出回路35は、FPGA回路34内にあり、フォトカプラ50とDOカウンタ40とDIカウンタ41とを有する。フォトカプラ50は、内部で電気信号を光に変換し再び電気信号へ戻すことによって、電気的に絶縁しながら信号を伝達する素子である。
DOカウンタ40は、MC20からRF電源18のオンを制御する指令信号を、フォトカプラ50を介してフィードバックした信号(DO信号)の回数をカウントする。DIカウンタ41は、MC20からRF電源18のオンを制御するDO信号に対する確認信号(DI信号)の回数をカウントする。
DOカウンタ40及びDIカウンタ41は、それぞれ16ビットとし、図6に示すように、MC20にインストールされているMCソフトウェア(プログラム)により制御されるSTART指令に従いカウントを開始し、STOP指令に従いカウントを停止する。本実施形態では、DOカウンタ40及びDIカウンタ41は、DO信号及びDI信号の立上りをカウントするが、これに限らず、DO信号及びDI信号の立下りをカウントしてもよい。また、DOカウンタ40及びDIカウンタ41は、RESET指令により初期化される。
DOカウンタ40及びDIカウンタ41のカウンタ値の読み取りは、カウント中でも可能とする。なお、DI信号については、DIカウンタ41の前に信号のノイズ除去回路を設け、一定時間以上の信号レベルの継続がないDI信号は有効な信号とは判定しないようにする。
(異常検知処理)
図5に示す第1実施形態に係る異常検知処理は、MC20により実行される。前提として、図6に示すように、時刻t0のSTART指令に従い、DOカウンタ40は、RF ON DO信号の回数Aをカウントし、DIカウンタ41は、RF ON DI信号の回数Bをカウントする。また、時刻t1のSTOP指令に従い、DOカウンタ40は、RF ON DO信号の回数Aのカウントを停止し、DIカウンタ41は、RF ON DI信号の回数Bのカウントを停止する。DOカウンタ40及びDIカウンタ41は、時刻t2のRESET信号に従い初期化される。
図5に示す異常検知処理が開始されると、制御部26は、RF電源18のオンを指令するDO信号の出力回数Xをカウントする(ステップS10)。通信部25は、I/Oボード30の通信部36からDOカウンタ40に格納されたカウント数A及びDIカウンタ41に格納されたカウント数Bを取得する(ステップS12)。
次に、異常判定部27は、出力回数Xがカウント数Aに等しいかを判定する(ステップS14)。異常判定部27は、出力回数Xがカウント数Aに等しくないと判定した場合、I/Oボード30に異常があると判定し(ステップS16)、本処理を終了する。他方、異常判定部27は、出力回数Xがカウント数Aに等しいと判定した場合、出力回数Xがカウント数Bに等しいかを判定する(ステップS18)。
異常判定部27は、出力回数Xがカウント数Bに等しいと判定した場合、異常なしと判定し(ステップS20)、本処理を終了する。他方、異常判定部27は、出力回数Xがカウント数Bに等しくないと判定した場合、I/Oボード30とRF電源18との間の配線又はRF電源18に異常があると判定し(ステップS22)、本処理を終了する。
以上、第1実施形態に係る異常検知システムによれば、基板処理装置10に設けられたRF電源18、I/Oボード30、及びRF電源18とI/Oボード30との間の配線の異常を検知することができる。
<第2実施形態>
次に、第2実施形態に係る状態信号検出回路及び第2実施形態に係る異常検知処理の一例について、図7〜図10を参照しながら説明する。図7は、第2実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す。図8は、第1〜第6実施形態に係る状態信号(DO,DI,AI信号)を説明するためのタイムチャートである。図9は、第2〜第5実施形態に係る異常検知処理の一例を示すフローチャートである。図10は、第2実施形態に係る異常検知処理の一例を説明するためのタイムチャートである。
(状態信号検出回路)
図7に示す第2実施形態に係る状態信号検出回路35は、FPGA回路34内にあり、AI回路51と最大値レジスタ42と最小値レジスタ43とを有する。AI回路51は、RF進行波の電力Pfのアナログ信号を12ビットのデータにディジタル化したPf AI信号を出力する。また、RF反射波の電力Prのアナログ信号を12ビットのデータにディジタル化したPr AI信号を出力する。
図10に示すように、時刻t3のSTART指令と時刻t4のSTOP指令の間に、例えば300μsのサンプリングクロックごとにデータがサンプリングされる。実際には、図8に示すように、START指令からSTOP指令の間は、一プロセスを示し、サンプリング時間は、一プロセス内の50ms〜100msの範囲の所定時間である。図10に示すサンプリングクロックに応じて収集されるサンプリングデータのうち、Pf AI信号の最大値及びPr AI信号の最大値は、それぞれ最大値レジスタ42に格納される。また、Pf AI信号の最小値及びPr AI信号の最小値は、それぞれ最小値レジスタ43に格納される。
最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43は、それぞれ12ビットとし、MC20のMCソフトウェアにより制御されるSTART指令により最大値及び最小値の検出を開始し、STOP指令によりその検出を停止する。また、最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43は、RESET指令により初期化される。
