JP2016508232A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016508232A5
JP2016508232A5 JP2015548447A JP2015548447A JP2016508232A5 JP 2016508232 A5 JP2016508232 A5 JP 2016508232A5 JP 2015548447 A JP2015548447 A JP 2015548447A JP 2015548447 A JP2015548447 A JP 2015548447A JP 2016508232 A5 JP2016508232 A5 JP 2016508232A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixels
exposure field
motif
projector
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015548447A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2016508232A (ja
JP6436912B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102012224005.5A external-priority patent/DE102012224005B4/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2016508232A publication Critical patent/JP2016508232A/ja
Publication of JP2016508232A5 publication Critical patent/JP2016508232A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6436912B2 publication Critical patent/JP6436912B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2015548447A 2012-12-20 2013-12-17 均一な光分布を形成する方法 Active JP6436912B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102012224005.5A DE102012224005B4 (de) 2012-12-20 2012-12-20 Verfahren zur Herstellung einer homogenen Lichtverteilung
DE102012224005.5 2012-12-20
PCT/EP2013/076902 WO2014095864A1 (de) 2012-12-20 2013-12-17 Verfahren zur herstellung einer homogenen lichtverteilung

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016508232A JP2016508232A (ja) 2016-03-17
JP2016508232A5 true JP2016508232A5 (enExample) 2017-11-09
JP6436912B2 JP6436912B2 (ja) 2018-12-12

Family

ID=49885232

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015548447A Active JP6436912B2 (ja) 2012-12-20 2013-12-17 均一な光分布を形成する方法

Country Status (10)

Country Link
US (1) US9914265B2 (enExample)
EP (1) EP2934858B1 (enExample)
JP (1) JP6436912B2 (enExample)
KR (1) KR101860617B1 (enExample)
CN (1) CN104853902A (enExample)
AU (1) AU2013361779B2 (enExample)
BR (1) BR112015012368A2 (enExample)
CA (1) CA2888844A1 (enExample)
DE (1) DE102012224005B4 (enExample)
WO (1) WO2014095864A1 (enExample)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RS61198B1 (sr) * 2014-12-30 2021-01-29 Visitech As Postupak za dobijanje uniformne osvetljenosti iz svetlosnog projektora na površini slike
DE102015104394B4 (de) 2015-03-24 2020-06-04 Kulzer Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Teil- oder Totalprothese sowie Prothese erhältlich nach diesem Verfahren
US10180248B2 (en) 2015-09-02 2019-01-15 ProPhotonix Limited LED lamp with sensing capabilities
FR3041560B1 (fr) * 2015-09-29 2017-10-20 Prodways Procede de fabrication d'un produit par empilement de couche de matiere
EP3390303B1 (de) 2015-12-18 2024-02-07 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Herstellung von quarzglaskörpern mit taupunktkontrolle im schmelzofen
JP6940235B2 (ja) 2015-12-18 2021-09-22 ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 高融点金属の溶融坩堝内での石英ガラス体の調製
WO2017103131A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verringern des erdalkalimetallgehalts von siliziumdioxidgranulat durch behandlung von kohlenstoffdotiertem siliziumdioxidgranulat bei hoher temperatur
CN108698883A (zh) 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 石英玻璃制备中的二氧化硅的喷雾造粒
TWI733723B (zh) 2015-12-18 2021-07-21 德商何瑞斯廓格拉斯公司 不透明石英玻璃體的製備
CN108698894A (zh) 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 在多腔式烘箱中制备石英玻璃体
KR20180094087A (ko) 2015-12-18 2018-08-22 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 실리카 과립으로부터 실리카 유리 제품의 제조
WO2017103153A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Glasfasern und vorformen aus quarzglas mit geringem oh-, cl- und al-gehalt
KR20180095619A (ko) 2015-12-18 2018-08-27 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 실리카 유리 제조 동안 규소 함량의 증가
CN109153593A (zh) 2015-12-18 2019-01-04 贺利氏石英玻璃有限两合公司 合成石英玻璃粉粒的制备
JP6523194B2 (ja) * 2016-03-14 2019-05-29 東京エレクトロン株式会社 補助露光装置
CN106182772B (zh) * 2016-07-25 2018-06-26 哈尔滨工业大学 多种材料快速原型成型装置及方法
CN115464159B (zh) * 2017-05-11 2024-07-16 速尔特技术有限公司 用于增材制造的图案化光的开关站射束路由
CN110770626B (zh) * 2017-06-21 2022-04-01 依视路国际公司 光学物品的制造方法和光学成形设备
CN107891596A (zh) * 2017-12-15 2018-04-10 博纳云智(天津)科技有限公司 一种dlp光固化3d打印机的光强均匀校正方法
CN110394980A (zh) * 2018-04-24 2019-11-01 三纬国际立体列印科技股份有限公司 立体打印系统
US10503076B1 (en) * 2018-08-29 2019-12-10 Applied Materials, Inc. Reserving spatial light modulator sections to address field non-uniformities
NO20190617A1 (en) * 2019-05-16 2020-11-17 Visitech As System and method for exposing a material with images
FR3119562B1 (fr) * 2021-02-09 2024-08-30 Univ Claude Bernard Lyon Procédé d'impression d'un objet à imprimer, et imprimante adaptée pour la mise en oeuvre du procédé.
KR102443272B1 (ko) * 2021-07-20 2022-09-15 단국대학교 산학협력단 특정 경로를 따른 중복 광조사를 이용하는 3d 프린터 및 3d 프린팅 방법
CN118596582B (zh) * 2024-06-24 2025-04-08 广州黑格智造信息科技有限公司 三维打印设备的光调制器控制方法及三维打印设备

