JP2017028125A - 半導体レーザ素子 - Google Patents
半導体レーザ素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017028125A JP2017028125A JP2015145872A JP2015145872A JP2017028125A JP 2017028125 A JP2017028125 A JP 2017028125A JP 2015145872 A JP2015145872 A JP 2015145872A JP 2015145872 A JP2015145872 A JP 2015145872A JP 2017028125 A JP2017028125 A JP 2017028125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- substrate
- semiconductor laser
- bcb
- inp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】InP基板801上に、InP基板に対して水平方向に光を出射するレーザ共振器802、InP基板の表面の凹部の傾斜面に形成された傾斜ミラー804でありレーザ共振器から出力光の出射方向を変換する傾斜ミラー、およびInP基板の表面の光軸上に誘電体材料によって形成したレンズ806を備えた半導体レーザ素子800において、InP基板の表面の凹部を誘電体材料840を用いて平坦化し、平坦化された凹部を含むInP基板の表面にレンズを作製した。
【選択図】図8
Description
図8は、本発明の実施形態に係るBCBによる平坦化プロセスを用いBCBレンズを集積したレンズ集積型半導体レーザ素子(表面出射型半導体レーザ素子)を示す。図8の表面出射型半導体レーザ素子800は、InP基板801の表面側に該InP基板に水平な方向に形成されたレーザ共振器802と、光導波路830と、傾斜ミラー804と、BCBレンズ806とを備える。レーザ共振器802は、下部分離閉じ込め(SCH)層810と、活性層(多重量子井戸)812と、上部SCH814と、回折格子816と、レーザ共振器802に電流を印加する電極820とを備える。傾斜ミラー804は、凹部の傾斜面に形成されている。凹部は光導波路830よりも深く、凹部の傾斜面は光導波路830の断面を含む。凹部は、誘電体(BCB)840を用いて平坦化され、誘電体レンズ806は、平坦化された凹部を含む基板の表面に位置する。誘電体レンズ806は、基板の表面の光軸上に位置する。レーザ共振器802からの出力光は、導波路830を伝搬し、45°傾斜ミラー804で進行方向が変換され、基板の表面に集積されたBCBレンズ806により所望のスポットサイズに変換される。
図10は、本実施例に係る複数のレーザ共振器を実装した表面出射型レーザ素子の断面図を示す。図10の表面出射型レーザ素子1000は、並列に配列された複数組のレーザ共振器1002、導波路1030、およびBCBレンズ1006を備える。傾斜ミラー1004は一括してエッチングされた凹部の傾斜面に形成されている。また、凹部はBCBにより平坦化されている。BCBレンズ1006は、BCBにより平坦化された凹部を含む基板の表面に位置する。BCBレンズ1006は、基板の表面の光軸上に位置する。
102 レーザ共振器
104 45°傾斜ミラー
106 InPレンズ
200,300,400,500,800,1000 表面出射型レーザ素子
204 45°傾斜ミラー
213 Distributed FeedBack(DFB)回折格子付活性層
217 反射防止膜を形成した小領域
220 p型電極
222 n型電極
301,801,1001 InP基板
302,802,1002 レーザ共振器
304,404,504,804,1004 傾斜ミラー
306,406 InPレンズ
310,810 下部SCH層
312,812 活性層
314,814 上部SCH層
316,816 回折格子
320,820 電極
330,430,530,830,1030 光導波路
540,840,974,1040 誘電体
506,806,1006 誘電体(BCB)レンズ
972 エッチングマスク
1050 合波素子
1051 石英系基板
1052 石英系導波路
1054 傾斜ミラー
1056 石英系レンズ
Claims (3)
- InP基板上に、前記InP基板に対して水平方向に光を出射するレーザ共振器、前記InP基板の表面の凹部の傾斜面に形成された傾斜ミラーであり前記レーザ共振器から出力光の出射方向を変換する傾斜ミラー、および前記InP基板の表面の光軸上に誘電体材料によって形成したレンズを備えた半導体レーザ素子であって、
前記InP基板の表面の前記凹部は、誘電体材料を用いて平坦化され、
前記レンズは、平坦化された前記凹部を含む前記InP基板の表面に位置する、ことを特徴とする半導体レーザ素子。 - 前記誘電体材料は、ベンゾシクロブテンである、ことを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ素子。
- 前記InP基板上に、前記レーザ共振器と前記レンズの組が複数配列されている、ことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体レーザ素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015145872A JP6527415B2 (ja) | 2015-07-23 | 2015-07-23 | 半導体レーザ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015145872A JP6527415B2 (ja) | 2015-07-23 | 2015-07-23 | 半導体レーザ素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017028125A true JP2017028125A (ja) | 2017-02-02 |
JP6527415B2 JP6527415B2 (ja) | 2019-06-05 |
Family
ID=57945911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015145872A Active JP6527415B2 (ja) | 2015-07-23 | 2015-07-23 | 半導体レーザ素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6527415B2 (ja) |
Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63228789A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光半導体装置およびその製造方法 |
JPH01189978A (ja) * | 1988-01-25 | 1989-07-31 | Nec Corp | 面発光型半導体レーザー |
JPH02177585A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Hikari Gijutsu Kenkyu Kaihatsu Kk | 光半導体装置 |
JPH02231786A (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 面発光レーザ装置およびその製造方法 |
JPH0485503A (ja) * | 1990-07-30 | 1992-03-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体光入出力回路の製造方法 |
JPH06177486A (ja) * | 1992-12-07 | 1994-06-24 | Sony Corp | 発光素子及びその製造方法 |
JPH0722706A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-01-24 | Sony Corp | 発光装置及びその視覚方法及びその駆動方法 |
JPH0846292A (ja) * | 1994-07-29 | 1996-02-16 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザ素子及びその製造方法 |
JP2000123716A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Fujitsu Ltd | 微小電子源 |
US20020003824A1 (en) * | 2000-05-31 | 2002-01-10 | Lo Yu-Hwa | Surface-emitting laser devices with integrated beam-shaping optics and power-monitoring detectors |
US6611544B1 (en) * | 2000-04-11 | 2003-08-26 | E20 Communications, Inc. | Method and apparatus for narrow bandwidth distributed bragg reflector semiconductor lasers |
JP2007086367A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Ibiden Co Ltd | 光ピン、光ピンコネクタ及び光路変換用モジュール |
JP2009020538A (ja) * | 2003-03-31 | 2009-01-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光半導体素子および光半導体集積回路 |