なお、最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43のレジスタ値の読み取りは、検出中でも可能である。また、検出可能なAI信号数はFPGA回路34の設計により増減可能である。
基板処理装置10がプラズマALD装置の場合、一プロセスは200ms〜800msで行われる。よって、図8に示すように、Pf AI信号のSTART指令(t0,t3、・・・)及びSTOP指令(t2,t4、・・・)のそれぞれの間隔は、200ms〜800msとなる。よって、200ms〜800msの一プロセス毎に一回のサンプリングデータが収集される。
サンプリングデータは、50ms〜100msの範囲の所定時間内において300μs〜1msのサンプリング間隔で収集される。例えば、50msの所定時間内において300μs毎に複数個のPf AI信号及びPr AI信号のサンプリングデータが収集されることになる。収集されたPf AI信号及びPr AI信号のサンプリングデータは、I/Oボード30の記憶部37に記憶される。
このように、第1実施形態のSTART指令(t0)からSTOP指令(t1)までの時間は、300回程度のプロセスが包含されるため、第2実施形態のSTART指令(t0,t3、・・・)からSTOP指令(t2,t4、・・・)までの時間よりも長い。
MC20は、例えば100ms毎にポーリングを行う。MC20がAI信号のサンプリングデータを取得する周期は、例えばALD法による処理の一サイクル200〜800msのうちの所定時間50ms〜100msよりも長いか又は同じ時間である。よって、MC20の一回のポーリングによって、MC20が取得するAI信号のサンプリングデータは、一回分のAI信号のサンプリングデータであり、一回のポーリングにて複数回分のAI信号のサンプリングデータを取得することはない。
(異常検知処理)
図9に示す第2実施形態に係る異常検知処理は、MC20により実行される。本処理が開始されると、制御部26は、ポーリングのタイミングに同期して、通信部25を介して所定のサンプリング間隔(本実施形態では、300μs)で収集されたサンプリングデータのPf(RFの進行波電力)のAI信号の最大値と最小値、及びPr(RFの反射波電力)のAI信号の最大値と最小値をI/Oボード30から受信する(ステップS32)。
次に、異常判定部27は、PfのAI信号の最大値が所定の閾値Aよりも大きいか否かを判定する(ステップS34)。異常判定部27は、PfのAI信号の最大値が所定の閾値Aよりも大きいと判定した場合、RF電源18に異常があると判定し(ステップS36)、本処理を終了する。他方、異常判定部27は、PfのAI信号の最大値が所定の閾値A以下であると判定した場合、PfのAI信号の最小値が所定の閾値Bよりも小さいか否かを判定する(ステップS38)。
異常判定部27は、PfのAI信号の最小値が所定の閾値Bよりも小さいと判定した場合、RF電源18に異常があると判定し(ステップS36)、本処理を終了する。他方、異常判定部27は、PfのAI信号の最小値が所定の閾値B以上であると判定した場合、PrのAI信号の最大値が所定の閾値Cよりも大きいか否かを判定する(ステップS40)。異常判定部27は、PrのAI信号の最大値が所定の閾値Cよりも大きいと判定した場合、RF電源18に異常があると判定し(ステップS36)、本処理を終了する。他方、異常判定部27は、PrのAI信号の最大値が所定の閾値C以下であると判定した場合、PrのAI信号の最小値が所定の閾値Dよりも小さいか否かを判定する(ステップS42)。
異常判定部27は、PrのAI信号の最小値が所定の閾値Dよりも小さいと判定した場合、RF電源18に異常があると判定し(ステップS36)、本処理を終了する。他方、異常判定部27は、PrのAI信号の最小値が所定の閾値D以上であると判定した場合、機器に異常はないと判定し(ステップS44)、本処理を終了する。
なお、所定の閾値A〜Dの一例としては、正常なプロセスを実施した際のPfのAI信号の中心値の±5%の値を閾値AとBにそれぞれ設定し、同様に、正常なプロセスを実施した際のPrのAI信号の中心値の±5%の値を閾値CとDにそれぞれ設定することができる。ただし、各閾値A〜Dの設定は、これに限らず、正常なプロセスから逸脱しない範囲を示す他の許容値を用いることができる。
以上、第2実施形態に係る異常検知システムによれば、I/Oボード30は、PfのAI信号及びPrのAI信号のサンプリングデータを、MC20のポーリング周期以下の時間である、例えば300μsのサンプリング間隔で収集し、記憶部37に記憶する。これにより、収集したサンプリングデータを一時的にI/Oボード30に蓄積しておく。MC20は、ポーリング周期で、サンプリングデータをI/Oボード30から取得することで、蓄積したサンプリングデータに基づきRF電源18の異常を精度良く検知することができる。
なお、第2実施形態では、MC20は、Pf AI信号の最大値及び最小値及びPr AI信号の最大値及び最小値に基づき、RF電源18等の機器の異常の有無を判定したが、これに限らない。MC20は、ポーリング毎にI/Oボード30から取得したサンプリングデータのピーク値、平均値、中央値等を算出し、算出結果に基づき、機器の異常の有無を判定してもよい。
<第3実施形態>
次に、第3実施形態に係る状態信号検出回路及び第3実施形態に係る異常検知処理の一例について、図11及び図12を参照しながら説明する。図11は、第3実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す。図12は、第3実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャートである。
