JP2017066318A - ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物 - Google Patents
ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017066318A JP2017066318A JP2015195607A JP2015195607A JP2017066318A JP 2017066318 A JP2017066318 A JP 2017066318A JP 2015195607 A JP2015195607 A JP 2015195607A JP 2015195607 A JP2015195607 A JP 2015195607A JP 2017066318 A JP2017066318 A JP 2017066318A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polysiloxane
- block copolymer
- electrode layer
- polyrotaxane
- cured film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 43
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 65
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 63
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 42
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 12
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 12
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 6
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 6
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 229940097362 cyclodextrins Drugs 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 4
- VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(dodecylsulfanylmethyl)-6-methylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCSCC1=CC(C)=C(O)C(CSCCCCCCCCCCCC)=C1 VTFXHGBOGGGYDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 3
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical group C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCCC(CN=C=O)C1 XSCLFFBWRKTMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OALHHIHQOFIMEF-UHFFFAOYSA-N 3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodo-3h-spiro[2-benzofuran-1,9'-xanthene]-3-one Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 OALHHIHQOFIMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001450 Alpha-Cyclodextrin Polymers 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N alpha-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO HFHDHCJBZVLPGP-RWMJIURBSA-N 0.000 description 2
- 229940043377 alpha-cyclodextrin Drugs 0.000 description 2
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- WHIVNJATOVLWBW-SNAWJCMRSA-N methylethyl ketone oxime Chemical compound CC\C(C)=N\O WHIVNJATOVLWBW-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 150000003220 pyrenes Chemical class 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001116 FEMA 4028 Substances 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N beta-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO WHGYBXFWUBPSRW-FOUAGVGXSA-N 0.000 description 1
- 235000011175 beta-cyclodextrine Nutrition 0.000 description 1
- 229960004853 betadex Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical compound COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- MSBXTPRURXJCPF-DQWIULQBSA-N cucurbit[6]uril Chemical compound N1([C@@H]2[C@@H]3N(C1=O)CN1[C@@H]4[C@@H]5N(C1=O)CN1[C@@H]6[C@@H]7N(C1=O)CN1[C@@H]8[C@@H]9N(C1=O)CN([C@H]1N(C%10=O)CN9C(=O)N8CN7C(=O)N6CN5C(=O)N4CN3C(=O)N2C2)C3=O)CN4C(=O)N5[C@@H]6[C@H]4N2C(=O)N6CN%10[C@H]1N3C5 MSBXTPRURXJCPF-DQWIULQBSA-N 0.000 description 1
- 150000003950 cyclic amides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- GDSRMADSINPKSL-HSEONFRVSA-N gamma-cyclodextrin Chemical compound OC[C@H]([C@H]([C@@H]([C@H]1O)O)O[C@H]2O[C@@H]([C@@H](O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O[C@H]3O[C@H](CO)[C@H]([C@@H]([C@H]3O)O)O3)[C@H](O)[C@H]2O)CO)O[C@@H]1O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]3O[C@@H]1CO GDSRMADSINPKSL-HSEONFRVSA-N 0.000 description 1
- 229940080345 gamma-cyclodextrin Drugs 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001921 poly-methyl-phenyl-siloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000921 polyethylene adipate Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003431 steroids Chemical class 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
- C08L101/02—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
- C08L101/06—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups containing oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/10—Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L1/00—Compositions of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
- C08L1/08—Cellulose derivatives
- C08L1/26—Cellulose ethers
- C08L1/28—Alkyl ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/445—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G83/00—Macromolecular compounds not provided for in groups C08G2/00 - C08G81/00
- C08G83/007—Polyrotaxanes; Polycatenanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L71/02—Polyalkylene oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