JP2013236067A (ja) * | 2012-04-10 | 2013-11-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光半導体装置及びその製造方法 |
JP2014035435A (ja) * | 2012-08-08 | 2014-02-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光結合回路素子及びその作製方法 |
JP2014212232A (ja) * | 2013-04-19 | 2014-11-13 | 富士通株式会社 | Ge系ナノワイヤ光素子及びその製造方法 |
JP2015108647A (ja) * | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 住友ベークライト株式会社 | レンズ付き光導波路の製造方法、レンズ付き光導波路、光電気混載基板および電子機器 |
-
2015
- 2015-07-23 JP JP2015145872A patent/JP6527415B2/ja active Active
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63228789A (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光半導体装置およびその製造方法 |
JPH01189978A (ja) * | 1988-01-25 | 1989-07-31 | Nec Corp | 面発光型半導体レーザー |
JPH02177585A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Hikari Gijutsu Kenkyu Kaihatsu Kk | 光半導体装置 |
JPH02231786A (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 面発光レーザ装置およびその製造方法 |
JPH0485503A (ja) * | 1990-07-30 | 1992-03-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体光入出力回路の製造方法 |
JPH06177486A (ja) * | 1992-12-07 | 1994-06-24 | Sony Corp | 発光素子及びその製造方法 |
JPH0722706A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-01-24 | Sony Corp | 発光装置及びその視覚方法及びその駆動方法 |
JPH0846292A (ja) * | 1994-07-29 | 1996-02-16 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザ素子及びその製造方法 |
JP2000123716A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-28 | Fujitsu Ltd | 微小電子源 |
US6611544B1 (en) * | 2000-04-11 | 2003-08-26 | E20 Communications, Inc. | Method and apparatus for narrow bandwidth distributed bragg reflector semiconductor lasers |
US20020003824A1 (en) * | 2000-05-31 | 2002-01-10 | Lo Yu-Hwa | Surface-emitting laser devices with integrated beam-shaping optics and power-monitoring detectors |
JP2009020538A (ja) * | 2003-03-31 | 2009-01-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光半導体素子および光半導体集積回路 |
JP2007086367A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | Ibiden Co Ltd | 光ピン、光ピンコネクタ及び光路変換用モジュール |
JP2013236067A (ja) * | 2012-04-10 | 2013-11-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光半導体装置及びその製造方法 |
JP2014035435A (ja) * | 2012-08-08 | 2014-02-24 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光結合回路素子及びその作製方法 |
JP2014212232A (ja) * | 2013-04-19 | 2014-11-13 | 富士通株式会社 | Ge系ナノワイヤ光素子及びその製造方法 |
JP2015108647A (ja) * | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 住友ベークライト株式会社 | レンズ付き光導波路の製造方法、レンズ付き光導波路、光電気混載基板および電子機器 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
STEGMULLER ET AL.: "Surface Emitting InGaAsP/InP Distributed Feedback Laser Diode at 1.53 um with Monolithic Integrated", IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, vol. 3, no. 9, JPN6018015253, September 1991 (1991-09-01), US, pages 776 - 778, XP000225787, ISSN: 0003872869, DOI: 10.1109/68.84489 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6527415B2 (ja) | 2019-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10992104B2 (en) | Dual layer grating coupler | |
JP5177285B2 (ja) | 光素子及びその製造方法 | |
JP2008277445A (ja) | 半導体レーザおよび光モジュール | |
US9995876B2 (en) | Configurable compact photonic platforms | |
JP6487195B2 (ja) | 半導体光集積素子、半導体光集積素子の製造方法及び光モジュール | |
JP3244115B2 (ja) | 半導体レーザー | |
WO2016076793A1 (en) | An optical device and a method for fabricating thereof | |
JP5182362B2 (ja) | 光素子及びその製造方法 | |
JP2009246241A (ja) | 半導体光素子および光モジュール | |
JP6510391B2 (ja) | 半導体レーザ | |
JP4769658B2 (ja) | 共振器 | |
JP6588859B2 (ja) | 半導体レーザ | |
JP2013251394A (ja) | 半導体レーザ装置 | |
JPH05323139A (ja) | 光結合デバイス | |
JP6003069B2 (ja) | グレーティング素子及び光素子 | |
JP6247944B2 (ja) | 水平共振器面出射型レーザ素子 | |
JP5275634B2 (ja) | 光集積素子および光集積素子の製造方法 | |
WO2015133093A1 (ja) | 光導波路、それを用いた光部品および波長可変レーザ | |
JP6588858B2 (ja) | 半導体レーザ | |
JP2006203205A (ja) | 単一モード分布帰還型レーザー | |
JP2016018894A (ja) | 集積半導体光素子 | |
JP6527415B2 (ja) | 半導体レーザ素子 | |
US10725241B2 (en) | Asymmetrical spot-size converter and method of manufacturing spot-size converter | |
JP2016189437A (ja) | 半導体レーザ素子 | |
JPWO2005060058A1 (ja) | 半導体レーザーおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170629 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180508 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180705 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181101 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190510 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6527415 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |