JP2016529530A - 光学積層体 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)光ルミネッセンス層形成用組成物
ペンタエリスリトールトリアクリレート15質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)15質量部、ランタナイド複合体光ルミネッセンス物質(トリス(ジベンゾイルメタン)モノ(1,10−フェナントロリン)ユウロピウム(III);以下、Eu(DBM)3Phen)0.5質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート14質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)14質量部、3um無定形シリカ2質量部、ランタナイド複合体光ルミネッセンス物質(Eu(DBM)3Phen)0.5質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート15.2質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)15質量部、ランタナイド複合体光ルミネッセンス物質(Eu(DBM)3Phen)0.3質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート14.5質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)15質量部、ランタナイド複合体光ルミネッセンス物質(Eu(DBM)3Phen)1質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート15質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)15質量部、ランタナイド複合体光ルミネッセンス物質(トリス(ジナフチルメタン)モノ(1,10−フェナントロリン)ユウロピウム(III);以下、Eu(dnm)3phen)0.5質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート15質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)15質量部、光ルミネッセンス物質(BaMgAl10O17:Eu,Mn)0.5質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート15質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)15質量部、光ルミネッセンス物質(Sr10(PO4)6Cl2:Eu)0.5質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、光ルミネッセンス層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート1質量部、40nm中空シリカ溶液(固形粉20%、屈折率1.3)5質量部、エチルアセテート93.8質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)0.1質量部、及びレベリング剤(BYK3570)0.1質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、反射防止層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート15.5質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)15質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
ペンタエリスリトールトリアクリレート14.5質量部、ウレタンアクリレート(SC2153)14質量部、3um無定形シリカ2質量部、エチルアセテート33.5質量部、ブチルアセテート33.5質量部、光開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)2質量部、及びレベリング剤(BYK3530)0.5質量部を撹拌して、PP材質のフィルタで濾過し、防眩性ハードコーティング層形成用組成物を調製した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(1)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(2)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが3μmとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(1)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布し、70℃で2分間乾燥させた後、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成した。次いで、光ルミネッセンス層上に調製例(8)の反射防止層形成用組成物を、乾燥後の厚みが100nmとなるように塗布し、70℃で2分間乾燥させた後、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで反射防止層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(2)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布し、70℃で2分間乾燥させた後、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成した。次いで、光ルミネッセンス層上に調製例(8)の反射防止層形成用組成物を、乾燥後の厚みが100nmとなるように塗布し、70℃で2分間乾燥させた後、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで反射防止層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(3)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(4)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(5)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmの厚みとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(6)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(7)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(9)のハードコーティング層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(10)の防眩性ハードコーティング層形成用組成物を、乾燥後の厚みが3μmとなるように塗布した。次いで、70℃で2分間乾燥させ、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(9)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布し、70℃で2分間乾燥させた後、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成した。次いで、光ルミネッセンス層上に調製例(8)の反射防止層形成用組成物を、乾燥後の厚みが100nmとなるように塗布し、70℃で2分間乾燥させた後、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで反射防止層を形成し、光学積層体を製造した。
厚み40μmのトリアセチルセルロースフィルム上に調製例(10)の光ルミネッセンス層形成用組成物を、乾燥後の厚みが5μmとなるように塗布し、70℃で2分間乾燥させた後、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで光ルミネッセンス層を形成した。次いで、光ルミネッセンス層上に調製例(8)の反射防止層形成用組成物を、乾燥後の厚みが100nmとなるように塗布し、70℃で2分間乾燥させた後、積算光量400mJ/cm2でUVを照射することで反射防止層を形成し、光学積層体を製造した。
(1)レーザーポインタ視認性評価
実施例及び比較例で製造された光学積層体をディスプレイパネルの上面に付設した後、ディスプレイをホワイトモードに転換してから、405nmのレーザーポインタをパネルに60°の角度から照らした時の、パネル正面からのレーザーポインタの視認性を評価した。
◎:レーザーポインタの光が明るく視認される。
○:レーザーポインタの位置を視認することができる。
×:レーザーポインタの位置が確認できない。
実施例及び比較例で製造された光学積層体の背面を黒板に付設した後、光学積層体の散乱反射率を積分球式スペクトロフォトメーター(cm−3700d、コニカミノルタ)によりSCEモードで測定した。
実施例及び比較例で製造された光学積層体のヘイズをヘイズメーター(HZ−1、SUGA社)で測定した。
実施例及び比較例で製造された光学積層体をテープでガラスに固定した後、鉛筆で500gの荷重を加えつつ、光学積層体表面を45°の角度で5回掻いて鉛筆硬度を評価した。
実施例及び比較例で製造された光学積層体をガラスに粘着剤で接合した後、スチールウール#0000で、光学積層体表面の2cm×2cmの面積を1000gの荷重を加えつつ、10回往復引っ掻きテストを行った。次いで、該当の面積を目視で観察し、傷の数を測定した。
◎:傷が10個以下
○:傷が10個超過〜15個以下
×:傷が15個超過
実施例及び比較例で製造された光学積層体の表面に1mm間隔で縦横それぞれ11本ずつ切れ目を入れて、縦横各1mmの正四角形を100個作った後、格子テープ(Nichiban)を表面に密着させてから剥離する過程を3回繰り返し行った。
Claims (13)
- 光ルミネッセンス物質を含む光ルミネッセンス層を備え、ディスプレイパネルの一方の面に貼り合わされた、光学積層体。
- 前記光ルミネッセンス物質が、光ルミネッセンス顔料、光ルミネッセンス染料、及び光ルミネッセンスパウダーからなる群から選択される少なくとも一種である、請求項1に記載の光学積層体。
- 前記光ルミネッセンス顔料及び染料は、固相、液相又はパウダーの形態である、請求項2に記載の光学積層体。
- 光ルミネッセンスパウダーは、ランタナイド複合体、有機蛍光体、及び無機蛍光体からなる群から選択される少なくとも一種である、請求項3に記載の光学積層体。
- 前記ランタナイド複合体が、ユウロピウム複合体、テルビウム複合体、ジスプロシウム複合体、及びサマリウム複合体からなる群から選択される少なくとも一種である、請求項4に記載の光学積層体。
- 前記光ルミネッセンス物質の最大励起波長が450nm以下である、請求項1に記載の光学積層体。
- 前記光ルミネッセンス物質の最大励起波長が420nm以下である、請求項1に記載の光学積層体。
- 前記光ルミネッセンス層は、前記光ルミネッセンス物質、透光性樹脂、開始剤、及び溶剤を含む光ルミネッセンス層形成用組成物を塗布して形成される、請求項1に記載の光学積層体。
- 前記光ルミネッセンス物質が、組成物の全質量に対して0.01〜90質量%の量で含まれる、請求項8に記載の光学積層体。
- 前記光ルミネッセンス層が、ハードコーティング層、偏光子、偏光子保護層、位相差層、反射防止層、帯電防止層、高屈折層、低屈折層、防汚層、粘着層、接着層又はこれらの基材フィルムである、請求項1に記載の光学積層体。
- 前記光学積層体が偏光板である、請求項1に記載の光学積層体。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の光学積層体を備えた画像表示装置。
- 液晶表示装置である、請求項12に記載の画像表示装置。
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