JP2017063127A - 発光モジュール用基板、発光モジュール、冷却器付き発光モジュール用基板、および発光モジュール用基板の製造方法 - Google Patents

発光モジュール用基板、発光モジュール、冷却器付き発光モジュール用基板、および発光モジュール用基板の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】発光素子の発熱によって材料の接合部分が損傷することを確実に防止することが可能な発光モジュール用基板、発光モジュール、冷却器付き発光モジュール用基板、および発光モジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層の一面に、発光素子が搭載される回路層が形成され、前記絶縁層の他面側にAlまたはAl合金からなる金属層と放熱板とが順に積層されてなる発光モジュール基板であって、前記放熱板は、少なくとも前記金属層との接合面にCuが存在し、該接合面において前記金属層と前記放熱板とが固相拡散接合され、前記回路層の厚みが0.1mm以下であることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

この発明は、耐熱性に優れた発光モジュール用基板、発光モジュール、冷却器付き発光モジュール用基板、および発光モジュール用基板の製造方法に関するものである。
発光ダイオード(LED)素子は、長寿命で安定した発光特性により、各種光源に幅広く用いられている。こうしたLED素子の光変換効率は20〜30%程度であり、残りの70〜80%のエネルギーはLED素子で直接熱になる。一方、LED素子は熱に弱いデバイスであり、一般的な動作保証温度は−10〜85℃程度である。このため、LED素子を搭載するためのLEDモジュール用基板には、LED素子で生じた熱を効率的に拡散するための放熱板や、熱交換を行う冷却器などが設けられている。これらは、LEDだけでなく、発光素子についても同様である。
従来、LEDモジュール(発光素子モジュール)において、絶縁性の基板である絶縁層と放熱板とは、高い熱伝導性や接合の容易性などからAu−Sn合金はんだによって接合されていた。例えば、絶縁層としてAlNを用い、また放熱板として熱伝導性に優れたCuを用いる場合、AlN絶縁層にCu薄板を形成し、このCu薄板と放熱板とをAu−Sn合金はんだによって接合している(例えば、特許文献1〜3を参照)。
特開2008−240007号公報 特開2015−070199号公報 特開2013−153157号公報
しかしながら、セラミックスなどからなる絶縁層と、金属からなる放熱板は、互いに熱膨張係数が大きく異なる。一方、Au−Sn合金は硬度が高く展延性に乏しい。このため、絶縁層と放熱板熱とをAu−Sn合金によって接合した場合、発光素子で生じた熱による絶縁層と放熱板との熱膨張の差をAu−Sn合金が吸収することができず、結果としてAu−Sn合金にクラックが生じ、絶縁層と放熱板とが剥離したり、接合部分が損傷するといった懸念があった。
この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、発光素子の発熱によって材料の接合部分が損傷することを確実に防止することが可能な発光モジュール用基板、発光モジュール、冷却器付き発光モジュール用基板、および発光モジュール用基板の製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の発光モジュール用基板は、絶縁層の一面に、発光素子が搭載される回路層が形成され、前記絶縁層の他面側にアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属層と放熱板とが順に積層されてなる発光モジュール基板であって、前記放熱板のうち少なくとも前記金属層との接合面には、銅又は銅合金からなる銅層が設けられており、該接合面において前記金属層と前記放熱板とが固相拡散接合され、前記回路層の厚みが0.1mm以下であることを特徴とする。
本発明の発光モジュール用基板によれば、互いに熱膨張係数が大きく異なる絶縁層と放熱板とを金属層を介して重ねて、放熱板と金属層とを固相拡散接合によって接合することにより、発光素子の点灯と消灯の繰り返しによる冷熱サイクルが負荷された際に、セラミックスからなる絶縁層と放熱板との間の接合部分が損傷することを防止できる。
即ち、従来のように絶縁層と放熱板とをAu−Sn合金など硬度の高い接合材料を用いて接合した場合には、熱膨張係数の違いによって生じる応力を吸収できずに絶縁層と放熱板とが剥離することがあったが、本発明のように、放熱板と金属層とを固相拡散接合によって接合することで、放熱板と金属層とが強固に接合され、接合部分での剥離を確実に防止することができる。
本発明においては、前記金属層は、厚みが0.6mm以上、2.5mm以下であることを特徴とする。
こうした厚み範囲金属層を形成することによって、絶縁層に発生する熱応力をこの金属層によって効果的に吸収でき、絶縁層にクラックや割れが生じることを防止することができる。
本発明においては、前記放熱板はAlSiCを含むことを特徴とする。
AlSiCは、SiCの多孔質構造体にアルミニウム又はアルミニウム合金を含侵させた材料であり、その組成によって熱伝導率と熱膨張率を調節可能な材料である。AlSiCは、含浸法以外に、粉末焼結法でも製造可能で、高熱伝導率、低熱膨張係数などの特徴がある。このようなAlSiCを放熱板に含むことによって、放熱板の放熱特性を更に向上させ、かつ、放熱板と接する冷却器に対する熱膨張係数の差を少なくすることができる。
本発明においては、前記回路層に発光素子を接合させる素子搭載面の25℃〜+175℃における反り量が5μm/10mm以下であることを特徴とする。
これによって、発光素子が点灯、消灯を繰り返して温度サイクルが加わっても、発光素子の湾曲による照度の低下や照射範囲の変動を抑制することができる。