(状態信号検出回路)
図11に示す第3実施形態に係る状態信号検出回路35は、FPGA回路34内にあり、AI回路51と最大値レジスタ42と最小値レジスタ43とを有する。AI回路51は、RF進行波の電圧Vppのアナログ信号を12ビットのデータにディジタル化したVpp AI信号を出力する。
最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43は、それぞれ12ビットとし、MC20のMCソフトウェアにより制御されるSTART指令に従い、Vpp AI信号の最大値及び最小値の検出を開始し、STOP指令によりその検出を停止する。また、最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43は、RESET指令により初期化される。最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43のレジスタ値の読み取りは、検出中でも可能である。
図12に示すように、時刻t3のSTART指令と時刻t4のSTOP指令の間であって、例えば300μsのサンプリングクロックごとにデータがサンプリングされる。サンプリングデータのうち、Vpp AI信号の最大値が最大値レジスタ42に格納され、Vpp AI信号の最小値が最小値レジスタ43に格納される。
第2実施形態の場合と同様に、サンプリングデータは、200ms〜800msの一プロセス毎に50ms〜100msの範囲内の所定時間、300μsのサンプリング間隔で収集される。本実施形態では、50msの所定時間、300μs毎にVpp AI信号のデータが収集されることになる。収集されたVpp AI信号のサンプリングデータは、I/Oボード30の記憶部37に記憶される。
(異常検知処理)
第2実施形態と同様に、MC20は、ポーリング毎にI/Oボード30から取得したサンプリングデータの最大値及び最小値に基づき、RF電源18等の機器の異常の有無を判定する。具体的には、図9の異常検知処理で使用されたサンプリングデータが、Pf AI信号及びPr AI信号のサンプリングデータであったのに対して、本実施形態は、Vpp AI信号のサンプリングデータを使用して、図9の異常検知処理と類似の処理を行う。これにより、RF電源18の異常の有無を判定できる。なお、MC20は、ポーリング毎にI/Oボード30から取得したサンプリングデータのピーク値、平均値、中央値等を算出し、算出結果に基づき、機器の異常の有無を判定してもよい。
以上、第3実施形態に係る異常検知システムによれば、I/Oボード30は、Vpp AI信号のサンプリングデータを、MC20のポーリング周期以下の時間である、例えば300μsのサンプリング間隔で収集し、記憶部37に記憶する。これにより、収集したサンプリングデータを一時的にI/Oボード30に蓄積しておく。MC20は、ポーリング周期で、サンプリングデータをI/Oボード30から取得することで、蓄積したサンプリングデータに基づき、RF電源18の異常の有無を判定できる。
<第4実施形態>
次に、第4実施形態に係る状態信号検出回路及び第4実施形態に係る異常検知処理の一例について、図13及び図14を参照しながら説明する。図13は、第4実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す。図14は、第4実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャートである。
(状態信号検出回路)
図13に示す第4実施形態に係る状態信号検出回路35は、FPGA回路34内にあり、AI回路51と最大値レジスタ42と最小値レジスタ43とを有する。AI回路51は、整合器17の整合位置であるLoad PositionとTune Positionのアナログ信号を12ビットのデータにディジタル化したLoad AI信号とTune AI信号を出力する。
最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43は、それぞれ12ビットとし、MC20のMCソフトウェアにより制御されるSTART指令に従い、Load AI信号及びTune AI信号の最大値及び最小値の検出を開始し、STOP指令によりその検出を停止する。また、最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43は、RESET指令により初期化される。なお、最大値レジスタ42及び最小値レジスタ43のレジスタ値の読み取りは、検出中でも可能である。
図14に示すように、時刻t3のSTART指令と時刻t4のSTOP指令の間であって、例えば300μsのサンプリングクロックごとにデータがサンプリングされる。サンプリングデータのうち、Load AI信号及びTune AI信号の最大値が最大値レジスタ42に格納され、Load AI信号及びTune AI信号の最小値が最小値レジスタ43に格納される。
第2実施形態の場合と同様に、サンプリングデータは、200ms〜800msの一プロセス毎に50ms〜100msの範囲内の所定時間、300μsのサンプリング間隔で収集される。本実施形態では、50msの所定時間、300μs毎にLoad AI信号及びTune AI信号のサンプリングデータが収集されることになる。収集されたLoad AI信号及びTune AI信号のサンプリングデータは、I/Oボード30の記憶部37に記憶される。
(異常検知処理)
