JP2016530189A - シリコン系粉末及びそれを含有する電極 - Google Patents
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Abstract
Description
ないグループを含み、すなわち、個別のSiOHグループがSi当たり1つのOHグループを有する。好ましくは、SiOHグループの量は、1nm2当たり0.5〜1.5グループ、より好ましくは1nm2当たり0.8〜1.3グループ、最も好ましくは1nm2当たり1.0〜1.2グループである。前記シェルの外表面上にそのようなグループを所望の量で提供する1つの方法は、参照により全体で本明細書に含まれる、PCT/EP第2012/075409号の実施例4に開示されている。前記組成物に取扱い性を与えるのにもバインダー、例えばカルボキシメチルセルロース(CMC)を使用する陰極組成物の作製時、SiOHグループの存在は、許容可能なレベルの電解質分解をもたらす一方で、本発明の粉末とバインダーとの良好な相互作用を促進することが観察された。
a.粒子を含み、前記粒子が、シリコンを含有するコア並びにシェル外表面及びシェル体積を有する初期シェルを含み、そこではシェル体積が0<x≦2のSiOxを含み、かつ前記シェルが0.5nm〜nmのシェル厚さ及び10〜40m2/gのBETを有する粉末を作製するステップ、
b.粉末をHF水系溶液を備えたエッチングステップにかけて、SiOxシェルの厚さを部分除去及び/又は低減し、及びシェルの外表面上にSiOHグループを生じさせるステップ、及び
c.エッチングされた粉末を250℃〜750℃の酸化温度で5分〜80分酸化性熱処理にかけて、最大50m2/gのBETを有し、シリコンを含有するコア及びシリコン酸化物0<x≦2のSiOxを含み、前記シリコン酸化物はnが1〜4の整数であるSin+カチオンを含有し、前記シリコン酸化物がSi4+カチオンをSin+カチオンの全量の少なくとも70モル%の量で含有するシェルを含む粒子を含有する粉末を得るステップを含む。
・ゼータ電位をゼータサイザーナノシリーズ(Malvern Instrument)により脱塩水中でpHの様々な値において求める。pHをHCl 0.25Mにより調整した。スモルチョフスキーの理論を計算に使用する。
・ASAP 2000装置(Micrometrics)を用いて、粉末のBETをブルナウアー・エメット・テラーの窒素吸着法(BET法)により77Kで求める。
・Sin+カチオンの量をXPS分析及び信号のデコンボリューションにより求める(「Study of SiO2/Si Interface by Surface Techniques by C.Logofatu et al.)of Crystalline Silicon−Properties and Uses」、Prof.Sukumar Basu,ISBN 978−953−307−587−7編第2章に記載の方法に従って、http://www.intechopen.com/books/crystalline−silicon−properties−and−uses/study−of−sio2−si−interface−by−surface−techniquesから入手可能)。SiOx含有材料の酸素含有量を次のように求める。粉末の全酸素含有量をLeco TC600酸素−窒素アナライザーにより求める。最初に試料を閉じたすずカプセルに入れる。次いで、すずカプセルを黒鉛るつぼに入れ、キャリアガスとしてヘリウム下で極めて高い温度まで加熱する。この加熱過程で、全体の仕込みを溶解し、次いで酸素をSiに対する結合から解放し、るつぼからの黒鉛と反応させて、CO又はCO2ガスを形成させる。これらのガスを赤外測定セルの中に案内する。観察される信号を酸素含有量に変換する。
・粒子のSiOx含有シェルの厚さを、FEI Titan 50−80商用装置を80Vの加速電圧で用いて、走査型透過電子顕微鏡(STEM)及び電子エネルギー損失分光法(EELS)測定により求めることができる。
・粒子の表面、すなわち粒子のシェル外表面の化学組成を赤外分光法(vertex 70 Bruker分光計による拡散反射捕集方式を用いて中間及び近赤外範囲で)により調べた。DRIFT赤外分光法は、1100cm−1近傍での様々な結晶モード並びにSi−O−Siモードの存在を明らかにする。3500cm−1近傍のピークはヒドロキシル化シラノールグループに帰属可能である。2260〜2110cm−1で、異なるピークをOySiHx変形モードに帰属することができる。