本発明の発光モジュールは、前記各項に記載の発光モジュール用基板に発光素子を備えたことを特徴とする。
本発明の発光モジュールによれば、放熱板と金属層とを固相拡散接合によって接合することで、放熱板と金属層とが強固に接合され、接合部分での剥離を確実に防止可能な発光モジュールを提供することができる。
本発明においては、前記回路層はアルミニウム又はアルミニウム合金からなり、前記回路層と前記発光素子は、Ag層を介して接合されていることを特徴とする。
回路層と発光素子との接合に電気抵抗の低いAgを用いることによって、回路層と発光素子とが確実に接合され、かつ回路層と発光素子との間の電気抵抗を低減することができる。
本発明においては、前記回路層は銅又は銅合金からなり、前記回路層と前記発光素子は、Au−Sn合金層を介して接合されていることを特徴とする。
回路層と発光素子との接合に電気抵抗が低く、硬度の高いAu−Sn合金を用いることによって、回路層と発光素子とが確実に接合され、かつ回路層と発光素子との間の電気抵抗を低減することができる。
本発明の冷却器付き発光モジュール用基板は、前記各項に記載の発光モジュール用基板の前記放熱板に重ねて、更に冷却器を配したことを特徴とする。
本発明の冷却器付き発光モジュール用基板によれば、放熱板と金属層とを固相拡散接合によって接合することで、放熱板と金属層とが強固に接合され、接合部分での剥離を確実に防止可能な冷却器付き発光モジュールを提供することができる。
本発明においては、前記冷却器に対して、前記冷却器とは異なる金属材料からなり前記冷却器の熱容量を増加させる金属ブロックを接合してなることを特徴とする。
こうした金属ブロックを冷却器に接合することによって、冷却器の熱容量を増加させ、放熱板から伝搬する熱をより一層効率的に吸収して、冷却器の冷却能力をより一層高めることができる。
本発明においては、前記冷却器には、発光モジュール用基板を嵌め込み可能な凹部を備えたことを特徴とする。冷却器に凹部を形成することによって、放熱板の厚み方向に沿った側面も冷却器に接するので、放熱板の冷却器による冷却特性が高められる。また、凹部に発光モジュール用基板を収容することによって、発光モジュール用基板が安定して冷却器に固定され、冷却器付き発光モジュール用基板の強度を高めることができる。
本発明の冷却器付き発光モジュール用基板の製造方法は、絶縁層の一面に、発光素子が搭載される回路層が形成され、前記絶縁層の他面側にアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属層と放熱板とが順に積層されてなる発光モジュール基板の製造方法であって、前記回路層の厚みを0.1mm以下とし、少なくとも前記金属層に接合させる面に銅又は銅合金からなる銅層が設けられた前記放熱板を用いて、前記放熱板と前記金属層とを固相拡散接合させる工程を含む、ことを特徴とする。
本発明の発光モジュール用基板の製造方法によれば、互いに熱膨張係数が大きく異なる絶縁層と放熱板とを金属層を介して重ねて、放熱板と金属層とを固相拡散接合によって接合する工程を備えることにより、発光素子の点灯と消灯の繰り返しによる冷熱サイクルが負荷された際に、放熱板と金属層との接合部分が損傷することを防止できる。これにより、放熱板とが金属層との接合部分の剥離を確実に防止することができる。
本発明によれば、発光素子の発熱によって接合部分が損傷することを確実に防止することが可能な発光モジュール用基板、発光モジュール、および冷却器付き発光モジュール用基板を提供することができる。
第一実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。 第二実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。 第三実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。 第四実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。 第五実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。 LEDモジュール用基板の製造方法を段階的に示した断面図である。
以下、図面を参照して、本発明の発光モジュール用基板、発光モジュール、および冷却器付き発光モジュール用基板について説明する。なお、以下に示す各実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
(第一実施形態)
第一実施形態の発光モジュール(LEDモジュール)について、図1を参照して説明する。第一実施形態においては、発光素子11としてLED素子を用いている。発光素子はLED素子以外にも、レーザーダイオード素子、半導体レーザー素子等を用いることができる。
図1は、本発明の第一実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。
LEDモジュール10は、LED素子11と、冷却器付きLEDモジュール用基板20とからなる。この冷却器付きLEDモジュール用基板20は、冷却器21と、LEDモジュール用基板30とからなる。
LEDモジュール用基板30は、絶縁性の基板である絶縁層31と、この絶縁層31の一面側31aに積層された回路層32と、絶縁層31の他面側31bに順に積層された金属層33および放熱板34とを有する。
絶縁層31は、例えば、絶縁性および放熱性に優れたSi(窒化ケイ素)、AlN(窒化アルミニウム)、Al(アルミナ)等のセラミックスで構成されている。本実施形態では、絶縁層31は、AlNで構成されている。また、絶縁層31の厚さは、例えば、0.2〜1.5mmの範囲内に設定されており、本実施形態では、0.635mmに設定されている。