第2実施形態と同様に、MC20は、ポーリング毎にI/Oボード30から取得したサンプリングデータの最大値及び最小値に基づき、整合器17の異常の有無を判定する。具体的には、図9の異常検知処理で使用されたサンプリングデータが、Pf AI信号及びPr AI信号のサンプリングデータであったのに対して、本実施形態は、整合器17のLoad AI信号及びTune AI信号のサンプリングデータを使用して、図9の異常検知処理と同一の処理を行う。これにより、整合器17の異常の有無を判定できる。なお、MC20は、ポーリング毎にI/Oボード30から取得したサンプリングデータのピーク値、平均値、中央値等を算出し、算出結果に基づき、機器の異常の有無を判定してもよい。
以上、第4実施形態に係る異常検知システムによれば、I/Oボード30は、Load AI信号及びTune AI信号のサンプリングデータを、MC20のポーリング周期よりも短時間で収集する。これにより、収集したサンプリングデータを一時的にI/Oボード30に蓄積しておく。MC20は、ポーリング周期で、サンプリングデータをI/Oボード30から取得することで、蓄積したサンプリングデータに基づき、整合器17の異常の有無を判定できる。
<第5実施形態>
次に、第5実施形態に係る状態信号検出回路及び第5実施形態に係る異常検知処理の一例について、図15〜図17を参照しながら説明する。図15は、第5実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す。図16は、第5実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャートである。図17は、第5実施形態に係る異常検知処理における積算方法を説明するための図である。
(状態信号検出回路)
図15に示す第5実施形態に係る状態信号検出回路35は、FPGA回路34内にあり、AI回路51と積算レジスタ44とを有する。AI回路51は、RF進行波の電力Pfのアナログ信号及びRF反射波の電力Prのアナログ信号を12ビットのデータにディジタル化したPf AI信号及びPr AI信号を出力する。
積算レジスタ44は、32ビットとし、MCソフトウェアの制御によるSTART指令により、Pf AI信号及びPr AI信号の積算を開始し、STOP指令によりその積算を停止する。また、積算レジスタ44は、RESET指令により初期化される。
積算間隔は、AI回路51のサンプリング間隔である300μs〜1msの範囲内の設定値と同一間隔である。本実施形態では、積算間隔は、300μsである。積算レジスタ44のレジスタ値の読み取りは積算中でも可能であるが、32ビットのデータは、16ビット×2回の読み取りサイクルになるため、この間に16ビット目から17ビット目への桁上がりが発生すると不正確な読み取り値となる。ただし、300μsの間隔で12ビットのデータを32ビットの積算レジスタ44に加算していくと、300μs×2(32−12)=5分までの積算が可能である。よって、積算レジスタ44は、ALD法による成膜の一サイクル毎にサンプリングするPf AI信号及びPr AI信号のサンプリングデータを積算するには十分であり、桁上がりが発生して積算値が不正確な値となることは生じない。
図16に示すように、積算クロックに応じたPf AI信号の値が、3,5,5,5,5,5,1・・・の場合、積算レジスタ44に格納される値は、3,8,13,18,23,28,29・・・となる。積算クロックに応じたPr AI信号の値が、3,0,0,0,0,0,0・・・の場合、積算レジスタ44に格納される値は、3,3,3,3,3,3,3・・・となる。積算クロックは、サンプリングクロックと同期しており、例えば300μsのサンプリングクロックごとにデータがサンプリングされる場合、300μsの積算クロックごとにサンプリングデータが積算される。CPU32は、式(1)を使用して、Pf AI信号及びPr AI信号のサンプリングデータの積算値を算出し、積算レジスタ44に格納する。
(異常検知処理)
MC20は、ポーリング毎にI/Oボード30から取得した、Pf AI信号及びPr AI信号のサンプリングデータの積算値を取得する。MC20は、積算結果に基づき、ALDの1サイクルにおけるRF電源18の異常の有無を判定する。また、MC20は、ALDの1サイクルごとの積算値を合計することで、一プロセスにおけるRF電源18の異常の有無を判定する。なお、算出したALDの1サイクルの積算値は、積算レジスタ44に蓄積され、MC20が、積算レジスタ44に蓄積された積算値を収集して、1プロセスの積算値を算出する。
Figure 2017179425
なお、式(1)のΔtは、積算間隔(=サンプリング間隔)であり、本実施形態では、300μsである。Vnは、Pf AI信号及びPr AI信号のn(1≦n)回目のサンプリングデータを示す。
積算値は、RFの進行波の総電力及びRFの反射波の総電力を示す。よって、積算値が予め定められた所定の閾値の範囲から外れている場合、異常判定部27は、RF電源18が異常であると判定する。
以上、第5実施形態に係る異常検知システムによれば、収集したPf AI信号及びPr AI信号のサンプリングデータに基づく積算値を一時的にI/Oボード30に蓄積しておき、MC20は、ポーリングに応じて積算値をI/Oボード30から取得する。これにより、RF電源18の出力の積算値に基づきRF電源18の異常を精度良く検知することができる。
<第6実施形態>
次に、第6実施形態に係る状態信号検出回路及び第6実施形態に係る異常検知処理の一例について、図18〜図20を参照しながら説明する。図18は、第6実施形態に係る状態信号検出回路の一例を示す。図19は、第6実施形態に係る異常検知処理の一例を示すフローチャートである。図20は、第6実施形態に係る異常検知処理における各信号のタイムチャートである。
