JP2017039068A - 清掃部材、塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スリットノズルの先端部に接触しつつ前記スリットノズルの長手方向に沿って相対的に移動することで前記先端部を清掃する清掃部材であって、前記先端部に当接可能な当接部を有し、ゴム弾性を有する第一の部材と、前記第一の部材の内部に少なくとも一部が埋め込まれ、前記第一の部材よりも高い剛性を有する第二の部材と、を含む。
【選択図】図5
Description
特許文献2には、ゴム弾性を有するシート状の高分子樹脂からなる清掃部材が開示されている。
特許文献2では、清掃部材がゴム弾性を有するシート状の高分子樹脂からなるため、スリットノズルの先端部を清掃する際に清掃部材が過度に弾性変形することがあり、スリットノズルの先端部の付着物を十分にかき落とすことができない虞がある。
これら特許文献1及び2においては、スリットノズルを清浄に保つ上で課題があった。
この構成によれば、金属板又は樹脂板はゴム板よりも高い剛性を有するため、第二の部材をゴム板によって形成する場合と比較して、清掃部材の剛性を確保しやすい。
この構成によれば、スリットノズルの先端部を清掃する際に、前記先端部に当接部をしっかりと当接させることができるため、スリットノズルの先端部の付着物を十分にかき落とすことができる。
この構成によれば、スリットノズルの先端部を清掃する際に、ノズル先端に第一当接部を当接させると共に、ノズル側壁に第二当接部を当接させることができるため、ノズル先端及びノズル側壁の付着物を十分にかき落とすことができる。
この構成によれば、第二当接部がノズル側壁に沿うように直線状に形成される場合と比較して、第一湾曲部の弾性変形によってノズル側壁に第二当接部をしっかりと当接させることができるため、ノズル側壁の付着物を十分にかき落とすことができる。
この構成によれば、第二当接部の内部に保持部が埋め込まれない場合と比較して、第二当接部が過度に弾性変形することを抑制することができるため、ノズル側壁の付着物を十分にかき落とすことができる。
この構成によれば、保持部がノズル側壁に沿うように直線状に形成される場合と比較して、第二湾曲部によって第一湾曲部が部分的に弾性変形することを抑制することができるため、ノズル側壁に第二当接部をより均等に当接させることができ、ノズル側壁の付着物をより効果的にかき落とすことができる。
この構成によれば、スリットノズルの先端部を清掃する際に、当接部を第一壁部で保持すると共に、第一壁部を第二壁部で保持することができるため、当接部が保持部から脱離したり、ちぎれたりすることを抑制することができる。
この構成によれば、第一壁部の厚みを前記第二当接部の厚みと同等以上とする場合と比較して、第二当接部の厚みを十分に確保することができるため、第一湾曲部の機能(弾性変形機能)を効果的に発揮することができ、ノズル側壁の付着物を十分にかき落とすことができる。
又、ゴムは金属よりも高価であるため、第一壁部の厚みを前記第二当接部の厚みと同等以上とする場合と比較して、ゴムの使用量を抑えることができ、低コスト化を図ることができる。
この構成によれば、一対の第二当接部を前記第二当接部の厚みが互いに異なるように形成する場合と比較して、一対の第二当接部のいずれか一方に片寄って弾性変形が生じることを抑制することができるため、前記先端部の両側のノズル側壁に一対の第二当接部をより均等に当接させることができ、前記先端部の両側のノズル側壁の付着物をより効果的にかき落とすことができる。
この構成によれば、第一の部材を第二の部材と重なる部分の厚みが第二の部材の厚みと異なるように形成する場合と比較して、第一の部材の機能(弾性変形機能)を確保すると共に、第二の部材の機能(剛性保持機能)を確保することができる。仮に、清掃部材の厚みを一定とした条件下で、第一の部材の厚みが第二の部材の厚みよりも過度に大きくなると、第二の部材の厚みが過度に小さくなり、清掃部材の剛性を確保しにくくなる。一方、第一の部材の厚みが第二の部材の厚みよりも過度に小さくなると、第一の部材が弾性変形しにくくなる。
この構成によれば、スリットノズルの先端部を清掃する際に、当接部によってかき落とした付着物を傾斜部に沿って前記先端部から離反する位置に案内することができるため、かき落とした付着物が当接部にとどまることを抑制し、前記先端部に再度付着することを抑制することができる。