回路層32は、LED素子11と電気的に接続される導電板であり、導電性に優れたアルミニウム、銅、銀や、それらの合金などから形成される。本実施形態では、回路層32は、純度が99.0mass%以上のアルミニウム板で構成されている。回路層32の厚みは0.1mm以下になるように形成されている。回路層32の厚みが0.1mmを超えると、LED素子搭載用の回路パターンを微細に形成ができない。さらに、回路層32の厚みが0.1mmを超えた場合、後述する応力緩衝層となる金属層33の厚みを0.6mm以上など厚くしないと応力緩衝効果が不足し、セラミックスにかかる応力が増加し、セラミックス割れが発生する。
こうした回路層32にLED素子11を接合させる素子搭載面32aは、温度が25℃〜+175℃の範囲において、反り量が5μm/10mm以下になるように形成されている。回路層32の素子搭載面32aの反り量を5μm/10mm以下にすることによって、この回路層32とLED素子11との接合強度を高めるとともに、25℃〜+175℃の温度範囲において、LED素子11に加わる湾曲応力を抑制してLED素子11の破損を防止する。
絶縁層31と回路層32とは、ろう材を用いて直接接合されている。ろう材としては、Al−Cu系ろう材、Al−Si系ろう材などが挙げられる。本実施形態で、Al−Si系ろう材が用いられている。回路層32は、ろう材によって絶縁層31に導電性の金属板を接合した後、例えば、エッチングなどによって所定の回路パターンを形成することができる。
金属層33は、アルミニウムまたはアルミニウム合金から構成される。本実施形態では、金属層33として、純度が99.98mass%以上の高純度アルミニウムからなる板状の部材を用いている。この金属層33の厚みは、例えば、0.4mm以上、2.5mm以下であればよい。こうした金属層33を絶縁層31と放熱板34との間に形成することによって、金属層33は応力緩衝層としての機能を果たす。即ち、金属層33の形成によって、セラミックスからなる絶縁層31と、金属からなる放熱板34との熱膨張係数の差によって生じる熱応力を吸収し、絶縁層31の破損を防止することができる。
また、金属層33を純度99.98mass%以上の高純度アルミニウムで形成すれば、変形抵抗が小さくなり、LED素子11の点灯と消灯の繰り返しによる冷熱サイクルが負荷された際に、絶縁層31に発生する熱応力をこの金属層33によって効果的に吸収できる。
絶縁層31と金属層33とは、ろう材を用いて直接接合されている。ろう材としては、Al−Cu系ろう材、Al−Si系ろう材などが挙げられる。本実施形態で、Al−Si系ろう材が用いられている。
放熱板34は、少なくとも金属層33との接合面にCuが存在する材料が用いられる。例えば、純銅、銅合金(Cu−Mo,Cu−Cr,Cu−W)、銅を含む複合材(CuSiC)などを用いることができる。また、これらCuが存在する材料に加えて、更にアルミニウム,AlSiC,AlC,MgSiCなどからなる層を接合した複層体であってもよい。本実施形態では、放熱板34として無酸素銅からなるCu板を用いている。
金属層33と放熱板34との接合面は、固相拡散接合によって直接接合されている。本実施形態では、例えば、アルミニウムからなる金属層33および銅からなる放熱板34のそれぞれを表面処理し、500〜548℃程度で加熱しつつ圧力を加えることによって、金属層33と放熱板34との接合面で固相拡散を行い、金属層33と放熱板34とを異種金属による固相拡散接合によって接合している。
冷却器付きLEDモジュール用基板20は、上述した構成のLEDモジュール用基板30に対して、さらに冷却器21を接合することによって得られる。
冷却器21は、天板部22と、この天板部22に形成された複数のフィン23,23…から構成されている。フィン23,23…は、互いに所定の間隔をあけて配置された板状部材である。このような冷却器21は、フィン23,23…の間を冷媒である空気が流通することによって、この冷却器21に接合された放熱板34をさらに効率的に冷却する、いわゆる空冷式の冷却器である。
なお、冷却器21は、例えば、天板部22に例えば冷却水を流通させる複数の流路を一体に形成した、いわゆる水冷式の冷却器であってもよい。
冷却器21を構成する天板部22やフィン23,23…は、例えば、アルミニウム又はアルミニウム合金などから形成されている。具体的には、A3003、A1050、4N−Al、A6063などが挙げられる。本実施形態では、A1050の圧延板を用いている。なお、天板部22とフィン23,23…とは一体の部材として形成された構成であっても、天板部22の下面に複数のフィン23,23…をろう材等で接合した構成であってもよい。天板部22と複数のフィン23,23…とを別部材で構成する場合、天板部22と複数のフィン23,23…とは互いに異なる素材を用いて形成してもよい。
放熱板34と冷却器21とは、サーマルグリース層24を介して接触している。サーマルグリースを用いる場合、放熱板34と冷却器21とは、例えばネジ止めなどによって結合される。また、放熱板34と冷却器21とは、ろう材などによって接合することもできる。例えば、放熱板34に対して、Al−Si系ろう材と、F(フッ素)を含むフラックス、例えばKAlFを主成分とするフラックスを用いたろう付けによって接合することもできる。
LEDモジュール10は、上述した構成の冷却器付きLEDモジュール用基板20に対して、LED素子11を実装することによって得られる。
LED素子11は、発光波長域や形状に応じた各種構成のLED素子を用いることができる。
このようなLED素子11は、Ag層19を介して回路層32の素子搭載面32aに接合(実装)される。Ag接合層19は、例えば、Ag粉末の焼結体からなる。本実施形態では、Ag接合層19はAg接合層19AとAg焼成層19Bの2層からなる。
以上のような構成のLEDモジュール10、およびこれを構成する冷却器付きLEDモジュール用基板20、LEDモジュール用基板30によれば、互いに熱膨張係数が大きく異なる絶縁層31と放熱板34との間に配した、金属層33と放熱板34とを固相拡散接合によって接合することにより、LED素子11の点灯と消灯の繰り返しによる冷熱サイクルが負荷された際に、セラミックスからなる絶縁層31と放熱板34との間の接合部分が損傷することを防止する。