- H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/50—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/50—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure
- H10N30/506—Piezoelectric or electrostrictive devices having a stacked or multilayer structure having a cylindrical shape and having stacking in the radial direction, e.g. coaxial or spiral type rolls
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/80—Constructional details
- H10N30/85—Piezoelectric or electrostrictive active materials
- H10N30/857—Macromolecular compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2203/00—Applications
- C08L2203/16—Applications used for films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
- C08L2205/025—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group containing two or more polymers of the same hierarchy C08L, and differing only in parameters such as density, comonomer content, molecular weight, structure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/03—Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend
- C08L2205/035—Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend containing four or more polymers in a blend
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Insulating Bodies (AREA)
Abstract
【課題】ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物において、水分子を混入しにくくして、加水分解反応の発生を抑制し、耐湿性を向上させる。
【解決手段】ポリロタキサンを含む組成物は、環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサン（Ａ）、ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）、及びポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）を有する。同組成物からなる硬化体は、複数のポリロタキサン（Ａ）の環状分子間が架橋部で結合され、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）である。電極層付誘電体シートは、同硬化体からなる硬化膜が誘電体として用いられ、同硬化膜の両面にそれぞれ電極層が付けられてなる。アクチュエータは、同電極層付誘電体シートが用いられたものである。
【選択図】図１
【解決手段】ポリロタキサンを含む組成物は、環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサン（Ａ）、ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）、及びポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）を有する。同組成物からなる硬化体は、複数のポリロタキサン（Ａ）の環状分子間が架橋部で結合され、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）である。電極層付誘電体シートは、同硬化体からなる硬化膜が誘電体として用いられ、同硬化膜の両面にそれぞれ電極層が付けられてなる。アクチュエータは、同電極層付誘電体シートが用いられたものである。
【選択図】図１
Description
本発明は、ポリロタキサンを含む組成物及びそれを用いた硬化体、硬化膜、電極層付誘電体シート、アクチュエータ等の利用物に関するものである。
ポリロタキサンは、環状分子に直鎖状分子が相対スライド可能に貫通し、直鎖状分子の両末端に配された封鎖基により環状分子が脱離しない構造の分子集合体であり、スライドリングマテリアルと称されている。環状分子と直鎖状分子はそれぞれ種々のものが知られているが、環状分子としてシクロデキストリン、直鎖状分子としてポリエチレングリコールが用いられることが多い（特許文献１）。
特許文献２は、環状分子を介して架橋したポリロタキサンを開示する。その架橋部に繰り返し単位を１０以上有するか、及び／又は数平均分子量が１０００以上であり、且つ溶媒を含まないことを特徴とする。架橋部位としてポリシロキサンのホモポリマーを例示しているが、詳細の構造と効果についての記載はない。
特許文献３は、弾性を有する誘電体層の両面にそれぞれ電極層が設けられてなる誘電体シートを渦巻き状にロールさせて円筒状とし、その電極への電圧の印加及び解除によって誘電層を伸縮させることにより作動するアクチュエータを開示する。また、その誘電層にポリロタキサンを使用すると、低歪み領域でのヤング率が高歪み領域でのヤング率よりも小さくなることも開示する。しかしながら、ポリロタキサン自体については、環状分子としてα−シクロデキストリン、直鎖状分子としてポリエチレングリコールを用いたものを例示するだけで、それ以上の開示はない。
上述のとおり、ポリロタキサンはシクロデキストリンとポリエチレングリコールを用いたものが多く用いられ、特許文献３のアクチュエータの誘電層にも同ポリロタキサンが実施例として用いられている。しかし、アクチュエータは、高電圧条件下で使用するため、誘電層の材料中に誘電率の異なる気泡や水分子が混入していると、絶縁性能が低下しやすい。特に、シクロデキストリンとポリエチレングリコールは吸水性が高いため、加水分解反応等で、絶縁性能が低下する問題があった。
そこで、本発明の目的は、ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物において、水分子を混入しにくくして、加水分解反応等の発生を抑制し、耐湿性を向上させるとともに、高誘電率と低弾性を得ることにある。
耐湿性を向上させるには、疎水性の高いシリコーンを材料に配合する方法が一般的である。そこで、本発明者らは試験的に、ポリロタキサンに、オリゴマーのシリコーンを添加してみた。その結果、同シリコーンの添加量が１．５質量％以上になると、ポリロタキサンとシリコーンとの相溶性が低いため、ポリロタキサンとシリコーンが相分離して膜化に支障をきたすこと、また、同シリコーンの添加量が相分離しない程度の少量では、耐湿性向上にはつながらないことが分かった。
続いて、本発明者らは、ポリロタキサンの特有な構造体に注目し、特定の構造体を有するポリシロキサンと、シロキサンを含有しない重合体を組み合わせることにより、相溶性、均一性が優れた熱硬化性組成物を得ることができ、且つその硬化した硬化膜には、柔軟性を有しながら優れた電気特性を発現することを見出し、次の本発明に到った。
［１］ポリロタキサンを含む組成物の発明
本発明のポリロタキサンを含む組成物は、環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサン（Ａ）、ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）、及びポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）を有することを特徴とする。
本発明のポリロタキサンを含む組成物は、環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサン（Ａ）、ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）、及びポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）を有することを特徴とする。
（同発明の作用）
本発明によれば、複数のポリロタキサン（Ａ）のシクロデキストリン間が架橋部で結合される際、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）となるので、ポリシロキサン（シリコーン成分）の高含有が可能になる。その高含有のシリコーン成分により、硬化体（架橋体）が疎水化することで、水分子が混入しにくくなり、加水分解反応等の発生が抑制され、耐湿性が向上する。また、ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）は、ポリロタキサンとの相溶性が高く、これを含むことで高誘電率と低弾性を実現することができる。
本発明によれば、複数のポリロタキサン（Ａ）のシクロデキストリン間が架橋部で結合される際、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）となるので、ポリシロキサン（シリコーン成分）の高含有が可能になる。その高含有のシリコーン成分により、硬化体（架橋体）が疎水化することで、水分子が混入しにくくなり、加水分解反応等の発生が抑制され、耐湿性が向上する。また、ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）は、ポリロタキサンとの相溶性が高く、これを含むことで高誘電率と低弾性を実現することができる。
上記ポリロタキサン（Ａ）は、種々の有機溶媒に溶化できるよう、シクロデキストリンの水酸基の少なくとも一部がグラフト鎖を有する置換基で置換されたものであることが好ましい。上記グラフト鎖は、ポリロタキサン（Ａ）との相溶性の点から、ラクトンモノマーの開環重合からなるものであることが好ましい。