(状態信号検出回路)
図18に示す第6実施形態に係る状態信号検出回路35は、FPGA回路34内にあり、フォトカプラ50と立上がり遅延時間カウンタ45と立下がり遅延時間カウンタ46とを有する。
立上がり遅延時間カウンタ45及び立下がり遅延時間カウンタ46は、MC20からRF電源18のオンを指令するDO信号と、DO信号に対する確認信号であるDI信号との間の相対的な時間差を計測する。
立上がり遅延時間カウンタ45は、DO信号とDI信号との立上がりにおける時間差を計測する。立下がり遅延時間カウンタ46は、DO信号とDI信号との立下がりにおける時間差を計測する。
立上がり遅延時間カウンタ45及び立下がり遅延時間カウンタ46は、それぞれ16ビットとし、MC20のMCソフトウェアが制御するSTART指令によりカウントを開始し、STOP指令によりそのカウントを停止する。立上がり遅延時間カウンタ45及び立下がり遅延時間カウンタ46のカウンタ値の読み取りは、カウント中でも可能とする。
(異常検知処理)
図19に示す第6実施形態に係る異常検知処理は、MC20により実行される。前提として、制御部26は、予めRF電源18が正常に動作しているときのDO信号(RF ON DO)とDI信号(RF ON DI)との立上がりにおける基準遅延時間Δtの値と、RF ON DO信号とRF ON DI信号との立下がりにおける基準遅延時間Δtの値とを測定しておく。
本処理を行う前に、制御部26は、立上がりにおける基準遅延時間Δtの値と、立下がりにおける基準遅延時間Δtの値とを取得する。次に、本処理が開始されると、通信部25は、I/Oボード30の通信部36から、立上がり遅延時間カウンタ45に格納された立上がり遅延時間S(n)(=Δtn:1≦n)を取得する(ステップS62)。また、通信部25は、I/Oボード30の通信部36から、立下がり遅延時間カウンタ46に格納された立下がり遅延時間U(n)(=Δtn:1≦n)を取得する(ステップS62)。これにより、図20に示す立上がり遅延時間S(n)と、立下がり遅延時間U(n)とが取得される。
次に、異常判定部27は、立上がり遅延時間S(n)と基準遅延時間Δtの値とを比較し、また、立下がり遅延時間U(n)と基準遅延時間Δtの値とを比較する(ステップS64)。立上がり遅延時間カウンタ45及び立下がり遅延時間カウンタ46は、それぞれ16ビットのカウンタであり、ΔtとΔtとは、0.1ms×216=6.5秒までのカウントが可能であり、十分なカウント時間が確保されている。
異常判定部27は、比較の結果、立上がり遅延時間S(n)のいずれか又は立下がり遅延時間U(n)のいずれかが許容範囲を超えてずれているかを判定する(ステップS66)。異常判定部27は、許容範囲を超えてずれていると判定した場合、I/Oボード30又はRF電源18に異常があると判定し(ステップS68)、本処理を終了する。他方、異常判定部27は、許容範囲を超えてずれていないと判定した場合、RF電源18に異常はないと判定し(ステップS70)、本処理を終了する。
以上、第6実施形態に係る異常検知システムによれば、RF ON DO信号とRF ON DI信号との立上がりの遅延時間又は立下がりの遅延時間に基づき、RF電源18又はI/Oボード30の異常を精度良く検知することができる。
以上、異常検知システム及び制御ボードを上記実施形態により説明したが、本発明にかかる異常検知システム及び制御ボードは上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変形及び改良が可能である。上記複数の実施形態に記載された事項は、矛盾しない範囲で組み合わせることができる。
例えば、RF電源18等の機器が異常であると判定された場合、MC20は、機器の状態情報をログ情報として記録することが好ましい。これにより、基板処理装置10にて実行されるプロセスを設計及び構築する場合、ログ情報を利用することでプロセスの不良を未然に防止することができる。
RF電源18の異常には、RF電源18の劣化及び破損が含まれる。また、I/Oボード30の異常には、I/Oボード30の不具合の可能性がある。よって、MC20は、異常と判定された機器毎に異なる対応をしてもよい。例えば、RF電源18が異常であると判定した場合、異常と判定された回数が例えば3回などの所定の回数以上になったら、プロセスを停止するようにしてもよい。I/Oボード30が異常であると判定した場合、異常と判定された回数によらず、直ちにI/Oボード30からの信号の入出力を停止してもよい。
また、本発明に係る基板処理装置は、容量結合型プラズマ(CCP:Capacitively Coupled Plasma)装置だけでなく、その他の基板処理装置に適用可能である。その他の基板処理装置としては、誘導結合型プラズマ(ICP:Inductively Coupled Plasma)、ラジアルラインスロットアンテナを用いたプラズマ処理装置、ヘリコン波励起型プラズマ(HWP:Helicon Wave Plasma)装置、電子サイクロトロン共鳴プラズマ(ECR:Electron Cyclotron Resonance Plasma)装置等であってもよい。
本明細書では、成膜対象の基板として半導体ウェハWについて説明したが、これに限らず、LCD(Liquid Crystal Display)、FPD(Flat Panel Display)等に用いられる各種基板や、フォトマスク、CD基板、プリント基板等であっても良い。
1:EC
10:基板処理装置
11:処理容器
14:ガス供給源
16:排気装置
17:整合器
18:RF電源
19:ステージ
20:MC
21:I/O制御インターフェース
22:CPU
23:揮発性メモリ
24:不揮発性メモリ
25:通信部
26:制御部
27:異常判定部
28:ログ記憶部
30:I/Oボード
31:I/Oモジュール
32:CPU
33:RAM
34:FPGA
35:状態信号検出回路
36:通信部
37:記憶部
38:計時部
39:機器制御部
40:DOカウンタ
41:DIカウンタ
42:最大値レジスタ
43:最小値レジスタ
44:積算レジスタ
45:立上がり遅延時間カウンタ
46:立下がり遅延時間カウンタ
48:ネットワーク
50:フォトカプラ
51:AI回路

Claims (8)

  1. 基板処理装置を制御する上位コントローラと、該上位コントローラの指示に従い、前記基板処理装置に設けられた機器を制御する下位コントローラとを有し、前記機器の異常を検知する異常検知システムであって、
    前記下位コントローラは、前記機器の状態信号を、所定の周期における所定時間、所定のサンプリング間隔で収集し、収集した該機器の状態信号を蓄積する記憶部を有し、
    前記上位コントローラは、蓄積した前記機器の状態信号を、前記所定時間以上の時間間隔で前記下位コントローラから取得し、取得した前記機器の状態信号に基づき、前記機器の異常の有無を判定する異常判定部とを有する、
    異常検知システム。
  2. 前記機器は、前記基板処理装置に設けられた高周波電源及び整合器の少なくともいずれかであり、
    前記記憶部は、前記高周波電源への指令信号の数、該指令信号に対する確認信号の数、前記高周波電源が出力する高周波の進行波の電力の信号、前記高周波の反射波の電力の信号、前記高周波の進行波の電圧の信号、前記整合器の整合位置の信号、前記高周波の進行波の電力の積算値を示す信号、前記高周波電源への指令信号と該指令信号に対する確認信号の立上がりの遅延時間を示す信号、及び前記高周波電源への指令信号と該指令信号に対する確認信号の立下がりの遅延時間を示す信号の少なくとも一つの状態信号を蓄積する、
    請求項1に記載の異常検知システム。
  3. 前記異常判定部は、前記高周波の進行波の電力の信号と、前記高周波の反射波の電力の信号と、前記高周波の進行波の電圧の信号と、前記整合器の整合位置の信号のそれぞれのピーク値、中央値及び平均値、及び前記高周波の進行波の電力の積算値の信号が示す電力積算値の少なくとも一つに基づき、前記高周波電源の異常の有無を判定する、
    請求項2に記載の異常検知システム。
  4. 前記異常判定部は、前記高周波電源への指令信号の数及び該指令信号に対する確認信号の数の少なくともいずれかに基づき、前記高周波電源の異常、前記整合器の異常又は該高周波電源と該整合器との間の配線の異常の有無を判定する、
    請求項2に記載の異常検知システム。
  5. 前記異常判定部は、前記高周波電源への指令信号と該指令信号に対する確認信号の立上がりの遅延時間の信号が示す遅延時間及び前記高周波電源への指令信号と該指令信号に対する確認信号の立下がり遅延時間の信号が示す遅延時間の少なくともいずれかに基づき、前記高周波電源の異常又は前記整合器の異常の有無を判定する、
    請求項2に記載の異常検知システム。
  6. 前記異常判定部が前記機器に異常があると判定した場合、該機器の状態信号のログ情報を記憶するログ記憶部を有する、
    請求項1〜5のいずれか一項に記載の異常検知システム。
  7. 前記基板処理装置は、ALD法により基板に成膜処理を行うALD装置である、
    請求項1〜6のいずれか一項に記載の異常検知システム。
  8. 基板処理装置に設けられた機器の状態信号に基づき、前記機器の異常の有無を判定する上位コントローラに接続され、前記機器を制御する制御ボードであって、
    前記機器の状態信号を、所定の周期における所定時間、所定のサンプリング間隔で収集、収集した該機器の状態信号を蓄積する記憶部と、
    前記上位コントローラが前記所定時間以上の時間間隔で発信するポーリングに応じて、蓄積した前記機器の状態信号を送信する通信部とを有する、
    制御ボード。
JP2016066052A 2016-03-29 2016-03-29 異常検知システム及び制御ボード Active JP6695190B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016066052A JP6695190B2 (ja) 2016-03-29 2016-03-29 異常検知システム及び制御ボード
CN201780021606.5A CN108884566B (zh) 2016-03-29 2017-03-15 异常探测系统和控制板
PCT/JP2017/010496 WO2017169804A1 (ja) 2016-03-29 2017-03-15 異常検知システム及び制御ボード
KR1020187028162A KR102220434B1 (ko) 2016-03-29 2017-03-15 이상 검지 시스템 및 제어 보드
US16/088,102 US11873560B2 (en) 2016-03-29 2017-03-15 Abnormality detection system and control board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016066052A JP6695190B2 (ja) 2016-03-29 2016-03-29 異常検知システム及び制御ボード

