JP2017123453A - チップ抵抗素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一実施形態は、互いに反対に位置した第1及び第2面を有する絶縁基板と、上記絶縁基板の第1面に配置された抵抗層と、上記絶縁基板の第1面の両側にそれぞれ配置され、上記抵抗層に連結された第1及び第2内部電極と、上記抵抗層を覆い、上記第1及び第2内部電極の一部に延びた抵抗保護層と、上記抵抗保護層の一部と重なるように上記第1及び第2内部電極上にそれぞれ配置され、CuNi合金粉末と樹脂を含む電極保護層と、上記電極保護層を覆うように上記第1及び第2内部電極上に配置され、上記抵抗保護層に連結される第1及び第2外部電極と、を含む、チップ抵抗素子を提供する。
【選択図】図1
Description
図1と類似のチップ抵抗素子に第1及び第2電極保護層を本発明の条件にしたがって製造した。
電極保護層を形成せずに、Niメッキ及びSnメッキを連続して施すことで外部電極を形成したことを除き、実施例1と同様の方法によりチップ抵抗素子を製造した。
実施例1及び比較例によるチップ抵抗素子に対して、IBMより提案されたFosテストを行った。具体的に、105℃に維持されたオーブンにガラスデシケーター(glass desiccator)を入れ、その内部に所定の固体硫黄(S8)とともに実施例1及び比較例によるチップ抵抗素子を投入し、初期抵抗値に対する抵抗率の経時変化を測定した。
本実施形態で有益に採用されることができるCuNi合金に対して評価を行った。Cu/Niの比率(Ni含量:0wt%、20wt%、45wt%、80wt%、100wt%)を異ならせて、それぞれのサンプルのための合金粉末の耐硫化特性と比抵抗値を測定した。本実験では、上記条件による合金粉末をエポキシ樹脂10wt%とともに90wt%混合して電極保護層サンプルを製造した。
11 絶縁基板
12、13 第1及び第2内部電極
15 抵抗層
16 抵抗保護層
16a、16b 第1及び第2抵抗保護層
17 電極保護層
17a、17b 第1及び第2電極保護層
18、19 第1及び第2外部電極
Claims (15)
- 互いに反対に位置した第1及び第2面を有する絶縁基板と、
前記絶縁基板の第1面に配置された抵抗層と、
前記絶縁基板の第1面の両側にそれぞれ配置され、前記抵抗層に連結された第1及び第2内部電極と、
前記抵抗層を覆い、前記第1及び第2内部電極の一部に延びた抵抗保護層と、
前記抵抗保護層の一部と重なるように前記第1及び第2内部電極上にそれぞれ配置され、CuNi合金粉末と樹脂を含む電極保護層と、
前記電極保護層を覆うように前記第1及び第2内部電極上に配置され、前記抵抗保護層に連結される第1及び第2外部電極と、を含む、チップ抵抗素子。 - 前記CuNi合金粉末のNi重量比が20wt%以上である、請求項1に記載のチップ抵抗素子。
- 前記CuNi合金粉末は、前記電極保護層の全体重量を基準として80〜95wt%で含まれる、請求項1または2に記載のチップ抵抗素子。
- 前記CuNi合金粉末の平均粒度(d50)は2μm〜30μmの範囲である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のチップ抵抗素子。
- 前記電極保護層はカーボンナノチューブ(CNT)をさらに含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載のチップ抵抗素子。
- 前記カーボンナノチューブ(CNT)は0.2〜1.0wt%で含まれる、請求項5に記載のチップ抵抗素子。
- 前記カーボンナノチューブ(CNT)は、5μm〜20μmの範囲の長さ及び3nm〜20nmの範囲の直径を有する、請求項5または6に記載のチップ抵抗素子。
- 前記第1及び第2内部電極は銀(Ag)を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載のチップ抵抗素子。
- 前記抵抗保護層は、前記電極保護層の樹脂と同一の樹脂を含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載のチップ抵抗素子。
- 前記抵抗保護層は、
前記抵抗層上に配置され、ガラスを含有する第1抵抗保護層と、
前記第1抵抗保護層上に配置され、樹脂を含有する第2抵抗保護層と、を含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載のチップ抵抗素子。 - 前記第1及び第2内部電極はそれぞれ、前記絶縁基板の第1面に位置した上面電極と、前記絶縁基板の側面に位置した側面電極と、を含み、前記電極保護層は前記上面電極上に配置される、請求項1〜10のいずれか一項に記載のチップ抵抗素子。
- 前記第1及び第2外部電極はそれぞれ、ニッケル(Ni)を含有する第1メッキ層と、前記第1メッキ層上に配置され、Sn及びPbの少なくとも一つを含有する第2メッキ層と、を含む、請求項1〜11のいずれか一項に記載のチップ抵抗素子。
- 複数の電極パッドを有する回路基板と、
前記回路基板に配置されたチップ抵抗素子と、を含み、
前記チップ抵抗素子は、互いに反対に位置した第1及び第2面を有する絶縁基板と、前記絶縁基板の第1面に配置された抵抗層と、前記絶縁基板の第1面の両側にそれぞれ配置され、前記抵抗層に連結された第1及び第2内部電極と、前記抵抗層を覆い、前記第1及び第2内部電極の一部に延びた抵抗保護層と、前記抵抗保護層の一部と重なるように前記第1及び第2内部電極上にそれぞれ配置され、CuNi合金粉末と樹脂を含む電極保護層と、前記電極保護層を覆うように前記第1及び第2内部電極上に配置され、前記抵抗保護層に連結される第1及び第2外部電極と、を含み、
前記チップ抵抗素子の第1及び第2外部電極は、ボンディングメタルを介して前記複数の電極パッドに電気的に連結される、チップ抵抗素子アセンブリー。 - 前記CuNi合金粉末は、前記電極保護層の全体重量を基準として80〜95wt%で含まれ、前記CuNi合金粉末の平均粒度(d50)は2μm〜30μmの範囲である、請求項13に記載のチップ抵抗素子アセンブリー。
- 前記電極保護層は、前記電極保護層の全体重量を基準として0.2〜1.5wt%のカーボンナノチューブ(CNT)をさらに含む、請求項14に記載のチップ抵抗素子アセンブリー。
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