上記ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）は、末端にブロックイソシアネート基を有するものであることが好ましい。熱反応によりブロック剤が乖離したイソシアネート基が、溶媒レスの状態でシクロデキストリンの水酸基又は上記置換基のグラフト鎖と反応してほしいためである。
上記ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）は、ポリエステル−ポリシロキサンのブロック共重合であることが好ましい。末端にポリエステルによる修飾を行うことにより、ポリシロキサン（シリコーン成分）の相溶性が向上するからである。さらに、上記ポリエステル−ポリシロキサンブロック共重合体は、ポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサンブロック共重合体であることが好ましい。同相溶性の向上効果が高いからである。
上記ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）は、末端にブロックイソシアネート基を有するものであることが好ましい。熱反応によりブロック剤が乖離したイソシアネート基が、溶媒レスの状態でシクロデキストリンの水酸基又は上記置換基のグラフト鎖と反応してほしいためである。上記ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）は、ポリエーテル及びポリエステルから選択された少なくとも一種の共重合体であることが好ましい。
［２］硬化体の発明
上記［１］の発明及びその好ましい例に係る組成物からなる硬化体であって、複数のポリロタキサン（Ａ）の環状分子間が架橋部で結合され、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）である硬化体。
上記［１］の発明及びその好ましい例に係る組成物からなる硬化体であって、複数のポリロタキサン（Ａ）の環状分子間が架橋部で結合され、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）である硬化体。
［３］硬化膜の発明
上記［２］の発明に係る硬化体からなる硬化膜。
上記［２］の発明に係る硬化体からなる硬化膜。
［４］電極層付誘電体シートの発明
上記［３］の硬化膜が誘電体として用いられ、同硬化膜の両面にそれぞれ電極層が付けられてなる電極層付誘電体シート。
上記［３］の硬化膜が誘電体として用いられ、同硬化膜の両面にそれぞれ電極層が付けられてなる電極層付誘電体シート。
作製直後の硬化膜に電極層を付けられてなる電極層付誘電体シートの常温常湿における絶縁破壊電界強度に対し、温度６０℃、相対湿度９０％の環境下に５００時間おいた後の電極層付誘電体シートの常温常湿における絶縁破壊電界強度が９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることがより好ましい。高湿下での耐湿性を満足できるからである。
［５］アクチュエータの発明
上記［４］の発明及びその好ましい例に係る電極層付誘電体シートが用いられたアクチュエータ。
上記［４］の発明及びその好ましい例に係る電極層付誘電体シートが用いられたアクチュエータ。
本発明によれば、ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物において、水分子が混入しにくくなり、加水分解反応等の発生が抑制され、耐湿性が向上するとともに、高誘電率と低弾性を得ることができる。
［１］ポリロタキサンを含む組成物
（ａ）ポリロタキサン（Ａ）
環状分子に含有されるシクロデキストリンとしては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンを例示できる。シクロデキストリンの−ＯＨ基の一部を、他の基、例えば−ＳＨ、−ＮＨ2、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＰＯ4Ｈ等で置換してもよいし、上記のとおり、グラフト鎖（例えばラクトンモノマーの開環重合からなるグラフト鎖）を有する置換基で置換してもよい。環状分子には、シクロデキストリンとともに、他の環状分子が含有されていてもよい。他の環状分子としては、クラウンエーテル、シクロファン、カリックスアレーン、ククルビットウリル、環状アミド等を例示できる。
（ａ）ポリロタキサン（Ａ）
環状分子に含有されるシクロデキストリンとしては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンを例示できる。シクロデキストリンの−ＯＨ基の一部を、他の基、例えば−ＳＨ、−ＮＨ2、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＰＯ4Ｈ等で置換してもよいし、上記のとおり、グラフト鎖（例えばラクトンモノマーの開環重合からなるグラフト鎖）を有する置換基で置換してもよい。環状分子には、シクロデキストリンとともに、他の環状分子が含有されていてもよい。他の環状分子としては、クラウンエーテル、シクロファン、カリックスアレーン、ククルビットウリル、環状アミド等を例示できる。
直鎖状分子には、ポリエチレングリコールとともに、他の直鎖状分子が含有されていてもよい。他の直鎖状分子としては、特に限定されないが、ポリ乳酸、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリプロピレングリコール、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール及びポリビニルメチルエーテル等を例示できる。
封鎖基としては、特に限定されないが、ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類、ピレン類、置換ベンゼン類（置換基として、アルキル、アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、スルホニル、カルボキシル、アミノ、フェニルなどを例示できる。置換基は１つ又は複数存在してもよい。）、置換されていてもよい多核芳香族類（置換基として、上記と同じものを例示できる。置換基は１つ又は複数存在してもよい。）、及びステロイド類等を例示できる。ジニトロフェニル基類、シクロデキストリン類、アダマンタン基類、トリチル基類、フルオレセイン類、及びピレン類からなる群から選ばれるのが好ましく、より好ましくはアダマンタン基類又はトリチル基類である。
（ｂ）ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）
ポリシロキサンとしては、特に限定されないが、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、側鎖の一部が変性したポリジメチルシロキサンなどを例示できる。
ポリシロキサンを含有するブロック共重合体としては、特に限定されないが、ポリカプロラクトン-ポリシロキサンブロック共重合体、ポリアジペート-ポリシロキサンブロック共重合体、ポリエチレングリコール-ポリシロキサンブロック共重合体などを例示できる。
ポリシロキサンを含有するブロック共重合体として好ましいものは、上記手段の項で説明したとおりである。
ポリシロキサンとしては、特に限定されないが、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、側鎖の一部が変性したポリジメチルシロキサンなどを例示できる。
ポリシロキサンを含有するブロック共重合体としては、特に限定されないが、ポリカプロラクトン-ポリシロキサンブロック共重合体、ポリアジペート-ポリシロキサンブロック共重合体、ポリエチレングリコール-ポリシロキサンブロック共重合体などを例示できる。
ポリシロキサンを含有するブロック共重合体として好ましいものは、上記手段の項で説明したとおりである。
（ｃ）ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）
ポリシロキサンを含有しない重合体としては、特に限定されないが、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカーボネート、ポリカプロラクトン、ポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、これらの共重合体などを例示できる。
ポリシロキサンを含有しない重合体として好ましいものは、上記手段の項で説明したとおりである。
ポリシロキサンを含有しない重合体としては、特に限定されないが、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカーボネート、ポリカプロラクトン、ポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、これらの共重合体などを例示できる。
ポリシロキサンを含有しない重合体として好ましいものは、上記手段の項で説明したとおりである。
［２］硬化体
硬化体の形状としては、特に限定されないが、線状、短冊状、膜状（上記硬化膜）、リング状、棒状、塊状等を例示できる。硬化体の寸法は、特に限定されない。
硬化体の形状としては、特に限定されないが、線状、短冊状、膜状（上記硬化膜）、リング状、棒状、塊状等を例示できる。硬化体の寸法は、特に限定されない。
［３］硬化膜
硬化膜の寸法は、特に限定されない。アクチュエータ用の硬化膜の場合、硬化膜の厚さは０．０２〜０．１ｍｍが好ましい。０．０２ｍｍ未満だと、成形品のハジキが発生する。０．１ｍｍを超えると、変形しづらい。
硬化膜の寸法は、特に限定されない。アクチュエータ用の硬化膜の場合、硬化膜の厚さは０．０２〜０．１ｍｍが好ましい。０．０２ｍｍ未満だと、成形品のハジキが発生する。０．１ｍｍを超えると、変形しづらい。
［４］電極層付誘電体シート
電極層としては、特に限定されないが、硬化膜の両面に、白金やカーボン等の導電性粒子が分散されているシリコーンや天然ゴム等の導電性高分子液を塗布し硬化させることにより形成した伸縮性のある電極層を例示できる。
電極層付誘電体シートの物性として好ましいものは、上記手段の項で説明したとおりである。
電極層としては、特に限定されないが、硬化膜の両面に、白金やカーボン等の導電性粒子が分散されているシリコーンや天然ゴム等の導電性高分子液を塗布し硬化させることにより形成した伸縮性のある電極層を例示できる。
電極層付誘電体シートの物性として好ましいものは、上記手段の項で説明したとおりである。
［５］アクチュエータ