即ち、従来のように絶縁層と放熱板とをAu−Sn合金など硬度の高い接合材料を用いて接合した場合には、熱膨張係数の違いによって生じる応力を吸収できずに絶縁層と放熱板とが剥離することがあったが、本実施形態のように、絶縁層31と放熱板34との間に配した、金属層33と放熱板34とを固相拡散接合によって接合することで、放熱板34と金属層33とが強固に接合され、接合部分での剥離を確実に防止することができる。
また、絶縁層31と放熱板34との間に応力緩衝層となる金属層33を更に設けることで、絶縁層31に発生する熱応力をこの金属層33によって効果的に吸収でき、絶縁層31にクラックや割れが生じることを防止できる。
(第二実施形態)
第二実施形態の発光(LED)モジュールについて、図2を参照して説明する。
図2は、本発明の第二実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。なお、第一実施形態の発光(LED)モジュールと同一構成の部材には同一の符号を付し、その詳細な構造や作用の説明を省略する。なお、第二実施形態においては発光素子11としてLED素子11を用いている。
第二実施形態のLEDモジュール40は、LED素子11と、冷却器付きLEDモジュール用基板20とからなる。この冷却器付きLEDモジュール用基板20は、冷却器21と、LEDモジュール用基板30とからなる。
LEDモジュール用基板30は、絶縁性の基板である絶縁層31と、この絶縁層31の一面側31aに積層された回路層32と、絶縁層31の他面側31bに順に積層された金属層33および放熱板34とを有する。
第二実施形態のLEDモジュール40では、LED素子11は、Au−Sn合金層43を介してCu板からなる回路層44に接合(実装)されている。即ち、この実施形態の回路層44は、Au−Sn合金層43の密着性の高いCu板によって形成されている。
Au−Sn合金層43は、Au−Sn合金はんだ(例えばAu−20mass%Sn)を330℃程度で溶融させることで形成される。また、回路層44は、厚みが40〜85μm程度の銅板を用いることができる。
このようなLEDモジュール40においても、互いに熱膨張係数が大きく異なる絶縁層31と放熱板34との間に配した、金属層33と放熱板34とを固相拡散接合によって接合することにより、LED素子11の点灯と消灯の繰り返しによる冷熱サイクルが負荷された際に、セラミックスからなる絶縁層31と放熱板34との間の接合部分が損傷することを防止する。
なお、第二実施形態のLEDモジュール40では、LED素子11を、硬度の高いAu−Sn合金層43を用いて回路層44に接合しているが、LED素子11の接合部分は面積が小さく、回路層44側との熱膨張係数の差による熱応力の影響は少ないため、冷熱サイクルの負荷によるAu−Sn合金層43の損傷のおそれは小さい。
(第三実施形態)
第三実施形態の発光(LED)モジュールについて、図3を参照して説明する。なお、第三実施形態においては、発光素子11としてLED素子11を用いている。
図3は、本発明の第三実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。なお、第一実施形態のLEDモジュールと同一構成の部材には同一の符号を付し、その詳細な構造や作用の説明を省略する。
第三実施形態のLEDモジュール50は、LED素子11と、冷却器付きLEDモジュール用基板20とからなる。この冷却器付きLEDモジュール用基板20は、冷却器51と、LEDモジュール用基板30とからなる。
LEDモジュール用基板30は、絶縁性の基板である絶縁層31と、この絶縁層31の一面側31aに積層された回路層32と、絶縁層31の他面側31bに順に積層された金属層33および放熱板34とを有する。
第三実施形態のLEDモジュール50では、サーマルグリース24を介して放熱板34と接する冷却器51の接続面51aにおいて、LEDモジュール用基板30の配置領域の外側に、金属ブロック52,52を接合している。この金属ブロック52,52は、冷却器51とは異なる金属材料、例えば銅又は銅合金から構成される。こうした金属ブロック52,52を冷却器51の接続面51aに接合することによって、冷却器51の熱容量を増加させることができる。よって、放熱板34から伝搬する熱をより一層効率的に吸収して、冷却器51の冷却能力をより一層高めることができる。
冷却器51の接続面51aと金属ブロック52,52とは、固相拡散接合によって直接接合される。本実施形態では、例えば、アルミニウムからなる冷却器51および銅からなる金属ブロック52,52のそれぞれの接合面を表面処理し、500〜548℃程度で加熱しつつ圧力を加えることによって、冷却器51と金属ブロック52,52との接合面で固相拡散を行い、冷却器51と金属ブロック52,52とを異種金属による固相拡散接合によって接合している。
(第四実施形態)
第四実施形態の発光(LED)モジュールについて、図4を参照して説明する。なお、第四実施形態においては、発光素子11としてLED素子11を用いている。
図4は、本発明の第四実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。なお、第一実施形態のLEDモジュールと同一構成の部材には同一の符号を付し、その詳細な構造や作用の説明を省略する。
第四実施形態のLEDモジュール60は、LED素子11と、冷却器付きLEDモジュール用基板20とからなる。この冷却器付きLEDモジュール用基板20は、冷却器21と、LEDモジュール用基板30とからなる。
LEDモジュール用基板30は、絶縁性の基板である絶縁層31と、この絶縁層31の一面側31aに積層された回路層32と、絶縁層31の他面側31bに順に積層された金属層33および放熱板61とを有する。
