JP2013197169A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハ10の第1主面に、逆阻止型IGBTのおもて面素子構造、耐圧構造部のおもて面素子構造、分離構造部のp型分離領域を形成する。逆阻止型IGBTのおもて面素子構造および耐圧構造部のおもて面素子構造は、ウエハ10の素子形成領域1に形成される。分離構造部のp型分離領域は、素子形成領域1の素子端部側に耐圧構造部を囲むように形成される。つぎに、ウエハ10の第2主面側からウエハ10を薄板化した後、ウエハ10の第2主面にp型分離領域に達する溝3を形成する。このとき、溝3の交点への直線を3とする。つぎに、ウエハ10の第2主面にp型コレクタ層を形成するとともに、溝3の側壁にp型コレクタ層およびp型分離領域に接するp型層を形成することで逆阻止型IGBTが完成する。
【選択図】 図1
Description
また、この発明にかかる半導体装置の製造方法は、上述した発明において、前記溝の断面形状は、台形状または円形状であることを特徴とする。
図1に示すように、ウエハ10の各素子形成領域1には、それぞれ半導体装置の素子構造(不図示)が形成される。ウエハ10に形成される半導体装置は、例えば、逆耐圧を有するIGBT(逆阻止型IGBT)である(図3参照)。逆阻止型IGBTは、オン状態のときに電流が流れる活性領域と、順耐圧を保持するための耐圧構造部と、逆耐圧を保持するための分離構造部と、を備える。すなわち、活性領域、耐圧構造部および分離構造部は、各素子形成領域1内に形成される。
2 ウエハの外周端部
3 溝
10 ウエハ
Claims (4)
- 第1導電型の半導体ウエハの第1主面に、半導体素子のゲート電極からなるMOSゲート構造および第1電極と、前記半導体素子の耐圧を保持するための耐圧構造部と、前記半導体素子および前記耐圧構造部を囲む第2導電型の第1半導体領域と、を形成する工程と、
前記半導体ウエハの第2主面から前記第1半導体領域に達する溝を形成する工程と、
前記半導体ウエハの第2主面に第2導電型の第2半導体領域を形成するとともに、前記溝の側壁に前記第1半導体領域および前記第2半導体領域に電気的に接する第2導電型の第3半導体領域を形成する工程と、
前記第2半導体領域に電気的に接する第2電極を形成する工程と、
を含み、
前記溝を形成する工程では、前記溝の交点への直線が3つとなるように形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記溝を形成する工程では、前記交点がT字状となるように前記溝を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記溝の断面形状は、台形状または円形状であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記溝を形成する工程では、前記半導体素子および前記耐圧構造部を囲むように前記溝を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の半導体装置の製造方法。
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JP2001185727A (ja) * | 1999-10-15 | 2001-07-06 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2008153420A (ja) * | 2006-12-18 | 2008-07-03 | Seiko Epson Corp | 基材の分割方法、液滴吐出ヘッドの製造方法、半導体装置の製造方法、基板の製造方法、及び電気光学装置の製造方法 |
JP2012028452A (ja) * | 2010-07-21 | 2012-02-09 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工方法 |
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