この構成によれば、スリットノズルの先端部を清掃する際に、第一当接部によってかき落とした付着物を第一傾斜部に沿ってノズル先端から離反する位置に案内すると共に、第二当接部によってかき落とした付着物を第二傾斜部に沿ってノズル側壁から離反する位置に案内することができるため、かき落とした付着物が第一当接部及び第二当接部にとどまることを抑制し、ノズル先端及びノズル側壁に再度付着することを抑制することができる。
この構成によれば、スリットノズルの先端部を清掃する際に、一対の第二当接部によってかき落とした付着物を第二傾斜部及びサイド部に沿ってセンター部の側に向けて案内すると共に、センター部に案内された付着物をセンター部に沿ってノズル先端から離反する位置に案内することができるため、かき落とした付着物が第二傾斜部、サイド部及びセンター部にとどまることを抑制し、ノズル先端及びノズル側壁に再度付着することを抑制することができる。
この構成によれば、傾斜部が形成される側において第二の部材を露出させた場合のように、当接部によってかき落とした付着物を傾斜部に沿って前記先端部から離反する位置に案内するときに、かき落とした付着物が第一の部材と第二の部材との境界部分(段差部)にとどまることに起因する汚れの発生は問題とならない。
又、傾斜部が形成される側において第二の部材を露出させた場合と比較して、スリットノズルの先端部を清掃する際に、前記境界部分に剥離方向の力はかからないため、第一の部材が第二の部材から脱離したり、ちぎれたりすることを抑制することができる。
この構成によれば、第二の部材は第一の部材よりも高い剛性を有するため、第一の部材に前記規制部を設ける場合と比較して、前記先端部に対する清掃部材の位置決めを精度よく行うことができる。
この構成によれば、清掃部材の位置を規制する際に、ゴム弾性を有する第一の部材を介さずに済むため、前記先端部に対する清掃部材の位置決めを精度よく行うことができる。
又、傾斜部が形成される側とは反対側において前記開口部が形成されることで、傾斜部が形成される側において前記開口部を形成した場合のように、当接部によってかき落とした付着物を傾斜部に沿って前記先端部から離反する位置に案内するときに、かき落とした付着物が第一の部材と第二の部材との境界部分(段差部)にとどまることに起因する汚れの発生は問題とならない。
この構成によれば、上記の清掃部材によって、スリットノズルを清浄に保つことができる。
この方法によれば、上記の清掃部材によってスリットノズルの先端部を清掃することができるため、スリットノズルを清浄に保つことができる。
図1に示すように、塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板などの基板S上に塗布液としてレジスト液を塗布する装置である。塗布装置1は、基板Sを搬送する基板搬送部2と、レジスト液を塗布する塗布部3と、塗布部3を管理する管理部4とを備える。
基板搬送部2は、X方向に長手を有する。基板搬送部2は、X方向に基板Sを搬送する。
基板搬送部2は、フレーム21と、ステージ22と、搬送機構23とを備える。
図1及び図2に示すように、フレーム21は、X方向に長手を有する。フレーム21は、ステージ22及び搬送機構23を支持する。例えば、フレーム21は、床面上に載置される。
フレーム中央部21a、第一フレーム側部21b及び第二フレーム側部21cのX方向の長さは、略同じとされる。
フレーム中央部21aは、ステージ22を支持する。
第一フレーム側部21b及び第二フレーム側部21cは、搬送機構23を支持する。
搬送機構23は、基板SをX方向に搬送する機構を有する。搬送機構23は、第一フレーム側部21b及び第二フレーム側部21cの上部に一つずつ設けられる。搬送機構23は、ステージ22を挟んで一対設けられる。一対の搬送機構23は、ステージ22のY方向中央に対して線対称となっている。
尚、上記基板Sの半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、2つの搬送機構23で基板を1枚ずつ保持することができるため、2つの搬送機構23をX方向に並進させることによって、2枚の基板を同時に搬送することができる。
塗布部3は、門型フレーム31と、スリットノズル32と、センサ33とを備える。以下、スリットノズルを単に「ノズル」ということがある。