アクチュエータにおける電極層付誘電体シートの用い方としては、特に限定されないが、電極層付誘電体シートを渦巻き状に複数回（例えば６回）ロールさせて円筒状としたものや、電極層付誘電体シートを波状に湾曲させて折り畳んだカーテン状としたもの等を例示できる。
アクチュエータにおける電極層付誘電体シートの用い方としては、特に限定されないが、電極層付誘電体シートを渦巻き状に複数回（例えば６回）ロールさせて円筒状としたものや、電極層付誘電体シートを波状に湾曲させて折り畳んだカーテン状としたもの等を例示できる。
以下、本発明を具体化したポリロタキサンを含む組成物及びその利用物の実施例について、次の順に説明する。なお、本発明は本実施例に限定されるものではない。
＜１＞ポリロタキサン（Ａ）の作製
＜２＞ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）の作製
＜３＞ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）の作製
＜４＞組成物の作製
＜５＞硬化膜の作製
＜６＞硬化膜の物性測定
＜７＞物性測定用の電極層付誘電体シートの作製と物性測定
＜８＞アクチュエータ用の電極層付誘電体シートの作製
＜９＞アクチュエータの作製
＜１＞ポリロタキサン（Ａ）の作製
＜２＞ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）の作製
＜３＞ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）の作製
＜４＞組成物の作製
＜５＞硬化膜の作製
＜６＞硬化膜の物性測定
＜７＞物性測定用の電極層付誘電体シートの作製と物性測定
＜８＞アクチュエータ用の電極層付誘電体シートの作製
＜９＞アクチュエータの作製
＜１＞ポリロタキサンＡの作製
まず、環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサンとして、国際公開第２００５／０８０４６９号（特許文献１）に開示された、ヒドロキシプロピル基で修飾されたポリロタキサン（以下、「ＨＡＰＲ」と略記することがある。）を調製した。
まず、環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサンとして、国際公開第２００５／０８０４６９号（特許文献１）に開示された、ヒドロキシプロピル基で修飾されたポリロタキサン（以下、「ＨＡＰＲ」と略記することがある。）を調製した。
次に、溶化性や相溶性を得るため、以下の方法で、カプロラクトン基を有するポリロタキサンを作製した。上記ＨＡＰＲ １０ｇを三口フラスコに入れ、窒素をゆっくり流しながら、ε−カプロラクトン４５ｇを導入した。１００℃、３０分間メカニカル撹拌機によって均一に撹拌した後、反応温度を１３０℃まで上げ、予めトルエンで薄めた２−エチルヘキサン酸スズ（５０ｗｔ％溶液）０．３２ｇを添加し、５時間反応させ、溶媒を除去し、カプロラクトン基を有するポリロタキサン（以下、「ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬ」と略記することがある。）Ａ ５５ｇを得た。同ポリロタキサン（ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬ）Ａの構造を、図１の一段目に模式的に示す。また、ＧＰＣにより、重量平均分子量Ｍｗ：５８０，０００、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ：１．５を確認した。
＜２＞ポリシロキサンを含有するブロック共重合体Ｂの作製
次の２段階で行った。
次の２段階で行った。
＜２−１＞ポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン−ポリカプロラクトンのブロック共重合体Ｂ'の作製
両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサン（１００ｇ）とε−カプロラクトン（２００ｇ）を５００ｍｌの三口ナスフラスコに加えた後、１１０℃のオイルバス中で窒素気流化、２時間撹拌した。この溶液に２−エチルヘキサン酸スズ（２００ｍｇ）を加えた後、１３０℃のオイルバス中で窒素気流化、６時間撹拌してポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）−ポリカプロラクトンのブロック共重合体Ｂ'を得た。このブロック共重合体Ｂ'の構造を、図１の二段目に模式的に示す。
両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサン（１００ｇ）とε−カプロラクトン（２００ｇ）を５００ｍｌの三口ナスフラスコに加えた後、１１０℃のオイルバス中で窒素気流化、２時間撹拌した。この溶液に２−エチルヘキサン酸スズ（２００ｍｇ）を加えた後、１３０℃のオイルバス中で窒素気流化、６時間撹拌してポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）−ポリカプロラクトンのブロック共重合体Ｂ'を得た。このブロック共重合体Ｂ'の構造を、図１の二段目に模式的に示す。
＜２−２＞末端ブロックイソシアネート基を有するポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン−ポリカプロラクトンのブロック共重合体Ｂの作製
三口ナスフラスコにタケネート６００（３１．６ｇ、三井化学製）を加えた後、８０℃のオイルバス中で窒素気流化撹拌した。この溶液にトルエン（１５２．６９ｇ）に溶解させた上記ポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン−ポリカプロラクトンのブロック共重合体Ｂ'（１５２．６９ｇ）溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、室温まで液温を低下させた後、２−ブタノンオキシム（２２．８７ｇ）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温下で更に３時間撹拌して末端ブロックイソシアネート基を有するポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン−ポリカプロラクトンのブロック共重合体Ｂを得た。このブロック共重合体Ｂの構造を、図１の三段目に模式的に示す。
三口ナスフラスコにタケネート６００（３１．６ｇ、三井化学製）を加えた後、８０℃のオイルバス中で窒素気流化撹拌した。この溶液にトルエン（１５２．６９ｇ）に溶解させた上記ポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン−ポリカプロラクトンのブロック共重合体Ｂ'（１５２．６９ｇ）溶液を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、室温まで液温を低下させた後、２−ブタノンオキシム（２２．８７ｇ）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温下で更に３時間撹拌して末端ブロックイソシアネート基を有するポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン−ポリカプロラクトンのブロック共重合体Ｂを得た。このブロック共重合体Ｂの構造を、図１の三段目に模式的に示す。
＜３＞ポリシロキサンを含有しない重合体Ｃの作製
三口ナスフラスコにタケネート６００（９１．５７ｇ、三井化学製）を加えた後、８０℃のオイルバス中で窒素気流化撹拌した。この溶液にポリプロピレングリコール７００、ジオール型（１１０ｇ）を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、室温まで液温を低下させた後、２−ブタノンオキシム（７６．５８ｇ）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温下で更に８時間撹拌して末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールＣを得た。このポリプロピレングリコールＣの構造を、図１の四段目に模式的に示す。
三口ナスフラスコにタケネート６００（９１．５７ｇ、三井化学製）を加えた後、８０℃のオイルバス中で窒素気流化撹拌した。この溶液にポリプロピレングリコール７００、ジオール型（１１０ｇ）を２時間かけてゆっくりと滴下した後、更に２時間撹拌した。反応後、室温まで液温を低下させた後、２−ブタノンオキシム（７６．５８ｇ）を液温が６０℃以上にならないようにゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温下で更に８時間撹拌して末端ブロックイソシアネート基を有するポリプロピレングリコールＣを得た。このポリプロピレングリコールＣの構造を、図１の四段目に模式的に示す。
＜４＞組成物の作製
上記のポリロタキサン（ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬ）Ａ、上記ポリシロキサンを含有するブロック共重合体Ｂ、上記ポリシロキサンを含有しない重合体Ｃ、及びその他の成分により、次の表１に示す配合（配合数値は質量部）で、実施例１，２，３の組成物を作製した。また、上記ブロック共重合体Ｂを用いない比較例１と、同じく上記ブロック共重合体Ｂを用いない変わりにＰＤＭＳジオールを用いた比較例の組成物も作製した。
上記のポリロタキサン（ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬ）Ａ、上記ポリシロキサンを含有するブロック共重合体Ｂ、上記ポリシロキサンを含有しない重合体Ｃ、及びその他の成分により、次の表１に示す配合（配合数値は質量部）で、実施例１，２，３の組成物を作製した。また、上記ブロック共重合体Ｂを用いない比較例１と、同じく上記ブロック共重合体Ｂを用いない変わりにＰＤＭＳジオールを用いた比較例の組成物も作製した。
なお、脱保護用触媒として、ジラウリル酸ジブチルスズを用いた。また、シリコン添加剤として、ＧＥＬＥＳＴ社製「ＤＢＬ−Ｃ３１」（両末端アルコール変性シリコーン：カプロラクトン-ジメチルシロキサン-カプロラクトンブロックコポリマー）を用いた。また、酸化防止剤として、ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６」（２，４−ビス（ドデシルチオメチル）−６−メチルフェノール）を用いた。
上記Ａ、Ｂ、Ｃが含有された架橋剤溶液を、上記溶媒に溶解させ、攪拌して均一溶液とし、この溶液に上記ジラウリル酸ジブチルスズ、ＤＢＬ−Ｃ３１、ＩＲＧＡＮＯＸ１７２６を加え、さらに攪拌して組成物の均一溶液を作製した。