第四実施形態のLEDモジュール60では、放熱板61として、銅又は銅合金からなる銅層62とAlSiC層63との複層体を用いている。本実施形態では、無酸素銅を用いて銅層62を形成している。AlSiC層63は、SiCの多孔質構造体にアルミニウム又はアルミニウム合金を含侵させた材料であり、その組成によって熱伝導率と熱膨張率を調節可能な材料である。AlSiCは、含浸法以外に、粉末焼結法でも製造可能で、高熱伝導率、低熱膨張係数などの特徴がある。本実施形態ではアルミニウム(Al−Si−Mg系合金)が30%含侵されたAlSiCを用いている。
このようなAlSiCを含むAlSiC層63と、銅層62とから放熱板61を構成することによって、放熱板61の放熱特性を向上させ、かつ、放熱板61と接する冷却器21に対する熱膨張係数の差を少なくすることができる。
(第五実施形態)
第五実施形態の発光(LED)モジュールについて、図5を参照して説明する。なお、第五実施形態においては、発光素子11としてLED素子11を用いている。
図5は、本発明の第五実施形態のLEDモジュールを示す断面図である。なお、第一実施形態のLEDモジュールと同一構成の部材には同一の符号を付し、その詳細な構造や作用の説明を省略する。
第五実施形態のLEDモジュール70は、LED素子11と、冷却器付きLEDモジュール用基板20とからなる。この冷却器付きLEDモジュール用基板20は、冷却器71と、LEDモジュール用基板30とからなる。
LEDモジュール用基板30は、絶縁性の基板である絶縁層31と、この絶縁層31の一面側31aに積層された回路層32と、絶縁層31の他面側31bに順に積層された金属層33および放熱板34とを有する。
第五実施形態のLEDモジュール70では、冷却器71に、LEDモジュール用基板20を嵌め込み可能な凹部75が形成されている。即ち、冷却器71は、天板部72と、この天板部72に形成された複数のフィン73,73…から構成され、天板部72の一面72aからフィン73に向かって掘り下げられるように凹部75が形成されている。
こうした凹部75は、LEDモジュール用基板20の少なくとも一部を収容可能な深さに形成されていればよい。本実施形態では、凹部75は、放熱板34と金属層33との接合面付近まで収容可能な深さに形成されている。また、凹部75の形状は、その側面が放熱板34の側面に接する形状に形成されている。
本実施形態のように、冷却器71に凹部75を形成することによって、放熱板34の厚み方向に沿った側面も冷却器71に接するので、放熱板34の冷却器71による冷却特性が高められる。また、凹部75にLEDモジュール用基板20を収容することによって、LEDモジュール用基板20が安定して冷却器71に固定され、冷却器付きLEDモジュール用基板20の強度を高めることができる。
(発光モジュール用基板の製造方法)
本発明の発光モジュール用基板の製造方法の一例を説明する。
図6は、発光モジュール用基板の製造方法の一例を段階的に示した断面図である。ここでは、発光素子としてLED素子を用いた場合を説明する。
本発明のLEDモジュール用基板を製造する際には、まず、絶縁層31の一面側31aに、回路層32を、また、絶縁層31の他面側31bに金属層33をそれぞれ接合する(図6(a)参照)。回路層32としては、例えば、厚みが0.1mm程度の4N−Alを、また、金属層33としては例えば、厚みが0.9mm程度の4N−Alを用いることができる。
接合にあたっては、絶縁層31と回路層32との間、および絶縁層31と金属層33との間にそれぞれろう材箔Fを配し、この積層物を積層方向に加圧しつつ、ろう材箔Fの溶融温度まで加熱する。ろう材箔Fとしては、例えば、Al−Si系ろう材を用いることができる。接合時の加熱温度は、例えば640℃にすればよい。これにより、絶縁層31に対して回路層32および金属層33が直接接合される。
次に、回路層32にガラス含有Agペーストを塗布し、567℃〜620℃で焼成させることで、Agの焼結体からなるAg焼成層19Bを形成する(図6(b)参照)。ガラス含有AgペーストはAg粉末と、ガラス粉末と、樹脂と、溶剤と、分散剤と、を含有しており、Ag粉末とガラス粉末とからなる粉末成分の含有量が、ガラス含有Agペースト全体の60質量%以上90質量%以下とされており、残部が樹脂、溶剤、分散剤とされているペーストである。Ag粉末は、その粒径が0.05μm〜1.0μmの物を用いることができる。ガラス粉末は、例えば、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化ホウ素、酸化リン及び酸化ビスマスのいずれか1種又は2種以上を含有しており、その軟化温度が600℃以下の物を用いることができる。Ag粉末の重量Aとガラス粉末の重量Gとの重量比A/Gは、80/20から99/1の範囲内にするとよい。
次に、金属層33に銅又は銅合金からなる放熱板34を重ねて、金属層33と放熱板34とを固相拡散接合する(固相拡散接合工程:図6(c)参照)。固相拡散接合にあたっては、固相拡散接合する金属層33と放熱板34のそれぞれの接合面は、予め当該面の傷などを除去して平滑にしておく。そして、例えば、積層方向に加圧(圧力5〜35kgf/cm)した状態で真空加熱炉Hに配置し加熱する。真空加熱炉内の処理条件は、例えば、圧力は10−6Pa以上10−3Pa以下の範囲内に、加熱温度は400℃以上548℃以下、保持時間は0.25時間以上3時間以下の範囲内に設定される。こうした固相拡散接合によって、金属層33と放熱板34とが強固に接合される。
以上の工程を経て、図1に示す本発明のLEDモジュール用基板30を得ることができる。
