JP2017076658A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体装置100は、バンドギャップが異なる窒化物半導体層が積層されたヘテロ接合層7と、ヘテロ接合層7上の一部に設けられているp型窒化物半導体層14と、p型窒化物半導体層14上に設けられているポリシリコン層16と、ポリシリコン層16上に設けられているゲート電極18を備えている。ポリシリコン層16は、不純物を含んでいる。また、ポリシリコン層16は、p型窒化物半導体層14より高抵抗である。
【選択図】図1
Description
14:p型窒化物半導体層
16:ポリシリコン層
18:ゲート電極
100:半導体装置
Claims (4)
- バンドギャップが異なる窒化物半導体層が積層されたヘテロ接合層と、
前記ヘテロ接合層上の一部に設けられているp型窒化物半導体層と、
前記p型窒化物半導体層上に設けられているポリシリコン層と、
前記ポリシリコン層上に設けられているゲート電極と、を備え、
前記ポリシリコン層は、不純物を含んでおり、前記p型窒化物半導体層より高抵抗である、半導体装置。 - 前記ポリシリコン層に含まれる不純物の濃度が1×1014cm−3以上1×1017cm−3以下である請求項1に記載の半導体装置。
- 前記ゲート電極の材料がポリシリコンであり、
前記ゲート電極に不純物が1×1019cm−3以上含まれている請求項1又は2に記載の半導体装置。 - 前記p型窒化物半導体層に含まれるp型不純物の濃度が7×1018cm−3以上2×1019cm−3以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載の半導体装置。
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