JP2016225511A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体ウエハ1のおもて面を覆う熱硬化性樹脂からなる表面保護膜13を選択的に除去して形成されたスクライブライン2に、半導体ウエハ1のおもて面から所定深さdの溝3を形成する。スクライブライン2に溝3を形成することにより、表面保護膜13を形成するための焼き締め時に生じる表面保護膜13の熱収縮により半導体ウエハ1のおもて面側にかかる圧縮応力の逃げ道が確保される。これによって、半導体ウエハ1のおもて面側にかかる圧縮応力が緩和されるため、その後、半導体ウエハ1の薄板化が容易となる。そして、薄板化した半導体ウエハ1の裏面に裏面電極を形成した後、半導体ウエハ1をダイシングして個片化する。
【選択図】図6
Description
実施の形態1にかかる半導体装置の構造方法について説明する。図1は、実施の形態1にかかる半導体装置の製造途中の状態を示す平面図である。図2は、実施の形態1にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図3〜6は、実施の形態1にかかる半導体装置の製造途中の状態を示す断面図である。図1(a)には、半導体ウエハ1を個々のチップ状に切断する前の状態を示す。図1(b)には、図1(a)の丸枠Aで囲む部分を拡大して示す。図1(a)の切断線B−B’における断面を図6に示す。図1(a),3〜6では、表面保護膜13,41以外の各部を図示省略する。図1(b)には、各種電極パッド11,12および表面保護膜13のみを示す。
次に、実施の形態2にかかる半導体装置の製造方法について説明する。図9は、実施の形態2にかかる半導体装置の製造途中の状態を示す断面図である。実施の形態2にかかる半導体装置は、スクライブライン2に形成する溝53の断面形状が実施の形態1にかかる半導体装置と異なる。具体的には、図9に示すように、溝53の断面形状を開口側から底部に向って徐々に幅が狭くなるテーパー状(台形状)としてもよい(w3>w4)。溝53の開口側の幅w3を、実施の形態1と同様に、スクライブライン2の幅w1以下とすることが好ましい(w1≧w3)。また、溝53の開口側の幅w3(好ましく溝53の底部の幅w4)は、ダイシングブレードの刃の厚さよりも狭くてもよいが、ダイシングブレード(不図示)の刃の厚さよりも広くすることが好ましい。その理由は、実施の形態1と同様である。溝53の底部の幅w4は、ダイシングブレードの刃の厚さよりも狭くてもよいが、ダイシングブレードの刃の厚さよりも広いことが好ましい。その理由は、実施の形態1と同様である。
2 スクライブライン
3,53 溝
10 チップ領域
11,12 電極パッド
13,41 表面保護膜
14a,14b 半導体チップの端部の切断面
21 出発ウエハ
22,26 n型エピタキシャル層
23 並列pn層のn型領域
24 並列pn層のp型領域
25 並列pn層
27 n型領域
28 ゲート絶縁膜
29 ゲート電極
30 p型ベース領域
31 p+型コンタクト領域
32 n+型ソース領域
33 層間絶縁膜
34 コンタクトホール
35 ソース電極
36 裏面電極
42 レジスト膜
43 圧縮応力
w1 スクライブラインの幅
w2 溝の幅
w3 溝の開口側の幅
w4 溝の底部の幅
w11〜w13 半導体チップの幅
Claims (10)
- 半導体ウエハのおもて面側に素子構造を形成する素子形成工程と、
前記素子形成工程の後に、前記半導体ウエハのおもて面に熱硬化性樹脂からなる表面保護膜を形成する保護膜形成工程と、
前記表面保護膜を選択的に除去して前記半導体ウエハのおもて面を露出させた部分を、前記半導体ウエハを切断する際の切り代となるスクライブラインとする除去工程と、
前記除去工程の後、前記表面保護膜を焼き締める焼き締め工程と、
前記半導体ウエハのおもて面の前記スクライブラインの位置に、前記半導体ウエハのおもて面から所定深さの溝を形成する溝形成工程と、
前記溝形成工程の後、前記半導体ウエハの厚さを裏面側から薄くする薄板化工程と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記溝形成工程では、前記焼き締め工程の後の前記表面保護膜の厚さの1/2以上の前記所定深さで前記溝を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記溝形成工程では、前記スクライブラインの幅よりも狭い幅で前記溝を形成することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記薄板化工程の後、前記半導体ウエハの裏面に電極を形成する裏面電極形成工程をさらに含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記裏面電極形成工程の後、前記半導体ウエハを個片化する切断工程をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記溝形成工程では、前記半導体ウエハを切断するブレードの刃の厚さよりも広い幅で前記溝を形成することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記溝形成工程では、異方性ドライエッチングにより前記溝を形成することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体ウエハをスクライブラインに沿って切断した半導体基板の端面は、
前記半導体ウエハのおもて面からスクライブラインに所定深さで設けられた溝と、
前記半導体基板のおもて面側の、前記溝の側面よりも内側を覆う熱硬化性樹脂からなる表面保護膜と、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記半導体基板の端面の前記溝以外の面は、ブレードによる切断面であることを特徴とする請求項8に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板のおもて面側に設けられた素子構造をさらに備え、
前記表面保護膜は、前記素子構造を覆うことを特徴とする請求項8または9に記載の半導体装置。
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