なお、このLEDモジュール用基板30の回路層32にLED素子11を実装する際には、例えば、粒径50nm〜350nmのAg粒子を含むAgペーストをLED素子11とAg焼成層19Bの間に介在させ、200℃〜300℃で焼成することで回路層32上(Ag焼成層18上)にLED素子11を実装することができる。この場合、LED素子11はAg層19を介して回路層32に接合している。また、このLEDモジュール用基板30に冷却器21を取り付ける際には、冷却器21の天板部22と放熱板34との間にサーマルグリース層24を形成して、冷却器21と放熱板34とを固定すればよい。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの各実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら各実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、追加、ないし変更を行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
以下、本実施形態の効果を検証した実験例を示す。
厚み1.0mmのAlN基板(絶縁層)の一面に、表1記載の厚さを有する回路層用板(4N−Al板)をまた、AlN基板(絶縁層)の他面に、表1記載の金属層用板(4N−Al板)をそれぞれ接合した。接合には、Al−Si系ろう材箔を用いて640℃で溶融させ直接接合した。
その後、AlN基板の一面に接合した回路層用板の表面に、エッチングによりLED素子用の回路を形成して回路層とした。
次に、AlN基板の他面に接合した金属層用板の表面に、表1記載の放熱板を表1記載の方法で接合した。
そして、LED素子を表1記載の素子接合剤によって回路層に接合し、更にサーマルグリースを介してAl(ADC12)からなる冷却器フィンを放熱板に取り付けた。これにより、実施例1〜10及び比較例1〜3のLEDモジュール用基板を得た。
また、実施例8〜10は、回路層として無酸素銅を活性金属ろう材(Ag−Cu−Ti)を用いて、820℃で溶融させ接合したものを使用した。
なお、表1に記載した素子接合方法が「Ag」の場合は、上述した実施形態に記載した方法によって、回路層上にAg焼成層を形成し、Ag粒子を含むAgペーストを用いて回路層(Ag焼成層)とLED素子を接合した。表1に記載した素子接合方法が「Au−20wt%Sn」の場合、回路表面に無電解NiめっきとAuめっきを形成した回路層とLED素子間に、厚さ50μmのAu−20wt%Snはんだを介し、接合温度330℃ではんだ付けを行い、回路層とLED素子を接合した。
また、放熱板接合方法が「固相拡散」の場合には、金属層と放熱板の積層方向に9kg/cmの荷重をかけた状態で520℃に加熱することで金属層と放熱板を接合した。放熱板がAlSiCの場合は、Cu箔を介した状態で固相拡散接合した。放熱板接合方法が「Au−20wt%Sn」の場合は、金属層と放熱板間に、厚さ50μmのAu−20wt%Snはんだを介し、接合温度330℃ではんだ付けを行い、金属層と放熱板を接合した。
[評価]
(温度サイクル後の接合率)
温度サイクル試験は、各LEDモジュールに対して、気相で、−40℃←→175℃の温度サイクルを2000サイクル繰り返した。2000サイクル後の素子接合部(素子/回路層接合部)および放熱板接合部(金属層/放熱板接合部)を超音波探傷装置(株式会社日立パワーソリューションズ製FineSAT200)を用いて評価し、以下の接合面積を表す式から接合面積を算出した。ここで、初期接合面積とは、接合前における接合すべき面積、すなわち、素子接合部の評価の場合は素子の面積、放熱板接合部の評価の場合は、金属層の面積とした。超音波探傷像を二値化処理した画像において剥離は白色部で示されることから、この白色部の面積を剥離面積とした。
接合面積(%)={(初期接合面積)−(剥離面積)}/(初期接合面積)×100
接合面積が60%未満である場合を×、60%以上80%未満を△、80%以上の場合を○と評価した。
温度サイクル後のセラミックス割れについては、目視にて確認した。
(熱抵抗)
各LEDモジュールに電圧を印加して、素子を発熱させ、放熱フィンをファンで冷却し、その際の素子の温度と雰囲気温度の差をΔTとしたとき、熱抵抗をΔT(℃)/発熱量(W)で計算した。
(反り)
各LEDモジュールに対し、25℃〜175℃の各温度における10mm長さ当たりの反り量をAkrometrix社製サーモレイにて測定し、各温度における最大の反り量を反りとして評価した。
これらの評価結果を表1に示す。
Figure 2017063127
以上の結果によれば、実施例1〜実施例10のLEDモジュールは、温度サイクルを加えた後も、それぞれの接合界面でのクラックなどの損傷は見られなかった。また、熱抵抗は低いことが確認された。更に、AIN基板(絶縁層)の反り量は、5μm/10mm以下の範囲に抑えられることが確認された。
10 LEDモジュール
11 LED素子
20 冷却器付きLEDモジュール用基板
21 冷却器
30 LEDモジュール用基板
31 絶縁層
32 回路層
33 金属層
34 放熱板

Claims (11)

  1. 絶縁層の一面に、発光素子が搭載される回路層が形成され、前記絶縁層の他面側にアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属層と放熱板とが順に積層されてなる発光モジュール基板であって、
    前記放熱板のうち少なくとも前記金属層との接合面には、銅又は銅合金からなる銅層が設けられており、該接合面において前記金属層と前記放熱板とが固相拡散接合され、
    前記回路層の厚みが0.1mm以下であることを特徴とする発光モジュール用基板。
  2. 前記金属層は、厚みが0.6mm以上、2.5mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の発光モジュール用基板。
  3. 前記放熱板はAlSiCを含むことを特徴とする請求項1または2に記載の発光モジュール用基板。
  4. 前記回路層に発光素子を接合させる素子搭載面の25℃〜+175℃における反り量が5μm/10mm以下であることを特徴とする請求項1ないし3いずれか一項に記載の発光モジュール用基板。
  5. 請求項1ないし4いずれか一項に記載の発光モジュール用基板に発光素子を備えたことを特徴とする発光モジュール。