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3326902B2 (ja) * 1993-09-10 2002-09-24 株式会社日立製作所 パターン検出方法及びパターン検出装置及びそれを用いた投影露光装置
DE4333620A1 (de) * 1993-10-15 1995-04-20 Jenoptik Technologie Gmbh Anordnung und Verfahren zur Erzeugung von Dosisprofilen für die Herstellung von Oberflächenprofilen
JPH10163300A (ja) * 1996-12-02 1998-06-19 Nikon Corp ステージ装置
JP2001255664A (ja) * 2000-03-14 2001-09-21 Fuji Photo Film Co Ltd 画像露光方法
US6605796B2 (en) * 2000-05-25 2003-08-12 Westar Photonics Laser beam shaping device and apparatus for material machining
JP2004157219A (ja) * 2002-11-05 2004-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd 露光ヘッドおよび露光装置
WO2005106588A1 (en) * 2004-05-05 2005-11-10 Sign-Tronic Ag Method for enabling transmission of substantially equal amounts of energy
WO2005110722A1 (de) 2004-05-10 2005-11-24 Envisiontec Gmbh Verfahren zur herstellung eines dreidimensionalen objekts mit auflösungsverbesserung mittels pixel-shift
DE102004022961B4 (de) * 2004-05-10 2008-11-20 Envisiontec Gmbh Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts mit Auflösungsverbesserung mittels Pixel-Shift
US7893384B2 (en) * 2004-12-07 2011-02-22 Chosen Technologies, Inc. Systems and methods for laser material manipulation
JP2006319098A (ja) * 2005-05-12 2006-11-24 Pentax Industrial Instruments Co Ltd 描画装置
JP2008541164A (ja) * 2005-05-13 2008-11-20 エヌエックスピー ビー ヴィ 空間光変調器装置、リソグラフィ装置、ディスプレイ装置、空間光パターンを有する光ビームの生成方法、および装置の製造方法
JP4679249B2 (ja) * 2005-05-31 2011-04-27 大日本スクリーン製造株式会社 パターン描画装置
JP2007017897A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Fujifilm Holdings Corp 露光装置及び洗浄方法
DE102006019963B4 (de) 2006-04-28 2023-12-07 Envisiontec Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts durch schichtweises Verfestigen eines unter Einwirkung von elektromagnetischer Strahlung verfestigbaren Materials mittels Maskenbelichtung
JP5280615B2 (ja) * 2006-06-16 2013-09-04 シーメット株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
EP1880830B1 (en) 2006-07-19 2011-12-21 Envisiontec GmbH Method and device for producing a three-dimensional object, and computer and data carrier useful thereof
DE102008040742A1 (de) * 2007-08-02 2009-02-05 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung von Mehrfachspiegelanordnungen, optische Anordnung mit einer derartigen Vorrichtung sowie mit einer zweiten Mehrfachspiegelanordnung zum Ein- und Ausschalten einer ersten Mehrfachspiegelanordnung sowie Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Vorrichtung
WO2010043275A1 (en) * 2008-10-17 2010-04-22 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Improvements for rapid prototyping apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6436912B2 (ja) 均一な光分布を形成する方法
JP2016508232A5 (enExample)
JP6966807B2 (ja) 付加製造装置及び方法
CN106457670B (zh) 用于借助快速成型法制造三维物体的有效方法
CN113934116B (zh) 用于弹性印刷板的受控曝光的系统和方法
JP7055424B2 (ja) 立体物を形成するために液体ポリマーの光硬化のための光エンジンを用いる方法および装置
US10610341B2 (en) More efficient method for producing three-dimensional objects by means of a rapid prototyping process
US12208570B2 (en) 3D printing of an intraocular lens having smooth, curved surfaces
US7083405B2 (en) Photo-fabrication apparatus
CN101055429A (zh) 相对于衍射光学部件移动射束以便减少干涉图案
CN110622070B (zh) 用于在受控制的曝光系统或过程中调整柔性版印刷板的底板的过程和装置
JP2019513594A (ja) 構成層のキャリア対象への接着性を向上させるための装置及び方法
WO2017154457A1 (ja) 三次元造形装置、造形物の製造方法、プログラム及び記録媒体
WO2021120906A1 (zh) 直写光刻系统和直写光刻方法
EP4504493A1 (en) Method and apparatus for high-resolution fast layer-by-layer 3d printing
HK1097922A (en) Exposure apparatus and exposure method, and method of manufacturing electrical wiring board
JP2014146012A (ja) パターン形成方法及び装置
KR20070072157A (ko) 얼룩 방지용 스캔 노광 장치