図2に示すように、門型フレーム31は、Z方向に延びる柱状をなす一対の支柱部材31aと、Y方向に延びて一対の支柱部材31aの間をわたす架橋部材31bとを備える。
各支柱部材31aは、それぞれ第一フレーム側部21b及び第二フレーム側部21cに支持される。各支柱部材31aの高さ(上端の位置)は、略同じとされる。
レール部材35は、第一フレーム側部21b及び第二フレーム側部21cの溝21d内に1つずつ設けられる。
駆動機構36は、門型フレーム31に接続される。塗布部3は、駆動機構36の駆動によって、レール部材35に沿ってX方向(図1中矢印n方向)に移動可能とされる。
スリットノズル32は、Y方向(図中矢印v方向)に長手を有する長尺状をなす。スリットノズル32は、門型フレーム31の架橋部材31bの下端部(−Z方向側の端部)に着脱可能に取り付けられる。スリットノズル32の先端部32a(−Z方向側の端部)は、スリットノズル32の下端に位置するノズル先端32bと、ノズル先端32bに隣接して傾斜するノズル側壁32cとを備える。ノズル先端32bには、レジスト液を吐出する吐出口32hが形成される。吐出口32hは、Y方向に延びる。
架橋部材31bの下端部には、Y方向に沿って複数(例えば本実施形態では3つ)のセンサ33が設けられる。センサ33は、ノズル先端32bと、ノズル先端32bに対向する対向面(例えばスリットノズル32の下方に配置された基板Sの上面)との間の距離(Z方向の間隔)を測定する。
図1に示すように、管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト液の吐出量が一定になるようにスリットノズル32を管理する。管理部4は、塗布部3よりも−X方向側に設けられる。管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、収容部44を保持する保持部材45とを備える。
ディップ槽42の内部には、シンナーなどの溶剤が貯留される。
レール部材47は、第一フレーム側部21b及び第二フレーム側部21cの溝21e内に1つずつ設けられる。各溝21eは、上述した溝21dよりも上方位置において、一対の溝21dよりもステージ22寄りに配置される。
駆動機構48は、保持部材45に接続される。管理部4は、駆動機構48の駆動によって、レール部材47に沿ってX方向(図1中矢印m方向)に移動可能とされる。
図3及び図4に示すように、清掃装置50は、清掃部材51、ホルダ52及び清掃部材移動機構53を備える。ここで、清掃部材移動機構53は、請求項に記載の「移動部」に相当する。尚、図3においては、便宜上、清掃部材移動機構53における収容部92の内部を示している。
図5〜図8に示すように、清掃部材51は、第一の部材60と、第二の部材70とを備える。
第一の部材60は、スリットノズル32の先端部32a(図8参照)に当接可能な当接部61を有する。第一の部材60は、ゴム弾性を有する。例えば、第一の部材60は、フッ素ゴム等のゴム(弾性部材)によって形成される。
第二の部材70の一部は、第一の部材60の内部に埋め込まれている。第二の部材70は、第一の部材60よりも高い剛性を有する。第二の部材70は、第一の部材60の輪郭に沿う外形を有する。第二の部材70は、厚みt20を有する板状をなす。例えば、第二の部材70は、SUS304等の金属板によって形成される。尚、第二の部材70は、ポリフェニレンサルファイド樹脂(PPS;Poly Phenylene Sulfide)及びポリエーテルエーテルケトン樹脂(PEEK;Poly Ether Ether Ketone)等の樹脂板によって形成されてもよい。但し、金属板は樹脂板よりも高い剛性を有するため、第二の部材70を樹脂板よりも金属板で形成したほうが、清掃部材51の剛性を確保しやすい。
第一当接部62は、ノズル先端32bの先端面(XY平面)と平行に、幅方向(X方向)に延びる。
第二当接部63は、ノズル側壁に向けて凸をなすように湾曲する第一湾曲部63aを備える。
第二の部材70は、保持部71に連なると共に第一壁部64を保持する第二壁部72を備える。
第一壁部64の厚みt11は、第一湾曲部63aと第二湾曲部71aとの間の第二当接部63の厚みt12よりも小さい(t11<t12)。例えば、第一壁部64の厚みt11は、1mm程度とされる。一方、第一湾曲部63aと第二湾曲部71aとの間の第二当接部63の厚みt12は、3mm程度とされる。