＜５＞硬化膜（架橋体）の作製
上記＜４＞で作製した組成物の溶液を、よく脱泡してから、ポリプロピレンシートにスリットダイコータ法により塗布した後、１３０℃のオーブン内に減圧条件下で５時間おいて硬化させ、ポリプロピレンシートより剥離し、厚さ０．０５ｍｍの硬化膜を作製した。硬化膜は、赤外分光法により、ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬのＯＨ基に由来するピークの減少から、ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬのＯＨ基が、末端ブロックイソシアネート基を有するポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン−ポリカプロラクトンのブロック共重合体のイソシアネート基と反応し、架橋が形成されたことを確認した。 硬化膜は、その面に沿う方向へ弾性変形する伸縮性を備えていた。この硬化膜の構造を、図２に模式的に示す。
上記＜４＞で作製した組成物の溶液を、よく脱泡してから、ポリプロピレンシートにスリットダイコータ法により塗布した後、１３０℃のオーブン内に減圧条件下で５時間おいて硬化させ、ポリプロピレンシートより剥離し、厚さ０．０５ｍｍの硬化膜を作製した。硬化膜は、赤外分光法により、ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬのＯＨ基に由来するピークの減少から、ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬのＯＨ基が、末端ブロックイソシアネート基を有するポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサン−ポリカプロラクトンのブロック共重合体のイソシアネート基と反応し、架橋が形成されたことを確認した。 硬化膜は、その面に沿う方向へ弾性変形する伸縮性を備えていた。この硬化膜の構造を、図２に模式的に示す。
＜６＞硬化膜の物性測定
上記＜５＞で作製した硬化膜（架橋体）の作製直後のものと、温度６０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％の環境下に１００時間おいた後のものと、同環境下に５００時間おいた後のものについて、以下の方法で常温常湿における絶縁破壊電界強度を測定した。測定値を上記の表１に示す。
図３に示すように、設置側の円板電極２１に硬化膜１を貼り付け、硬化膜１に円柱電極２２を載せ、この際に硬化膜１と各電極２１，２２との間に空気泡が極力残らないように留意し、さらに真空装置により脱気処理した。これを常温常湿下で絶縁破壊測定器にセットし、電源装置２３により電極２１，２２間に昇圧速度１０Ｖ／０．１秒で上昇するよう電圧を印加した。そして、電流が実質的に流れない絶縁状態を経て、電流が１．２μＡ以上となった時点の電圧から絶縁破壊電界強度（Ｖ／μｍ）を求めた。常温とは２０±１５℃であり、常湿とは６５±２０％である（ＪＩＳ−８７０３、本明細書において同じ）。
上記＜５＞で作製した硬化膜（架橋体）の作製直後のものと、温度６０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％の環境下に１００時間おいた後のものと、同環境下に５００時間おいた後のものについて、以下の方法で常温常湿における絶縁破壊電界強度を測定した。測定値を上記の表１に示す。
図３に示すように、設置側の円板電極２１に硬化膜１を貼り付け、硬化膜１に円柱電極２２を載せ、この際に硬化膜１と各電極２１，２２との間に空気泡が極力残らないように留意し、さらに真空装置により脱気処理した。これを常温常湿下で絶縁破壊測定器にセットし、電源装置２３により電極２１，２２間に昇圧速度１０Ｖ／０．１秒で上昇するよう電圧を印加した。そして、電流が実質的に流れない絶縁状態を経て、電流が１．２μＡ以上となった時点の電圧から絶縁破壊電界強度（Ｖ／μｍ）を求めた。常温とは２０±１５℃であり、常湿とは６５±２０％である（ＪＩＳ−８７０３、本明細書において同じ）。
＜７＞物性測定用の電極層付誘電体シートの作製と物性測定
図４（ａ）に示すように、上記＜５＞で作製直後の硬化膜１の両面に、それぞれ直径２０ｍｍの穴が空いたマスク（図示略）を当てがい、各穴内の両面にカーボン粒子を分散させたシリコンゴムの有機溶媒溶液をスプレー塗布して架橋硬化させることにより、厚さ０．０２ｍｍの電極層２，３を形成し、物性測定用の電極層付誘電体シート４’を作製した。そして、電極層２，３を形成した直後の電極層付誘電体シート４’と、同じく電極層２，３を形成してから温度６０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％の環境下に５００時間おいた後の電極層付誘電体シート４’について、以下の方法で常温常湿における絶縁破壊電界強度測定した。測定値を上記表１に示す。
図４（ｂ）に示すように、穴２４のあるポリカーボネート性の基板２５を用意し、電極層２，３を穴２４の内側に位置させて、同電極周囲の硬化膜１を基板２５に接着剤で接着した。電源装置２３により電極層２，３間に昇圧速度１０Ｖ／０．１秒で上昇するよう電圧を印加した。そして、上記＜６＞と同様にして絶縁破壊電界強度（Ｖ／μｍ）を求めた。
図４（ａ）に示すように、上記＜５＞で作製直後の硬化膜１の両面に、それぞれ直径２０ｍｍの穴が空いたマスク（図示略）を当てがい、各穴内の両面にカーボン粒子を分散させたシリコンゴムの有機溶媒溶液をスプレー塗布して架橋硬化させることにより、厚さ０．０２ｍｍの電極層２，３を形成し、物性測定用の電極層付誘電体シート４’を作製した。そして、電極層２，３を形成した直後の電極層付誘電体シート４’と、同じく電極層２，３を形成してから温度６０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％の環境下に５００時間おいた後の電極層付誘電体シート４’について、以下の方法で常温常湿における絶縁破壊電界強度測定した。測定値を上記表１に示す。
図４（ｂ）に示すように、穴２４のあるポリカーボネート性の基板２５を用意し、電極層２，３を穴２４の内側に位置させて、同電極周囲の硬化膜１を基板２５に接着剤で接着した。電源装置２３により電極層２，３間に昇圧速度１０Ｖ／０．１秒で上昇するよう電圧を印加した。そして、上記＜６＞と同様にして絶縁破壊電界強度（Ｖ／μｍ）を求めた。
＜８＞アクチュエータ用の電極層付誘電体シートの作製
上記＜５＞で作製した伸縮性の硬化膜を用いて、特許第５２４７１２３号公報（特許文献３）に開示された構造のアクチュエータに用いる電極層付誘電体シートを作製した。
図５に示すように、上記厚さ０．０５ｍｍの硬化膜１の両面に、上記＜７＞と同様のカーボン粒子を分散させたシリコンゴムの有機溶媒溶液をスリットダイコータ法により塗布して架橋硬化させることにより、厚さ０．０２ｍｍの伸縮性のある電極層２，３を形成し、さらに電極層２，３を伸縮性のある絶縁層（図示略）で覆って、伸縮性のある電極層付誘電体シート４を作製した。この電極層付誘電体シート４が後述するアクチュエータ１０に用いられたとき、一方の電極層２にはプラス側が接続され、他方の電極層３にはマイナス側が接続される。電極層付誘電体シート４は、誘電体層である硬化膜１が、電極層２，３への電圧印加に応じてその面に沿う方向へ弾性的に伸長変形し、電圧印加の停止に応じて元の状態に復元することにより、往復運動する。
上記＜５＞で作製した伸縮性の硬化膜を用いて、特許第５２４７１２３号公報（特許文献３）に開示された構造のアクチュエータに用いる電極層付誘電体シートを作製した。
図５に示すように、上記厚さ０．０５ｍｍの硬化膜１の両面に、上記＜７＞と同様のカーボン粒子を分散させたシリコンゴムの有機溶媒溶液をスリットダイコータ法により塗布して架橋硬化させることにより、厚さ０．０２ｍｍの伸縮性のある電極層２，３を形成し、さらに電極層２，３を伸縮性のある絶縁層（図示略）で覆って、伸縮性のある電極層付誘電体シート４を作製した。この電極層付誘電体シート４が後述するアクチュエータ１０に用いられたとき、一方の電極層２にはプラス側が接続され、他方の電極層３にはマイナス側が接続される。電極層付誘電体シート４は、誘電体層である硬化膜１が、電極層２，３への電圧印加に応じてその面に沿う方向へ弾性的に伸長変形し、電圧印加の停止に応じて元の状態に復元することにより、往復運動する。
＜９＞アクチュエータの作製
上記＜８＞で作製した電極層付誘電体シート４を、図６（ａ）に示すように、渦巻き状に複数回（図示例では６回）ロールさせて円筒状とし、電極層付誘電体シート４の中心線方向両端部の内周面にそれぞれナット５，６を固定するとともに、電極層付誘電体シート４の内部にコイルスプリング７をその弾性力によりナット５，６が互いに離れる方向に付勢されるように配置して、アクチュエータ１０を作製した。従って、アクチュエータ１０は、電極層付誘電体シート４の中心線方向に伸びるようコイルスプリング７の弾性力により付勢されていることになる。そして、アクチュエータ１０は、電極層２，３へ電圧印加すると、前述したとおり電極層付誘電体シート４が弾性的に伸長変形することにより、図６（ａ）から（ｂ）の変化で示すように伸長し、電圧印加を停止すると、前述したとおり電極層付誘電体シート４が復元することにより、図６（ａ）に示すように元の状態に戻る。アクチュエータ１０は、この変位量を、ナット５，６に接続した被駆動体（図示略）の駆動に利用するものである。
上記＜８＞で作製した電極層付誘電体シート４を、図６（ａ）に示すように、渦巻き状に複数回（図示例では６回）ロールさせて円筒状とし、電極層付誘電体シート４の中心線方向両端部の内周面にそれぞれナット５，６を固定するとともに、電極層付誘電体シート４の内部にコイルスプリング７をその弾性力によりナット５，６が互いに離れる方向に付勢されるように配置して、アクチュエータ１０を作製した。従って、アクチュエータ１０は、電極層付誘電体シート４の中心線方向に伸びるようコイルスプリング７の弾性力により付勢されていることになる。そして、アクチュエータ１０は、電極層２，３へ電圧印加すると、前述したとおり電極層付誘電体シート４が弾性的に伸長変形することにより、図６（ａ）から（ｂ）の変化で示すように伸長し、電圧印加を停止すると、前述したとおり電極層付誘電体シート４が復元することにより、図６（ａ）に示すように元の状態に戻る。アクチュエータ１０は、この変位量を、ナット５，６に接続した被駆動体（図示略）の駆動に利用するものである。
