JP2016212942A - 抵抗変化型不揮発性記憶素子のフォーミング方法、抵抗変化型不揮発性記憶装置、およびicカード - Google Patents
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Abstract
Description
抵抗変化素子は、製造された後、フォーミングと呼ばれる初期化処理がなされることによって、絶縁体に近い極めて高い抵抗値をもつ初期状態から、高抵抗状態と低抵抗状態との間で可逆的に変化できる状態に変化する。初期状態の抵抗変化素子は、パルスを印加しても可逆的な抵抗変化を示さない。フォーミングは、抵抗変化素子の電極間に所定のフォーミング電圧を印加するステップを含む。フォーミング電圧により、抵抗変化素子の内部にフィラメント(導電パス)が形成される。
第1の実施形態について説明する。
図1Aは、第1の実施形態に係る1T1R型メモリセルのフォーミングの一例を示すフローチャートである。本フローチャートは、S1からS8の8つのステップから構成されている。
図2は、抵抗変化型不揮発性記憶装置に含まれる20個のメモリセル群に対して、図1Aに示すフォーミングを行った場合の、負フォーミング電圧VLbと正規期待値との関係を示す特性図である。各メモリセルは、それぞれ図13に示される構造を有する。横軸は、各メモリセルのフォーミングが完了した時の負フォーミング電圧VLbを表す。縦軸は、負フォーミングが完了しているメモリセルの正規期待値σを表す。
図3は、第1の実施形態に係る抵抗変化型不揮発性記憶装置の構成の一例を示すブロック図である。
図4は、図3におけるセンスアンプ204の詳細な構成の一例を示す回路図である。
図4に示されるセンスアンプ204のフォーミング時の動作を説明する。
図6に、フォーミング時の正のパルス電圧の印加、負のパルス電圧の印加、および読み出し、ならびに、通常動作時の“0”書き込み、“1”書き込み、および読み出しの各動作モードにおいてワード線WL、ソース線SL、ビット線BLにそれぞれ設定される電圧の一覧を示す。ここで、“0”書き込みは、抵抗変化素子を低抵抗状態から高抵抗状態に遷移させることを意味し、“1”書き込みは、抵抗変化素子を高抵抗状態から低抵抗状態に遷移させることを意味する。
第2の実施形態では、抵抗変化型不揮発性記憶装置が有する複数のメモリセルに対して、フォーミングが行われる。抵抗変化型不揮発性記憶装置として、例えば、第1の実施形態で説明された抵抗変化型不揮発性記憶装置200が採用されてもよい。
図8は、図7のフローチャートに示される抵抗変化型不揮発性記憶装置200のフォーミング動作の一例を示すタイミングチャートである。図8は、メモリセルアレイ202のうちアドレスADが0であるメモリセルM11に印加されるパルス電圧を示している。
第3の実施形態は、負フォーミング電圧VLbをステップアップさせることなく、固定した方式である。以下にその実施形態について説明する。
第4の実施形態は、第1、第2または第3の実施形態で説明した抵抗変化型不揮発性記憶装置を搭載したICカードである。
以上、本開示に係るフォーミング方法および抵抗変化型不揮発性記憶装置について、複数の実施の形態に基づいて説明したが、本開示は、これらの実施の形態に限定されるものではない。本開示の主旨を逸脱しない範囲で、当業者が思いつく各種変形を施し、また、実施の形態における構成要素を任意に組み合わせて構築される態様も、本開示に含まれてもよい。
100a 下部電極
100b 抵抗変化層
100b−1 第1のタンタル酸化物層
100b−2 第2のタンタル酸化物層
100c 上部電極
101、105 下部電極端子
102 上部電極端子
103 ゲート端子
104 NMOSトランジスタ
200 抵抗変化型不揮発性記憶装置
201 メモリ本体部
202 メモリセルアレイ
203 列選択回路
204 センスアンプ
205 データ入出力回路
206 書き込み回路
207 行ドライバ
208 行選択回路
209 アドレス入力回路
210 制御回路
211 書き込み用電源
212 低抵抗化用電源(LR化用電源)
213 高抵抗化用電源(HR化用電源)
218 カレントミラー回路
219、220 クランプトランジスタ
221 基準回路
222、223 選択トランジスタ
224 差動アンプ
225、226 トランジスタ
500 フォーミング用電源
702 通常動作用基準電流生成回路
703 フォーミング動作用基準電流生成回路
704 比較回路
800 ICカード
810 樹脂板
820 プロセッサ
830 メモリ
840 インタフェース
Claims (27)
- 第1電極と、第2電極と、前記第1電極および前記第2電極の間に配置された金属酸化物層とを備える抵抗変化型不揮発性記憶素子のフォーミング方法であって、
第1の状態にある前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第1のパルス電圧を印加するステップ(A)と、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子が第2の状態にあるか否かを判定するサブステップ(b1)と、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にないと判定された場合に、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第2のパルス電圧、および、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第3のパルス電圧を連続して印加するサブステップ(b2)とを含むシーケンスを少なくとも1回実行するステップ(B)と、を含み、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子は、前記第1の状態から前記第2の状態に不可逆的に変化する特性を有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子は、前記第2の状態にあるとき、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第4のパルス電圧が印加されることによって抵抗値が減少し、かつ、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第5のパルス電圧が印加されることによって前記抵抗値が増加するような、可逆的な抵抗変化特性を有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子は、前記第1の状態にあるときは、前記第2の状態にあるときに比べて、前記抵抗値が大きく、
前記第2のパルス電圧の振幅は、前記第5のパルス電圧の振幅よりも大きい、
フォーミング方法。 - 前記シーケンスは、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にあると判定されるまで繰り返され、
前記第2の電圧パルスの振幅は、前記シーケンスが繰り返される回数によらず、一定である、
請求項1に記載のフォーミング方法。 - 前記シーケンスは、複数回繰り返され、
前記シーケンスを実行するステップ(B)は、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に次に印加される前記第3のパルス電圧の振幅を、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に前回印加された前記第3のパルス電圧の振幅よりも大きくするサブステップ(b3)を含む、
請求項1に記載のフォーミング方法。 - 前記シーケンスは、複数回繰り返され、
前記第3の電圧パルスの振幅は、前記シーケンスが繰り返される回数によらず、一定である、
請求項1に記載のフォーミング方法。 - 前記第1のパルス電圧を印加するステップ(A)の前に、前記第1の状態にある前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる別のパルス電圧を印加するステップをさらに含む、
請求項1に記載のフォーミング方法。 - 前記金属酸化物層は、前記第1電極と接する第1の金属酸化物層と、前記第2電極と接し、かつ前記第1の金属酸化物層よりも小さい酸素不足度を有する第2の金属酸化物層とを含む、
請求項1に記載のフォーミング方法。 - 前記第3のパルス電圧の振幅は、前記第1のパルス電圧の振幅以上である、
請求項1に記載のフォーミング方法。 - 各々が、第1電極と、第2電極と、前記第1電極および前記第2電極の間に配置された金属酸化物層とを備える、複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のフォーミング方法であって、