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017179425A true JP2017179425A (ja) 2017-10-05
JP6695190B2 JP6695190B2 (ja) 2020-05-20

Family

ID=59965331

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016066052A Active JP6695190B2 (ja) 2016-03-29 2016-03-29 異常検知システム及び制御ボード

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11873560B2 (ja)
JP (1) JP6695190B2 (ja)
KR (1) KR102220434B1 (ja)
CN (1) CN108884566B (ja)
WO (1) WO2017169804A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020172690A (ja) * 2019-04-11 2020-10-22 東京エレクトロン株式会社 処理装置および処理方法
WO2023238707A1 (ja) * 2022-06-09 2023-12-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、制御システム、および制御方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022120418A (ja) * 2021-02-05 2022-08-18 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理システム及び異常検知方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005057993A1 (ja) * 2003-11-27 2005-06-23 Daihen Corporation 高周波電力供給システム
JP2013168131A (ja) * 2012-01-16 2013-08-29 Tokyo Electron Ltd 処理装置及びバルブ動作確認方法
JP2013196822A (ja) * 2012-03-16 2013-09-30 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd プラズマ生成方法、この方法を用いた薄膜形成方法及びプラズマ生成装置
JP2015015282A (ja) * 2013-07-03 2015-01-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法およびプラズマ処理装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3349455B2 (ja) * 1998-09-30 2002-11-25 宮崎沖電気株式会社 半導体製造装置のための管理方法および管理システム
JP4754419B2 (ja) * 2006-07-03 2011-08-24 学校法人立命館 プラズマ異常放電診断方法、プラズマ異常放電診断システム及びコンピュータプログラム
JP5012701B2 (ja) * 2008-07-02 2012-08-29 パナソニック株式会社 プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置における放電状態監視方法
US8581153B2 (en) * 2008-09-30 2013-11-12 Tokyo Electron Limited Method of detecting abnormal placement of substrate, substrate processing method, computer-readable storage medium, and substrate processing apparatus
CN102856149A (zh) 2011-06-27 2013-01-02 东京毅力科创株式会社 异常检测装置和异常检测方法
US8790743B1 (en) * 2013-03-04 2014-07-29 Asm Ip Holding B.V. Method for controlling cyclic plasma-assisted process

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005057993A1 (ja) * 2003-11-27 2005-06-23 Daihen Corporation 高周波電力供給システム
JP2013168131A (ja) * 2012-01-16 2013-08-29 Tokyo Electron Ltd 処理装置及びバルブ動作確認方法
JP2013196822A (ja) * 2012-03-16 2013-09-30 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd プラズマ生成方法、この方法を用いた薄膜形成方法及びプラズマ生成装置
JP2015015282A (ja) * 2013-07-03 2015-01-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法およびプラズマ処理装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020172690A (ja) * 2019-04-11 2020-10-22 東京エレクトロン株式会社 処理装置および処理方法