以上説明したように、実施例１，２，３によれば、複数のポリロタキサン（Ａ）のシクロデキストリン間が架橋部で結合される際、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）となるので、硬化膜１におけるポリシロキサン（シリコーン成分）の高含有が可能になった（表１のポリジメチルシロキサン含有率を参照）。組成物中の不揮発分の重量（＝硬化膜中の重量）に対して、シロキサン含有率は０．５〜１０ｔ％であるのがよい。好ましくは３〜１０ｗｔ％である。比較例２では、シリコーン成分の高含有を試みたが、均一な硬化膜を得ることができなかった。
また、実施例１，２，３では、その高含有のシリコーン成分により、硬化膜１が疎水化することで、水分子が混入しにくくなり、加水分解反応等の発生が抑制され、耐湿性が向上した（表１の硬化膜の物性を参照）。また、作製直後の硬化膜１に電極層２，３を付けられてなる電極層付誘電体シート４の絶縁破壊電界強度に対し、温度６０℃、相対湿度９０％の環境下に５００時間おいた後の電極層付誘電体シート４の絶縁破壊電界強度は、９４％以上と優れていた（表１の電極層付誘電体シートの物性を参照）。また、電極層付誘電体シート４の絶縁破壊電界強度は６０Ｖ／μｍ以上であることが好ましいところ、実施例１，２，３は同５００時間後もこれを満たした。
また、ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）としてのポリプロピレングリコールＣは、ポリロタキサンとの相溶性が高く、これを含むことで高誘電率と低弾性を実現している。
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することができる。
１ 硬化膜
２ 電極層
３ 電極層
４’ 物性測定用の電極層付誘電体シート
４ アクチュエータ用の電極層付誘電体シート
５ ナット
６ ナット
７ コイルスプリング
１０ アクチュエータ
２１ 円板電極
２２ 円柱電極
２３ 電源装置
２４ 穴
２５ 基板
２ 電極層
３ 電極層
４’ 物性測定用の電極層付誘電体シート
４ アクチュエータ用の電極層付誘電体シート
５ ナット
６ ナット
７ コイルスプリング
１０ アクチュエータ
２１ 円板電極
２２ 円柱電極
２３ 電源装置
２４ 穴
２５ 基板
＜４＞組成物の作製
上記のポリロタキサン（ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬ）Ａ、上記ポリシロキサンを含有するブロック共重合体Ｂ、上記ポリシロキサンを含有しない重合体Ｃ、及びその他の成分により、次の表１に示す配合（配合数値は質量部）で、実施例１，２，３の組成物を作製した。また、上記ブロック共重合体Ｂを用いない比較例１と、同じく上記ブロック共重合体Ｂを用いない代わりにＰＤＭＳジオールを用いた比較例２の組成物も作製した。
上記のポリロタキサン（ＨＡＰＲ−ｇ−ＰＣＬ）Ａ、上記ポリシロキサンを含有するブロック共重合体Ｂ、上記ポリシロキサンを含有しない重合体Ｃ、及びその他の成分により、次の表１に示す配合（配合数値は質量部）で、実施例１，２，３の組成物を作製した。また、上記ブロック共重合体Ｂを用いない比較例１と、同じく上記ブロック共重合体Ｂを用いない代わりにＰＤＭＳジオールを用いた比較例２の組成物も作製した。
＜７＞物性測定用の電極層付誘電体シートの作製と物性測定
図４（ａ）に示すように、上記＜５＞で作製直後の硬化膜１の両面に、それぞれ直径２０ｍｍの穴が空いたマスク（図示略）を当てがい、各穴内の両面にカーボン粒子を分散させたシリコンゴムの有機溶媒溶液をスプレー塗布して架橋硬化させることにより、厚さ０．０２ｍｍの電極層２，３を形成し、物性測定用の電極層付誘電体シート４’を作製した。そして、電極層２，３を形成した直後の電極層付誘電体シート４’と、同じく電極層２，３を形成してから温度６０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％の環境下に５００時間おいた後の電極層付誘電体シート４’について、以下の方法で常温常湿における絶縁破壊電界強度測定した。測定値を上記表１に示す。
図４（ｂ）に示すように、穴２４のあるポリカーボネート製の基板２５を用意し、電極層２，３を穴２４の内側に位置させて、同電極周囲の硬化膜１を基板２５に接着剤で接着した。電源装置２３により電極層２，３間に昇圧速度１０Ｖ／０．１秒で上昇するよう電圧を印加した。そして、上記＜６＞と同様にして絶縁破壊電界強度（Ｖ／μｍ）を求めた。
図４（ａ）に示すように、上記＜５＞で作製直後の硬化膜１の両面に、それぞれ直径２０ｍｍの穴が空いたマスク（図示略）を当てがい、各穴内の両面にカーボン粒子を分散させたシリコンゴムの有機溶媒溶液をスプレー塗布して架橋硬化させることにより、厚さ０．０２ｍｍの電極層２，３を形成し、物性測定用の電極層付誘電体シート４’を作製した。そして、電極層２，３を形成した直後の電極層付誘電体シート４’と、同じく電極層２，３を形成してから温度６０℃、相対湿度（ＲＨ）９０％の環境下に５００時間おいた後の電極層付誘電体シート４’について、以下の方法で常温常湿における絶縁破壊電界強度測定した。測定値を上記表１に示す。
図４（ｂ）に示すように、穴２４のあるポリカーボネート製の基板２５を用意し、電極層２，３を穴２４の内側に位置させて、同電極周囲の硬化膜１を基板２５に接着剤で接着した。電源装置２３により電極層２，３間に昇圧速度１０Ｖ／０．１秒で上昇するよう電圧を印加した。そして、上記＜６＞と同様にして絶縁破壊電界強度（Ｖ／μｍ）を求めた。
以上説明したように、実施例１，２，３によれば、複数のポリロタキサン（Ａ）のシクロデキストリン間が架橋部で結合される際、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）となるので、硬化膜１におけるポリシロキサン（シリコーン成分）の高含有が可能になった（表１のポリジメチルシロキサン含有率を参照）。組成物中の不揮発分の重量（＝硬化膜中の重量）に対して、シロキサン含有率は０．５〜１０ｗｔ％であるのがよい。好ましくは３〜１０ｗｔ％である。比較例２では、シリコーン成分の高含有を試みたが、均一な硬化膜を得ることができなかった。
Claims (13)
- 環状分子にシクロデキストリンを含有し、直鎖状分子にポリエチレングリコールを含有し、直鎖状分子の両末端に封鎖基を配置してなるポリロタキサン（Ａ）、
ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）、及び
ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）
を含む組成物。 - 上記ポリロタキサン（Ａ）は、シクロデキストリンの水酸基の少なくとも一部がグラフト鎖を有する置換基で置換されたものである請求項１記載の組成物。
- 上記グラフト鎖は、ラクトンモノマーの開環重合からなる請求項２記載の組成物。
- 上記ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）は、末端にブロックイソシアネート基を有するものである請求項１、２又は３記載の組成物。
- 上記ポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）は、ポリエステル−ポリシロキサンのブロック共重合である請求項１、２、３又は４記載の組成物。
- 上記ポリエステル−ポリシロキサンブロック共重合体は、ポリカプロラクトン−ポリジメチルシロキサンブロック共重合体である請求項５記載の組成物。
- 上記ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）は、末端にブロックイソシアネート基を有するものである上記請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物。
- 上記ポリシロキサンを含有しない重合体（Ｃ）は、ポリエーテル及びポリエステルから選択された少なくとも一種の共重合体である請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物。
- 請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物からなる硬化体であって、複数のポリロタキサン（Ａ）の環状分子間が架橋部で結合され、架橋部の少なくとも一部がポリシロキサンを含有するブロック共重合体（Ｂ）である硬化体。
- 請求項９記載の硬化体からなる硬化膜。
- 請求項１０記載の硬化膜が誘電体として用いられ、同硬化膜の両面にそれぞれ電極層が付けられてなる電極層付誘電体シート。
- 作製直後の硬化膜に電極層を付けられてなる電極層付誘電体シートの常温常湿における絶縁破壊電界強度に対し、温度６０℃、相対湿度９０％の環境下に５００時間おいた後の電極層付誘電体シートの常温常湿における絶縁破壊電界強度が９０％以上である請求項１１記載の電極層付誘電体シート。
- 請求項１１又は１２記載の電極層付誘電体シートが用いられたアクチュエータ。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015195607A JP6510946B2 (ja) | 2015-10-01 | 2015-10-01 | ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物 |
| US15/270,374 US10273364B2 (en) | 2015-10-01 | 2016-09-20 | Composition including polyrotaxane and product including the same |
| CN201610862362.0A CN106560485B (zh) | 2015-10-01 | 2016-09-28 | 包含聚轮烷的组合物及其利用物 |
| DE102016118453.5A DE102016118453A1 (de) | 2015-10-01 | 2016-09-29 | Polyrotaxan-umfassende Zusammensetzung und Produkt, das diese enthält |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015195607A JP6510946B2 (ja) | 2015-10-01 | 2015-10-01 | ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017066318A true JP2017066318A (ja) | 2017-04-06 |
| JP6510946B2 JP6510946B2 (ja) | 2019-05-08 |