・SiOx含有粒子のシェルの厚さの中の酸素含有量の勾配を、FEI Titan 50−80商用装置を80Vの加速電圧で用いて、走査型透過電子顕微鏡(STEM)及び電子エネルギー損失分光法(EELS)測定により測定した。
市販の結晶化シリコンナノ粉末(Alfa Aesar)を分析し、「粉末キャラクタリゼーション」の項の表中C−Ex 1に示す特性を得た。
国際特許第2012/000858号の実施例1に記述の方法を適合させた加工パラメーターと共に用いて、0.5gのシリコンナノ粉末を作製した。
比較実験2からの粉末を2% HF溶液中で磁気撹拌により10分間撹拌した。引き続いて、粉末をエタノールにより洗浄して、HFを除去し、室温で乾燥した。この乾燥した粉末を、「粉末製造条件」の項の表中Ex 1に表示するように、空気中300℃で10分間管状炉で酸化した。
粉末を300、500及び700℃で10〜60分間酸化したことを除いて、実施例1を繰り返した。製造条件及び粉末の特性を表中Ex 2〜Ex 9で示す。実施例4、5及び9の粉末の化学組成を求め、それぞれのIR曲線を図1中(102)、(103)及び(104)として表示した。
160mgの実施例及び比較実験の粉末、24mgのカーボンブラック(CB)及び16mgのカルボキシメチルセルロース(CMC)から複合物電極材料を作製した。200mgの複合物電極材料を窒化シリコンバイアルに導入した。100mLの脱イオン水中の3.842gのクエン酸及び0.402gのKOHにより作製した0.75mLのpH3緩衝溶液を複合物電極材料に添加した。それぞれ9.5mm直径の3個の窒化シリコン球が混合媒体としての役割をした。スラリーが得られるまで、上記の組成物を混合した。フ
リッチュ粉砕機ミキサー7を使用して、スラリーを500rpmで60分間ミル掛けした。スラリーを25μm厚の銅箔の上にテープキャストし、空気中室温で12時間、次いで真空中100℃で2時間乾燥した。得られた電極の厚さは10〜40μmであったが、これは電極当たり0.7〜1.5mg/cm2シリコンに相当する。
電気化学セル(Swagelok形)を電気化学試験に使用し、アルゴン充填したグローブボックス中で組み立てた。Li+/Lioに対して1V〜0.005Vを定電流方式で操作されるVMP自動サイクルデータ記録システム(Biologic Co.)を用いて、セルをサイクル試験した。
さを有し、かつ粉末が3質量%以下の全酸素含有量を室温で有するSi系粉末を開示)に見ることができる。
は最大20モル%である。
を有する粉末に更に関する。
ら選択される元素Mを更に含んでもよい。1つの実施形態では、Mは、ニッケル、銅、鉄、すず、アルミニウム及びコバルトからなるグループの元素の1つ又はそれ以上のいずれかを含む。最も好ましくは、MはAl又はFeである。
a.粒子を含み、前記粒子が、シリコンを含有するコア並びにシェル外表面及びシェル体積を有する初期シェルを含み、そこではシェル体積が0<x≦2のSiOxを含み、かつ前記シェルが0.5nm〜nmのシェル厚さ及び10〜40m2/gのBETを有する粉末を作製するステップ、
b.粉末をHF水系溶液を備えたエッチングステップにかけて、SiOxシェルの厚さを部分除去及び/又は低減し、及びシェルの外表面上にSiOHグループを生じさせるステップ、及び
c.エッチングされた粉末を250℃〜750℃の酸化温度で5分〜80分酸化性熱処理にかけて、最大50m2/gのBETを有し、シリコンを含有するコア及びシリコン酸化物0<x≦2のSiOxを含み、前記シリコン酸化物はnが1〜4の整数であるSin+カチオンを含有し、前記シリコン酸化物がSi4+カチオンをSin+カチオンの全量の少なくとも70モル%の量で含有するシェルを含む粒子を含有する粉末を得るステップを含む。
分間である。より好ましくは、前記酸化温度は290〜310℃であり、前記酸化時間は10〜12分間である。
・ゼータ電位をゼータサイザーナノシリーズ(Malvern Instrument)により脱塩水中でpHの様々な値において求める。pHをHCl 0.25Mにより調整した。スモルチョフスキーの理論を計算に使用する。
・ASAP 2000装置(Micrometrics)を用いて、粉末のBETをブルナウアー・エメット・テラーの窒素吸着法(BET法)により77Kで求める。