一対の第二当接部63は、第一湾曲部63aと第二湾曲部71aとの間の第二当接部63の厚みt12が互いに同じになるように形成される。
第二の部材70は、第二壁部72に隣接する下壁部73を備える。
ここで、第一の部材60における第二の部材70と重なる部分の厚みt10は、後述するカバー部69の厚みに相当する。
傾斜部66は、第一当接部62に形成される第一傾斜部67と、第二当接部63に形成される第二傾斜部68とを備える。
第一傾斜部67及び第二傾斜部68は、それぞれスリットノズル32の長手方向vの一側v1(−Y方向側)ほど先端部32aから離反するように傾斜する。
スリットノズル32の長手方向vの一側v1(−Y方向側)から見て、センター部67aは上下に延びる長方形状をなし、サイド部67bはセンター部67aの長辺と重なる斜辺を有する三角形状をなす。
サイド部67bは、センター部67aの側ほどノズル先端32bから離反するように傾斜する。
図3及び図4に示すように、ホルダ52は、清掃部材51を下方から支持する。
ホルダ52は、基部80、側壁部81、第一台座部82及び第二台座部83を備える。
例えば、ホルダ52は、A5052等のアルミニウム合金によって形成される。
基部80の+Y方向端部には、厚み方向に貫通する貫通孔80hが形成される。貫通孔80hは、基部80の幅方向(X方向)中央に位置する。
基部80の−Y方向端部には、下方(−Z方向側)に開口して上方に窪む凹部80iが形成される。凹部80iは、基部80の幅方向(X方向)中央に位置する。
各側壁部81には、清掃部材51を+Y方向側から支持する支持プレート55が着脱自在に取り付けられる。
支持プレート55は、清掃部材51の幅方向(X方向)に延びるプレート本体55aと、プレート本体55aのX方向両端部からクランク状に屈曲する脚部55bとを備える。例えば、支持プレート55は、金属板を曲げ加工することによって形成される。
清掃部材移動機構53は、リフト機構90、駆動アーム91及び収容部92を備える。
リフト機構90は、ストローク部90a、天板部90b及びフランジ部90cを備える。
ストローク部90aは、上下(Z方向)に延びる円柱状をなす。ストローク部90aは、上下方向(Z方向)に伸縮可能に構成されている。例えば、ストローク部90aには、上下方向に伸縮可能なシリンダ機構(不図示)が内蔵されている。
フランジ部90cは、ストローク部90aの下端部から径方向外側に突出する環状をなす。
支持アーム91aは、ストローク部90aの下端部を支持する。例えば、支持アーム91aは、ストローク部90aの下端部を支持可能な大きさの環状をなしている。
収容部本体92aは、リフト機構90を収容する。例えば、収容部本体92aは、リフト機構90を収容可能な大きさの筒状をなしている。
上壁部92bには、上下方向に開口する開口部92hが形成される。開口部92hは、ホルダ52を通過可能な大きさとされている。
次に、本実施形態に係る塗布方法を説明する。本実施形態では、上記の塗布装置1を用いて基板Sにレジスト液を塗布する。
吐出ステップにおいて、スリットノズル32からレジスト液を吐出する。
清掃ステップにおいて、清掃部材51によってスリットノズル32の先端部32aを清掃する。
以下、塗布方法の一例について説明する。
基板Sの搬送方向先端がスリットノズル32の吐出口32hの位置に到達したとき、吐出口32hから基板Sにレジスト液を吐出する。例えば、レジスト液の吐出は、スリットノズル32の位置を固定し、且つ、搬送機23aで基板Sを搬送することによって、吐出口32hと基板Sの上面との相対位置を変更しながら行う。
次の基板Sが搬送されてくるまでの間、塗布部3では、スリットノズル32の吐出状態を保持するための予備吐出が行われる。門型フレーム31は、駆動機構36の駆動によって、レール部材35に沿って−X方向に移動し、管理部4の位置に至る。
又、吸引機構(不図示)によって、周囲の雰囲気を吸引してもよい。これにより、洗浄液及びかき落とされた付着物を吸引することができる。
(1)清掃部材51をスリットノズル32の先端部32aの+Y方向側端部の−Z方向側に配置する。(2)次いで、清掃部材51を+Z方向側に移動させ、当接部61をスリットノズル32の先端部32aに当接させる。(3)この状態で、清掃部材51をスリットノズル32の長手方向vの一側v1(−Y方向側)に移動させることによって、当接部61をノズル先端32b及びノズル側壁32cに沿って摺動させる。(4)そして、清掃部材51をスリットノズル32の先端部32aの−Y方向端を超える位置まで移動させる。
又、ゴムは金属よりも高価であるため、第一壁部64の厚みt11を第二当接部63の厚みt12と同等以上とする場合と比較して、ゴムの使用量を抑えることができ、低コスト化を図ることができる。
又、傾斜部66が形成される側において第二の部材70を露出させた場合と比較して、スリットノズル32の先端部32aを清掃する際に、前記境界部分に剥離方向の力はかからないため、第一の部材60が第二の部材70から脱離したり、ちぎれたりすることを抑制することができる。
又、傾斜部66が形成される側とは反対側において前記開口部60hが形成されることで、傾斜部66が形成される側において前記開口部60hを形成した場合のように、当接部61によってかき落とした付着物を傾斜部66に沿って前記先端部32aから離反する位置に案内するときに、かき落とした付着物が第一の部材60と第二の部材70との境界部分(段差部)にとどまることに起因する汚れの発生は問題とならない。
例えば、上記実施形態においては、塗布装置1が、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板などの基板S上に塗布液としてレジスト液を塗布する例を挙げたが、これに限らない。例えば、基板Sとしてガラス基板以外の基板を用いてもよいし、塗布液としてレジスト液以外の液体を用いてもよい。
Claims (19)
- スリットノズルの先端部に接触しつつ前記スリットノズルの長手方向に沿って相対的に移動することで前記先端部を清掃する清掃部材であって、
前記先端部に当接可能な当接部を有し、ゴム弾性を有する第一の部材と、
前記第一の部材の内部に少なくとも一部が埋め込まれ、前記第一の部材よりも高い剛性を有する第二の部材と、
を含む清掃部材。 - 前記第二の部材は、金属板又は樹脂板によって形成される
請求項1に記載の清掃部材。 - 前記当接部には、前記スリットノズルの長手方向から見てV字状をなす前記先端部が嵌め込まれるように窪む凹部が形成される
請求項1又は2に記載の清掃部材。 - 前記当接部は、
前記先端部のノズル先端に当接可能な第一当接部と、
前記ノズル先端に隣接して傾斜するノズル側壁に当接可能な第二当接部と、を含む
請求項1〜3の何れか一項に記載の清掃部材。 - 前記第二当接部は、前記ノズル側壁に向けて凸をなすように湾曲する第一湾曲部を含む
請求項4に記載の清掃部材。 - 前記第二の部材は、前記第二当接部の内部に少なくとも一部が埋め込まれることで前記第二当接部を保持する保持部を含む
請求項4又は5に記載の清掃部材。 - 前記第二当接部は、前記ノズル側壁に向けて凸をなすように湾曲する第一湾曲部を含み、
前記保持部は、前記第一湾曲部に沿うように湾曲する第二湾曲部を含む
請求項6に記載の清掃部材。 - 前記第一の部材は、前記当接部に連なる第一壁部を含み、
前記第二の部材は、前記保持部に連なると共に前記第一壁部を保持する第二壁部を含む
請求項6又は7に記載の清掃部材。 - 前記第二当接部は、前記ノズル側壁に向けて凸をなすように湾曲する第一湾曲部を含み、
前記保持部は、前記第一湾曲部に沿うように湾曲する第二湾曲部を含み、
前記第一壁部の厚みは、前記第一湾曲部と前記第二湾曲部との間の前記第二当接部の厚みよりも小さい
請求項8に記載の清掃部材。 - 前記第二の部材は、前記第二当接部の内部に少なくとも一部が埋め込まれることで前記第二当接部を保持する保持部を含み、
前記第二当接部は、前記ノズル側壁に向けて凸をなすように湾曲する第一湾曲部を含み、
前記保持部は、前記第一湾曲部に沿うように湾曲する第二湾曲部を含み、
前記第二当接部は、前記先端部を挟んで前記先端部の両側の前記ノズル側壁に当接するように一対設けられ、
一対の前記第二当接部は、前記第一湾曲部と前記第二湾曲部との間の前記第二当接部の厚みが互いに同じになるように形成される
請求項4〜9の何れか一項に記載の清掃部材。 - 前記第二の部材は板状をなし、
前記第一の部材は、前記第二の部材と重なる部分の厚みが前記第二の部材の厚みと同じになるように形成される
請求項1〜10の何れか一項に記載の清掃部材。 - 前記当接部には、前記スリットノズルの長手方向の一側ほど前記先端部から離反するように傾斜する傾斜部が形成される