JP7454915B2 (ja) 2019-04-11 2024-03-25 東京エレクトロン株式会社 処理装置および処理方法
WO2023238707A1 (ja) * 2022-06-09 2023-12-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、制御システム、および制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN108884566A (zh) 2018-11-23
US20200299841A1 (en) 2020-09-24
CN108884566B (zh) 2020-11-03
KR20180118728A (ko) 2018-10-31
KR102220434B1 (ko) 2021-02-24
JP6695190B2 (ja) 2020-05-20
US11873560B2 (en) 2024-01-16
WO2017169804A1 (ja) 2017-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102460199B1 (ko) 이상 검지 방법 및 반도체 제조 장치
WO2017169804A1 (ja) 異常検知システム及び制御ボード
US20030045007A1 (en) Method of monitoring and/or controlling a semiconductor manufacturing apparatus and a system therefor
TW201719749A (zh) 半導體製造設備中的可消耗零件之耗損偵測
US11462444B2 (en) Substrate container, controller, and abnormality detection method
TWI444835B (zh) A master controller for correcting the sampling phase, a semiconductor device, and a method for correcting the same
US7212950B2 (en) Methods and apparatus for equipment matching and characterization
CN101206496A (zh) 自动频率监视电路、电子装置、自动频率监视方法及程序
US8055368B2 (en) Control device and control method of plasma processing system, and storage medium storing control program
TW201719714A (zh) 用於低功率電壓模式操作之循環平均頻率的調諧
US10269605B2 (en) Processing system and processing program
KR20060120438A (ko) 플라즈마 공정의 비정상적 작동을 검출하는 방법
US9666417B2 (en) Plasma processing apparatus and method for monitoring plasma processing apparatus
CN112514042A (zh) 用于针对移动的工艺套件测量侵蚀并校准位置的方法和装置
US20230282465A1 (en) Systems and Methods for Analyzing and Intelligently Collecting Sensor Data
JP2007019431A (ja) 基板処理監視装置、基板処理監視システム、基板処理監視プログラム及び記録媒体
JP6415971B2 (ja) 基板処理装置、基板処理方法及び基板処理プログラムを記録した記録媒体
JP2009010370A (ja) 半導体処理装置
KR20230146449A (ko) 처리 데이터의 해석 방법, 및 정보 처리 장치
JP2024514105A (ja) プラズマシース特性を制御するためのシステムおよび方法
CN115812247A (zh) 晶片状态检测
KR20220106688A (ko) 플라스마 처리 장치의 이상 검지 방법 및 플라스마 처리 장치
TW202125570A (zh) 電漿處理裝置及電漿處理裝置的運轉方法
WO2011017716A2 (en) Seasoning plasma processing systems
JP2008288420A (ja) 半導体製造装置およびそのクリーニング方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191001

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191125

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200324

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200421

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6695190

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250