第1の状態にある前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれに対して、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第1のパルス電圧を印加するステップ(A)と、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子から選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が第2の状態にあるか否かを判定するサブステップ(b1)と、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にないと判定された場合に、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第2のパルス電圧、および、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第3のパルス電圧を連続して印加するサブステップ(b2)とを含むシーケンスを少なくとも1回実行するステップ(B)と、を含み、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第1の状態から前記第2の状態に不可逆的に変化する特性を有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第2の状態にあるとき、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第4のパルス電圧が印加されることによって抵抗値が減少し、かつ、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第5のパルス電圧が印加されることによって前記抵抗値が増加するような、可逆的な抵抗変化特性を有し、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第1の状態にあるときは、前記第2の状態にあるときに比べて、前記抵抗値が大きく、
前記第2のパルス電圧の振幅は、前記第5のパルス電圧の振幅よりも大きい、
フォーミング方法。 - 前記シーケンスは、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にあると判定されるまで、繰り返され、
前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にあると判定された場合に、前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子から抵抗変化型不揮発性記憶素子が新たに選択され、新たに選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して前記シーケンスが実行される、
請求項8に記載のフォーミング方法。 - 前記シーケンスが1回実行される度に、前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子から抵抗変化型不揮発性記憶素子が新たに選択され、当該新たに選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して前記シーケンスが実行される、
請求項8に記載のフォーミング方法。 - 前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子の全てに対して前記シーケンスが実行された後、前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子の全てが前記第2の状態にあるか否かが判定され、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子の少なくとも1つが前記第1の状態にある場合に、当該少なくとも1つの抵抗変化型不揮発性記憶素子から再度選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して前記シーケンスが実行される、
請求項10に記載のフォーミング方法。 - 前記第3のパルス電圧の振幅は、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に前記第3のパルス電圧が印加された回数に応じて、拡大される、
請求項11に記載のフォーミング方法。 - 第1電極と、第2電極と、前記第1電極および前記第2電極の間に配置された金属酸化物層とを備える抵抗変化型不揮発性記憶素子と、
第1の状態にある前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第1のパルス電圧を印加する動作(A)と、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子が第2の状態にあるか否かを判定するサブ動作(b1)、ならびに、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にないと判定された場合に、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第2のパルス電圧、および、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第3のパルス電圧を連続して印加するサブ動作(b2)を含むシーケンスを少なくとも1回実行する動作(B)と、を選択的に実行する回路とを備え、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子は、前記第1の状態から前記第2の状態に不可逆的に変化する特性を有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子は、前記第2の状態にあるとき、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第4のパルス電圧が印加されることによって抵抗値が減少し、かつ、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第5のパルス電圧が印加されることによって前記抵抗値が増加するような、可逆的な抵抗変化特性を有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子は、前記第1の状態にあるとき、前記第2の状態にあるときに比べて、前記抵抗値が大きく、
前記第2のパルス電圧の振幅は、前記第5のパルス電圧の振幅よりも大きい、
抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にあると判定されるまで前記シーケンスを繰り返し、
前記第2の電圧パルスの振幅は、前記シーケンスが繰り返される回数によらず、一定である、
請求項13に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、前記シーケンスを、複数回繰り返し、
前記シーケンスを実行する動作(B)は、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に次に印加される前記第3のパルス電圧の振幅を、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に前回印加された前記第3のパルス電圧の振幅よりも大きくするサブ動作(b3)を含む、
請求項13に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、前記シーケンスを、複数回繰り返し、
前記第3の電圧パルスの振幅は、前記シーケンスが繰り返される回数によらず、一定である、
請求項13に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第1のパルス電圧、前記第2のパルス電圧、前記第3のパルス電圧、前記第4のパルス電圧、および、前記第5のパルス電圧を選択的に印加する電圧印加回路と、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にあるか否かを判定する判定回路と、を含む、
請求項13に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、基準電流を出力する基準電流生成回路をさらに備え、
前記判定回路は、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子を流れる電流と、前記基準電流とを比較することによって、前記抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にあるか否かを判定する、