請求項1〜11の何れか一項に記載の清掃部材。 - 前記当接部は、
前記先端部のノズル先端に当接可能な第一当接部と、
前記ノズル先端に隣接して傾斜するノズル側壁に当接可能な第二当接部と、を含み、
前記傾斜部は、
前記第一当接部に形成されると共に、前記スリットノズルの長手方向の一側ほど前記ノズル先端から離反するように傾斜する第一傾斜部と、
前記第二当接部に形成されると共に、前記スリットノズルの長手方向の一側ほど前記ノズル側壁から離反するように傾斜する第二傾斜部と、を含む
請求項12に記載の清掃部材。 - 前記第二当接部は、前記先端部を挟んで前記先端部の両側の前記ノズル側壁に当接するように一対設けられ、
前記第一傾斜部は、
一対の前記第二当接部に形成される前記第二傾斜部の間の中央に位置し、前記第一傾斜部のうち最も前記ノズル先端から離反するように傾斜するセンター部と、
前記センター部と前記第二傾斜部とを渡すと共に、前記センター部の側ほど前記ノズル先端から離反するように傾斜するサイド部と、を含む
請求項13に記載の清掃部材。 - 前記第一の部材は、前記傾斜部が形成される側において前記第二の部材を覆うカバー部を含む
請求項12〜14の何れか一項に記載の清掃部材。 - 前記第二の部材には、前記先端部に対する前記清掃部材の位置を規制する規制部が設けられる
請求項1〜15の何れか一項に記載の清掃部材。 - 前記当接部には、前記スリットノズルの長手方向の一側ほど前記先端部から離反するように傾斜する傾斜部が形成され、
前記第一の部材には、前記傾斜部が形成される側とは反対側において前記第二の部材を露出する開口部が形成され、
前記規制部は、前記開口部から露出した前記第二の部材に設けられる
請求項16に記載の清掃部材。 - スリットノズルを有する塗布部と、
請求項1〜17の何れか一項に記載の清掃部材と、
前記清掃部材を前記スリットノズルの長手方向に移動させる移動部と、
を含む塗布装置。 - スリットノズルを有する塗布部と、
請求項1〜17の何れか一項に記載の清掃部材と、
前記清掃部材を前記スリットノズルの長手方向に移動させる移動部と、を含む塗布装置を用いた塗布方法であって、
前記スリットノズルから塗布液を吐出する吐出ステップと、
前記清掃部材によって前記スリットノズルの先端部を清掃する清掃ステップと、
を含む塗布方法。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0375954U (ja) * | 1989-11-27 | 1991-07-30 | ||
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0375954U (ja) * | 1989-11-27 | 1991-07-30 | ||
JP2006095651A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Nitta Ind Corp | 工作機械用ワイパー |
JP2012185404A (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-27 | Toray Ind Inc | 清掃部材と塗布器の清掃方法及び清掃装置並びにディスプレイ用部材の製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108855720A (zh) * | 2017-05-11 | 2018-11-23 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法 |
JP2018187598A (ja) * | 2017-05-11 | 2018-11-29 | 株式会社Screenホールディングス | ノズル清掃装置、塗布装置およびノズル清掃方法 |
JP2018187599A (ja) * | 2017-05-11 | 2018-11-29 | 株式会社Screenホールディングス | ノズル清掃装置、塗布装置およびノズル清掃方法 |
CN108855720B (zh) * | 2017-05-11 | 2021-04-23 | 株式会社斯库林集团 | 喷嘴清扫装置、涂敷装置和喷嘴清扫方法 |
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