  6. 前記回路層はアルミニウム又はアルミニウム合金からなり、前記回路層と前記発光素子は、Ag層を介して接合されていることを特徴とする請求項5に記載の発光モジュール。
  7. 前記回路層は銅又は銅合金からなりを含み、前記回路層と前記発光素子は、Au−Sn合金層を介して接合されていることを特徴とする請求項5に記載の発光モジュール。
  8. 請求項1ないし4いずれか一項に記載の発光モジュール用基板の前記放熱板に重ねて、更に冷却器を配したことを特徴とする冷却器付き発光モジュール用基板。
  9. 前記冷却器に対して、前記冷却器とは異なる金属材料からなり前記冷却器の熱容量を増加させる金属ブロックを接合してなることを特徴とする請求項8に記載の冷却器付き発光モジュール用基板。
  10. 前記冷却器には、発光モジュール用基板を嵌め込み可能な凹部を備えたことを特徴とする請求項8または9に記載の冷却器付き発光モジュール用基板。
  11. 絶縁層の一面に、発光素子が搭載される回路層が形成され、前記絶縁層の他面側にアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属層と放熱板とが順に積層されてなる発光モジュール基板の製造方法であって、
    前記回路層の厚みを0.1mm以下とし、
    少なくとも前記金属層に接合させる面に銅又は銅合金からなる銅層が設けられた前記放熱板を用いて、前記放熱板と前記金属層とを固相拡散接合させる工程を含む、ことを特徴とする発光モジュール用基板の製造方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11167363B2 (en) * 2017-05-10 2021-11-09 Board Of Trustees Of Michigan State University Brazing methods using porous interlayers and related articles
US11524359B2 (en) * 2017-08-23 2022-12-13 Georgia Tech Research Corporation Low temperature direct bonding of aluminum nitride to AlSiC substrates
WO2020071498A1 (ja) * 2018-10-03 2020-04-09 シチズン電子株式会社 インレイ基板及びそれを用いた発光装置

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002164482A (ja) * 2000-11-27 2002-06-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2007087983A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Dowa Holdings Co Ltd 金属−セラミックス接合基板及び熱電素子
WO2008126564A1 (ja) * 2007-03-12 2008-10-23 Toyo Tanso Co., Ltd. 放熱部材、それを用いた回路基板、電子部品モジュール及びその製造方法
JP2008277654A (ja) * 2007-05-02 2008-11-13 Mitsubishi Materials Corp ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
WO2013147144A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、パワーモジュール、及びパワーモジュール用基板の製造方法
JP2013229561A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Mitsubishi Materials Corp 接合体の製造方法、パワーモジュールの製造方法、パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP2014026769A (ja) * 2012-07-25 2014-02-06 Panasonic Corp 車両用前照灯
JP2014054653A (ja) * 2012-09-12 2014-03-27 Mitsubishi Materials Corp Au−Sn合金含有ペースト、Au−Sn合金薄膜及びその成膜方法
JP2014112696A (ja) * 2014-01-09 2014-06-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 波長変換素子、及びそれを備える光源
JP2015149349A (ja) * 2014-02-05 2015-08-20 三菱マテリアル株式会社 下地層付き金属部材、絶縁回路基板、半導体装置、ヒートシンク付き絶縁回路基板、及び、下地層付き金属部材の製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7023084B2 (en) * 2003-03-18 2006-04-04 Sumitomo Metal (Smi) Electronics Devices Inc. Plastic packaging with high heat dissipation and method for the same
JP5030633B2 (ja) 2007-03-26 2012-09-19 Jfeスチール株式会社 Cr−Cu合金板、半導体用放熱板及び半導体用放熱部品
WO2009148640A2 (en) * 2008-02-22 2009-12-10 Dow Global Technologies Inc. Thermal energy storage materials
US8304324B2 (en) * 2008-05-16 2012-11-06 Corporation For National Research Initiatives Low-temperature wafer bonding of semiconductors to metals
US20120061695A1 (en) * 2009-03-24 2012-03-15 Kang Kim Light-emitting diode package
JP2012174902A (ja) * 2011-02-22 2012-09-10 Stanley Electric Co Ltd 窒化物半導体発光素子の製造方法
JP6079223B2 (ja) 2011-12-28 2017-02-15 日亜化学工業株式会社 発光装置用パッケージ成形体
JP2013229579A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Mitsubishi Materials Corp パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
US8692299B2 (en) * 2012-08-24 2014-04-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Two-step shallow trench isolation (STI) process
WO2014061588A1 (ja) * 2012-10-16 2014-04-24 三菱マテリアル株式会社 ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール、及びヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法
JP6307832B2 (ja) * 2013-01-22 2018-04-11 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール
WO2014157178A1 (ja) * 2013-03-29 2014-10-02 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール
JP6621076B2 (ja) * 2013-03-29 2019-12-18 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP6183118B2 (ja) 2013-09-30 2017-08-23 日亜化学工業株式会社 発光装置
CN105580131B (zh) * 2013-10-10 2021-03-12 三菱综合材料株式会社 自带散热器的功率模块用基板及其制造方法
JP6575386B2 (ja) * 2015-03-11 2019-09-18 三菱マテリアル株式会社 接合体の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、及び、ヒートシンクの製造方法
TWM542254U (zh) * 2017-01-20 2017-05-21 Shiu Li Technology Co Ltd 具有網印或噴塗電路之散熱器

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002164482A (ja) * 2000-11-27 2002-06-07 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JP2007087983A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Dowa Holdings Co Ltd 金属−セラミックス接合基板及び熱電素子
WO2008126564A1 (ja) * 2007-03-12 2008-10-23 Toyo Tanso Co., Ltd. 放熱部材、それを用いた回路基板、電子部品モジュール及びその製造方法
JP2008277654A (ja) * 2007-05-02 2008-11-13 Mitsubishi Materials Corp ヒートシンク付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
WO2013147144A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、パワーモジュール、及びパワーモジュール用基板の製造方法
JP2013229561A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Mitsubishi Materials Corp 接合体の製造方法、パワーモジュールの製造方法、パワーモジュール用基板及びパワーモジュール
JP2014026769A (ja) * 2012-07-25 2014-02-06 Panasonic Corp 車両用前照灯
JP2014054653A (ja) * 2012-09-12 2014-03-27 Mitsubishi Materials Corp Au−Sn合金含有ペースト、Au−Sn合金薄膜及びその成膜方法
JP2014112696A (ja) * 2014-01-09 2014-06-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 波長変換素子、及びそれを備える光源
JP2015149349A (ja) * 2014-02-05 2015-08-20 三菱マテリアル株式会社 下地層付き金属部材、絶縁回路基板、半導体装置、ヒートシンク付き絶縁回路基板、及び、下地層付き金属部材の製造方法

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