請求項17に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、前記第1のパルス電圧を印加する動作(A)の前に、第1の状態にある前記抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる別のパルス電圧を印加する動作をさらに実行する、
請求項13に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記金属酸化物層は、前記第1電極と接する第1の金属酸化物層と、前記第2電極と接し、かつ前記第1の金属酸化物層よりも小さい酸素不足度を有する第2の金属酸化物層とを含む、
請求項13に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記第3のパルス電圧の振幅は、前記第1のパルス電圧の振幅以上である、
請求項13に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 各々が、第1電極と、第2電極と、前記第1電極および前記第2電極の間に配置された金属酸化物層とを備える、複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子と、
第1の状態にある前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれに対して、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第1のパルス電圧を印加する動作(A)と、前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子から選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が第2の状態にあるか否かを判定するサブ動作(b1)、ならびに、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にないと判定された場合に、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第2のパルス電圧、および、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第3のパルス電圧を連続して印加するサブ動作(b2)を含むシーケンスを少なくとも1回実行する動作(B)と、を実行する回路と、を備え、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第1の状態から前記第2の状態に不可逆的に変化する特性を有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第2の状態にあるとき、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第4のパルス電圧が印加されることによって抵抗値が減少し、かつ、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第5のパルス電圧が印加されることによって前記抵抗値が増加するような、可逆的な抵抗変化特性を有し、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第1の状態にあるとき、前記第2の状態にあるときに比べて、前記抵抗値が大きく、
前記第2のパルス電圧の振幅は、前記第5のパルス電圧の振幅よりも大きい、
抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にあると判定されるまで、前記シーケンスを、繰り返し、
前記回路は、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にあると判定した場合に、前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子から抵抗変化型不揮発性記憶素子を新たに選択し、当該新たに選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して前記シーケンスを実行する、
請求項22に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、前記シーケンスを1回実行する度に、前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子から新たな抵抗変化型不揮発性記憶素子を選択し、当該新たに選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して前記シーケンスを実行する、
請求項22に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子の全てに対して前記シーケンスを実行した後、前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子の全てが前記第2の状態にあるか否かを判定し、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子の少なくとも1つが前記第1の状態にある場合に、当該少なくとも1つの抵抗変化型不揮発性記憶素子から再度選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して前記シーケンスを実行する、
請求項24に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 前記回路は、前記第3のパルス電圧の振幅を、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に前記第3のパルス電圧が印加された回数に応じて、拡大させる、
請求項25に記載の抵抗変化型不揮発性記憶装置。 - 各々が、第1電極と、第2電極と、前記第1電極および前記第2電極の間に配置された金属酸化物層とを備える、複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子を含むメモリと、
第1の状態にある前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれに対して、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第1のパルス電圧を印加する動作(A)と、前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子から選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が第2の状態にあるか否かを判定するサブ動作(b1)、ならびに、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子が前記第2の状態にないと判定された場合に、前記選択された抵抗変化型不揮発性記憶素子に対して、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第2のパルス電圧、および、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第3のパルス電圧を連続して印加するサブ動作(b2)を含むシーケンスを少なくとも1回実行する動作(B)とを、前記メモリに記録されたプログラムに従って実行させるプロセッサと、を備え、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第1の状態から前記第2の状態に不可逆的に変化する特性を有し、
前記抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第2の状態にあるとき、前記第2電極を基準として前記第1電極が正極性となる第4のパルス電圧が印加されることによって抵抗値が減少し、かつ、前記第1電極を基準として前記第2電極が正極性となる第5のパルス電圧が印加されることによって前記抵抗値が増加するような、可逆的な抵抗変化特性を有し、
前記複数の抵抗変化型不揮発性記憶素子のそれぞれは、前記第1の状態にあるとき、前記第2の状態にあるときに比べて、前記抵抗値が大きく、
前記第2のパルス電圧の振幅は、前記第5のパルス電圧の振幅よりも大きい、
ICカード。
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