・Sin+カチオンの量をXPS分析及び信号のデコンボリューションにより求める(「Study of SiO2/Si Interface by Surface Techniques by C.Logofatu et al.)of Crystalline Silicon−Properties and Uses」、Prof.Sukumar Basu,ISBN 978−953−307−587−7編第2章に記載の方法に従って、http://www.intechopen.com/books/crystalline−silicon−properties−and−uses/study−of−sio2−si−interface−by−surface−techniquesから入手可能)。SiOx含有材料の酸素含有量を次のように求める。粉末の全酸素含有量をLeco TC600酸素−窒素アナライザーにより求める。最初に試料を閉じたすずカプセルに入れる。次いで、すずカプセルを黒鉛るつぼに入れ、キャリアガスとしてヘリウム下で極めて高い温度まで加熱する。この加熱過程で、全体の仕込みを溶解し、次いで酸素をSiに対する結合から解放し、るつぼからの黒鉛と反応させて、CO又はCO2ガスを形成させる。これらのガスを赤外測定セルの中に案内する。観察される信号を酸素含有量に変換する。
・粒子のSiOx含有シェルの厚さを、FEI Titan 50−80商用装置を80Vの加速電圧で用いて、走査型透過電子顕微鏡(STEM)及び電子エネルギー損失分光法(EELS)測定により求めることができる。
・粒子の表面、すなわち粒子のシェル外表面の化学組成を赤外分光法(vertex 70 Bruker分光計による拡散反射捕集方式を用いて中間及び近赤外範囲で)により調べた。DRIFT赤外分光法は、1100cm−1近傍での様々な結晶モード並びにSi−O−Siモードの存在を明らかにする。3500cm−1近傍のピークはヒドロキシル化シラノールグループに帰属可能である。2260〜2110cm−1で、異なるピークをOySiHx変形モードに帰属することができる。
・SiOx含有粒子のシェルの厚さの中の酸素含有量の勾配を、FEI Titan 50−80商用装置を80Vの加速電圧で用いて、走査型透過電子顕微鏡(STEM)及び電子エネルギー損失分光法(EELS)測定により測定した。
市販の結晶化シリコンナノ粉末(Alfa Aesar)を分析し、「粉末キャラクタリゼーション」の項の表中C−Ex 1に示す特性を得た。
国際特許第2012/000858号の実施例1に記述の方法を適合させた加工パラメーターと共に用いて、0.5gのシリコンナノ粉末を作製した。
得た。
比較実験2からの粉末を2% HF溶液中で磁気撹拌により10分間撹拌した。引き続いて、粉末をエタノールにより洗浄して、HFを除去し、室温で乾燥した。この乾燥した粉末を、「粉末製造条件」の項の表中Ex 1に表示するように、空気中300℃で10分間管状炉で酸化した。
粉末を300、500及び700℃で10〜60分間酸化したことを除いて、実施例1を繰り返した。製造条件及び粉末の特性を表中Ex 2〜Ex 9で示す。実施例4、5及び9の粉末の化学組成を求め、それぞれのIR曲線を図1中(102)、(103)及び(104)として表示した。
160mgの実施例及び比較実験の粉末、24mgのカーボンブラック(CB)及び16mgのカルボキシメチルセルロース(CMC)から複合物電極材料を作製した。200mgの複合物電極材料を窒化シリコンバイアルに導入した。100mLの脱イオン水中の3.842gのクエン酸及び0.402gのKOHにより作製した0.75mLのpH3
緩衝溶液を複合物電極材料に添加した。それぞれ9.5mm直径の3個の窒化シリコン球が混合媒体としての役割をした。スラリーが得られるまで、上記の組成物を混合した。フリッチュ粉砕機ミキサー7を使用して、スラリーを500rpmで60分間ミル掛けした。スラリーを25μm厚の銅箔の上にテープキャストし、空気中室温で12時間、次いで真空中100℃で2時間乾燥した。得られた電極の厚さは10〜40μmであったが、これは電極当たり0.7〜1.5mg/cm2シリコンに相当する。
電気化学セル(Swagelok形)を電気化学試験に使用し、アルゴン充填したグローブボックス中で組み立てた。Li+/Lioに対して1V〜0.005Vを定電流方式で操作されるVMP自動サイクルデータ記録システム(Biologic Co.)を用いて、セルをサイクル試験した。
物の量が比較的中庸であることにより緩和されるという仮説により説明され得ると推測する。
Claims (22)
- コア及びシェルを含有する粒子を含み、前記コアがシリコン(Si)を含有し、及び前記シェルがシリコン酸化物0<x≦2のSiOxを含有し、そこでは前記シリコン酸化物はnが1〜4の整数であるSin+カチオンを含有する粉末であって、前記シリコン酸化物がSi4+カチオンをSin+カチオンの全量の少なくとも70モル%の量で含有することを特徴とする、粉末。
- 前記シリコン酸化物がSi4+カチオンをSin+カチオンの全量の最大90モル%の量で含有する、請求項1に記載の粉末。
- 前記シェルがシェル外表面及びシェル体積を有し、前記シェル体積が0<x<2のSiOxを含み、及び前記シェル外表面がSiO2を含む、請求項1又は2に記載の粉末。
- 前記シェル体積が0<x<2のSiOxからなり、及び前記シェル外表面がSiO2からなる、請求項3に記載の粉末。
- 前記コアはコア表面を有し、xがシェルの厚さに対してシェル外表面における2からコア表面における0まで連続的に減少する、請求項3又は4に記載の粉末。
- xが前記シェルの厚さに対して連続的な変化率を有する、請求項5に記載の粉末。
- 前記シェルが1〜5nmのシェル厚さを有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の粉末。
- 前記シェルが遊離のSiOHグループを含むシェル外表面を有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の粉末。
- 3質量%超の全酸素含有量を室温で有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の粉末。
- 前記酸素含有量が3〜10質量%である、請求項1〜9のいずれか一項に記載の粉末。
- 0.01μm〜1μmとの平均粒径を有する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の粉末。
- 前記粉末が最大50m2/gのBET表面積を有する、請求項1〜11のいずれか一項に記載の粉末。
- 前記粉末が最大30m2/gのBET表面積を有する、請求項12に記載の粉末。
- 前記粉末が最大20m2/gのBET表面積を有する、請求項12に記載の粉末。
- 前記コアがゼロ価のシリコンから形成される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の粉末。
- 前記コアが結晶性シリコンからなる、請求項15に記載の粉末。
- 粉末を製造するための方法であって、
a.粒子を含み、前記粒子が、シリコンを含有するコア並びにシェル外表面及びシェル
体積を有する初期シェルを含み、前記シェル体積が0<x≦2のSiOxを含み、かつ前記シェルが0.5nm〜3nmのシェル厚さを有し、及び前記粉末が10〜40m2/gのBET表面積を有する粉末を準備するステップ、
b.前記粉末をHF水系溶液を備えたエッチングステップにかけて、前記SiOxシェルの厚さを部分除去及び/又は低減し、及び前記シェルの外表面上にSiOHグループを生じさせるステップ、及び
c.エッチングされた粉末を250℃〜750℃の酸化温度及び5分〜80分の酸化時間で熱処理にかけるステップを含む方法。 - 請求項1〜16のいずれか一項に記載の粉末または請求項17に記載の製造方法を含む陰極材料。
- 請求項8に記載の粉末を含み、ポリマーバインダーを更に含み、前記バインダーの少なくとも一部が、前記SiOHグループを介して粉末に共有結合している、請求項18に記載の陰極材料。
- 前記バインダーがカルボキシメチルセルロース(CMC)である、請求項19に記載の陰極材料。
- 請求項18〜20のいずれか一項に記載の陰極材料を含み、及び電導性剤を含み、それによって電極が、70質量%〜90質量%の請求項1〜14のいずれか一項に記載の粉末、5質量%〜15質量%の電導性剤及び5質量%〜15質量%のバインダーを含有する、電池の陰極。
- 陽極、電解質及び請求項21に記載の陰極を含む充電式電池。
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