Family
ID=58355765
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015195607A Active JP6510946B2 (ja) | 2015-10-01 | 2015-10-01 | ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10273364B2 (ja) |
| JP (1) | JP6510946B2 (ja) |
| CN (1) | CN106560485B (ja) |
| DE (1) | DE102016118453A1 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019038959A1 (ja) * | 2017-08-23 | 2019-02-28 | 豊田合成 株式会社 | 物品把持装置 |
| JP2019112970A (ja) * | 2017-12-21 | 2019-07-11 | 豊田合成株式会社 | ポンプ |
| WO2020066203A1 (ja) * | 2018-09-29 | 2020-04-02 | 豊田合成株式会社 | ポリロタキサン組成物及びセンサ |
| WO2020195574A1 (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 豊田合成株式会社 | 誘電エラストマーアクチュエータの接合構造 |
| WO2020256046A1 (ja) | 2019-06-19 | 2020-12-24 | 株式会社Ａｓｍ | 環状分子に長鎖アルキル基を有するポリロタキサン、該ポリロタキサンを有する組成物、及び該ポリロタキサンの製造方法 |
| JP2021133596A (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-13 | 豊田合成株式会社 | ポリロタキサン複合成形体及びその製造方法 |
| WO2022113197A1 (ja) * | 2020-11-25 | 2022-06-02 | 豊田合成株式会社 | 圧縮センサ |
| JP7453938B2 (ja) | 2021-04-27 | 2024-03-21 | 株式会社豊田中央研究所 | 高分子アクチュエータ |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6390800B2 (ja) * | 2016-08-31 | 2018-09-19 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物およびその成形品 |
| WO2019067786A1 (en) | 2017-09-29 | 2019-04-04 | The Regents Of The University Of California | MULTI-ARM POLYROTAXANE PLATFORM FOR PROTECTED ADMINISTRATION OF NUCLEIC ACIDS |
| CN109749452A (zh) * | 2018-12-26 | 2019-05-14 | 广东省石油与精细化工研究院 | 一种聚轮烷交联硅橡胶及其制备方法 |
| CN117777469A (zh) * | 2023-12-04 | 2024-03-29 | 河源市深河人民医院(暨南大学附属第五医院) | 具有光动力的载no三臂聚轮烷材料及其制备方法和应用 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009270120A (ja) * | 2005-08-31 | 2009-11-19 | Nissan Motor Co Ltd | 疎水性修飾ポリロタキサン含有溶液 |
| WO2010024431A1 (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-04 | アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 | 溶媒フリーの架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 |
| JP2011046917A (ja) * | 2010-02-26 | 2011-03-10 | Advanced Softmaterials Inc | 光架橋性ポリロタキサン、該光架橋性ポリロタキサンを有する組成物、及び該組成物由来の架橋体、並びにこれらの製造方法 |
| WO2011108515A1 (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-09 | アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 | 架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 |
| JP2011241401A (ja) * | 2011-05-30 | 2011-12-01 | Advanced Softmaterials Inc | 架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 |
| JP2012065426A (ja) * | 2010-09-15 | 2012-03-29 | Toyoda Gosei Co Ltd | アクチュエータの製造方法 |
| JP2014072285A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Tokai Rubber Ind Ltd | トランスデューサ |
| JP2015158608A (ja) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 株式会社リコー | 中間転写体、及びそれを用いた画像形成装置 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5247123B2 (ja) | 1973-02-20 | 1977-11-30 | ||
| JPS5542056B2 (ja) | 1973-11-24 | 1980-10-28 | ||
| KR101157287B1 (ko) | 2004-01-08 | 2012-06-15 | 도꾜 다이가꾸 | 가교 폴리로탁산을 갖는 화합물 및 그의 제조 방법 |
| JP2005320392A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Japan Science & Technology Agency | 架橋ポリロタキサンを有する材料、並びにそれらの製造方法 |
| JP2007063398A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Nissan Motor Co Ltd | 疎水性直鎖状分子ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサン |
| JP2007063412A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Nissan Motor Co Ltd | 親水性修飾ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサン |
| WO2008108411A1 (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Advanced Softmaterials, Inc. | ポリロタキサンおよびポリロタキサンを有する材料、架橋ポリロタキサン及び該架橋ポリロタキサンを有する材料、並びにそれらの製造方法 |
| JP5247123B2 (ja) * | 2007-11-15 | 2013-07-24 | 豊田合成株式会社 | アクチュエータ |
| JP5878020B2 (ja) * | 2009-11-11 | 2016-03-08 | 株式会社クラレ | 化学的機械的研磨用スラリー並びにそれを用いる基板の研磨方法 |
| WO2011108514A1 (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-09 | アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 | 架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 |
| JP2012181244A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Sharp Corp | 電子写真感光体およびそれを用いた画像形成装置 |
| WO2016111353A1 (ja) * | 2015-01-09 | 2016-07-14 | 住友精化株式会社 | 擬ポリロタキサン水性分散体の製造方法 |
| KR20180048582A (ko) * | 2015-09-03 | 2018-05-10 | 가부시끼가이샤 도꾸야마 | 포토크로믹 코팅 조성물 |
| JP2017209298A (ja) * | 2016-05-25 | 2017-11-30 | ダンロップスポーツ株式会社 | ゴルフボール |
-
2015
- 2015-10-01 JP JP2015195607A patent/JP6510946B2/ja active Active
-
2016
- 2016-09-20 US US15/270,374 patent/US10273364B2/en active Active
- 2016-09-28 CN CN201610862362.0A patent/CN106560485B/zh active Active
- 2016-09-29 DE DE102016118453.5A patent/DE102016118453A1/de not_active Ceased
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009270120A (ja) * | 2005-08-31 | 2009-11-19 | Nissan Motor Co Ltd | 疎水性修飾ポリロタキサン含有溶液 |
| WO2010024431A1 (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-04 | アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 | 溶媒フリーの架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 |
| JP2011046917A (ja) * | 2010-02-26 | 2011-03-10 | Advanced Softmaterials Inc | 光架橋性ポリロタキサン、該光架橋性ポリロタキサンを有する組成物、及び該組成物由来の架橋体、並びにこれらの製造方法 |
| JP2014224270A (ja) * | 2010-02-26 | 2014-12-04 | アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 | 光架橋性ポリロタキサン、該光架橋性ポリロタキサンを有する組成物、及び該組成物由来の架橋体、並びにこれらの製造方法 |
| WO2011108515A1 (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-09 | アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 | 架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 |
| JP2012065426A (ja) * | 2010-09-15 | 2012-03-29 | Toyoda Gosei Co Ltd | アクチュエータの製造方法 |
| JP2011241401A (ja) * | 2011-05-30 | 2011-12-01 | Advanced Softmaterials Inc | 架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 |
| JP2014072285A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Tokai Rubber Ind Ltd | トランスデューサ |
| JP2015158608A (ja) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 株式会社リコー | 中間転写体、及びそれを用いた画像形成装置 |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019038959A1 (ja) * | 2017-08-23 | 2019-02-28 | 豊田合成 株式会社 | 物品把持装置 |
| JP2019041459A (ja) * | 2017-08-23 | 2019-03-14 | 豊田合成株式会社 | 物品把持装置 |
| JP2019112970A (ja) * | 2017-12-21 | 2019-07-11 | 豊田合成株式会社 | ポンプ |
| JP7020645B2 (ja) | 2017-12-21 | 2022-02-16 | 豊田合成株式会社 | ポンプ |
| JP7004457B2 (ja) | 2018-09-29 | 2022-01-21 | 豊田合成株式会社 | ポリロタキサン組成物及びセンサ |
| JP2020055929A (ja) * | 2018-09-29 | 2020-04-09 | 豊田合成株式会社 | ポリロタキサン組成物及びセンサ |
| WO2020066203A1 (ja) * | 2018-09-29 | 2020-04-02 | 豊田合成株式会社 | ポリロタキサン組成物及びセンサ |
| WO2020195574A1 (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 豊田合成株式会社 | 誘電エラストマーアクチュエータの接合構造 |
| JP2020162284A (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | 豊田合成株式会社 | 誘電エラストマーアクチュエータの接合構造 |
| WO2020256046A1 (ja) | 2019-06-19 | 2020-12-24 | 株式会社Ａｓｍ | 環状分子に長鎖アルキル基を有するポリロタキサン、該ポリロタキサンを有する組成物、及び該ポリロタキサンの製造方法 |
| JP2021133596A (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-13 | 豊田合成株式会社 | ポリロタキサン複合成形体及びその製造方法 |
| WO2022113197A1 (ja) * | 2020-11-25 | 2022-06-02 | 豊田合成株式会社 | 圧縮センサ |
| JP7453938B2 (ja) | 2021-04-27 | 2024-03-21 | 株式会社豊田中央研究所 | 高分子アクチュエータ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US10273364B2 (en) | 2019-04-30 |
| US20170096559A1 (en) | 2017-04-06 |
| CN106560485A (zh) | 2017-04-12 |
| DE102016118453A1 (de) | 2017-04-06 |
| JP6510946B2 (ja) | 2019-05-08 |
| CN106560485B (zh) | 2020-09-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2017066318A (ja) | ポリロタキサンを含む組成物及びその利用物 | |
| JP5833199B2 (ja) | 光架橋性ポリロタキサン、該光架橋性ポリロタキサンを有する組成物、及び該組成物由来の架橋体、並びにこれらの製造方法 | |
| Razak et al. | Enhancement of dielectric permittivity by incorporating PDMS-PEG multiblock copolymers in silicone elastomers | |
| WO2012165402A1 (ja) | 架橋ポリロタキサンを有する材料、及びその製造方法 | |
| EP2928963B1 (en) | Dielectric electroactive polymers comprising an ionic supramolecular structure | |
| CN104144713A (zh) | 粘合剂制品及其制备方法 | |
| JP6919528B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物およびこれを用いた電装部品 | |
| WO2019069694A1 (ja) | 架橋ポリロタキサンを有する化合物及びアクチュエータ | |
| JP7004457B2 (ja) | ポリロタキサン組成物及びセンサ | |
| WO2020262017A1 (ja) | エラストマー組成物並びにアクチュエータ及びセンサ | |
| JP2014214233A (ja) | エラストマー及びトランスデューサ素子 | |
| JP6084145B2 (ja) | 異方導電性接着組成物およびこれを用いた異方導電性接着フィルム | |
| CN109575220B (zh) | 一种快回弹水性聚氨酯脲弹性体及其制备方法 | |
| WO2021039051A1 (ja) | 誘電エラストマー及びこれを用いたアクチュエータ | |
| JP2020162283A (ja) | 誘電エラストマーアクチュエータの駆動方法及びアクチュエータ装置 | |
| US20220315741A1 (en) | Rubber composition and use thereof | |
| JP7453938B2 (ja) | 高分子アクチュエータ | |
| JP2024013430A (ja) | 高分子アクチュエータ及びセンサ | |
| Hu | Highly stretchable/soft silicone elastomers with tailored network structures | |
| JP2023127898A (ja) | 高分子アクチュエータ及びセンサ | |
| JP2020089062A (ja) | 誘電エラストマーアクチュエータの駆動方法及びアクチュエータ装置 | |
| Zhang | Reliability of dielectric elastomers | |
| JP2023117798A (ja) | 高分子アクチュエータ及びセンサ | |
| Goswami et al. | Silicone resembling poly (propylene glycol) interpenetrating networks based on no pre-stretch as basis for electrical actuators | |
| Razak et al. | RSC Advances RSC |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180123 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180815 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180918 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181108 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190115 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190214 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190312 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190405 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6510946 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |