JP2016201557A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2016201557A5
JP2016201557A5 JP2016135649A JP2016135649A JP2016201557A5 JP 2016201557 A5 JP2016201557 A5 JP 2016201557A5 JP 2016135649 A JP2016135649 A JP 2016135649A JP 2016135649 A JP2016135649 A JP 2016135649A JP 2016201557 A5 JP2016201557 A5 JP 2016201557A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
amide group
structural unit
containing polymer
main chain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016135649A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6360108B2 (ja
JP2016201557A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2016201557A publication Critical patent/JP2016201557A/ja
Publication of JP2016201557A5 publication Critical patent/JP2016201557A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6360108B2 publication Critical patent/JP6360108B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (2)

  1. 砥粒の存在下で用いられる、単結晶シリコンからなるシリコンウエハ研磨用組成物であって、
    シリコンウエハ研磨促進剤と、アミド基含有ポリマーと、水と、を含み、
    前記アミド基含有ポリマーは、構成単位Aを主鎖に有しており、
    前記構成単位Aは、前記アミド基含有ポリマーの主鎖を構成する主鎖構成炭素原子と、第二級アミド基または第三級アミド基と、を含み、
    前記第二級アミド基または第三級アミド基を構成するカルボニル炭素原子は、前記主鎖構成炭素原子に直接結合しており、
    前記構成単位Aは、下記一般式(1):
    Figure 2016201557
    (式中、R は水素原子、メチル基、フェニル基、ベンジル基、クロロ基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基またはシアノ基である。R ,R は、同じかまたは異なり、いずれも水素原子、炭素原子数1〜18のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルキロール基、アセチル基または炭素原子数6〜60の芳香族基であり、これらのうち水素原子以外については、置換基を有するものを包含する。ただし、R ,R の両方が水素原子であるものは除く。);で表わされる単量体に由来し、
    前記アミド基含有ポリマーの重量平均分子量は、50,000未満である、シリコンウエハ研磨用組成物。
  2. 前記アミド基含有ポリマーにおいて、前記構成単位Aとは異なる構成単位Bの割合は10モル%未満である、請求項1に記載のシリコンウエハ研磨用組成物。
JP2016135649A 2013-06-07 2016-07-08 シリコンウエハ研磨用組成物 Active JP6360108B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013120328 2013-06-07
JP2013120328 2013-06-07
JP2014010836 2014-01-23
JP2014010836 2014-01-23

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015521346A Division JP6037416B2 (ja) 2013-06-07 2014-05-02 シリコンウエハ研磨用組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2016201557A JP2016201557A (ja) 2016-12-01
JP2016201557A5 true JP2016201557A5 (ja) 2017-04-13
JP6360108B2 JP6360108B2 (ja) 2018-07-18

Family

ID=52007952

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015521346A Active JP6037416B2 (ja) 2013-06-07 2014-05-02 シリコンウエハ研磨用組成物
JP2016135649A Active JP6360108B2 (ja) 2013-06-07 2016-07-08 シリコンウエハ研磨用組成物

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015521346A Active JP6037416B2 (ja) 2013-06-07 2014-05-02 シリコンウエハ研磨用組成物

Country Status (8)

Country Link
US (2) US20160122591A1 (ja)
EP (1) EP3007213B1 (ja)
JP (2) JP6037416B2 (ja)
KR (1) KR102239045B1 (ja)
CN (1) CN105264647B (ja)
SG (1) SG11201508398TA (ja)
TW (1) TWI650410B (ja)
WO (1) WO2014196299A1 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6366139B2 (ja) * 2014-12-25 2018-08-01 花王株式会社 シリコンウェーハ用研磨液組成物の製造方法
JP6403324B2 (ja) * 2014-12-25 2018-10-10 花王株式会社 シリコンウェーハ用研磨液組成物
EP3258483A4 (en) * 2015-02-12 2018-02-28 Fujimi Incorporated Method for polishing silicon wafer and surface treatment composition
US10748778B2 (en) 2015-02-12 2020-08-18 Fujimi Incorporated Method for polishing silicon wafer and surface treatment composition
US10508220B2 (en) * 2015-07-10 2019-12-17 Ferro Corporation Slurry composition and additives and method for polishing organic polymer-based ophthalmic substrates
JP6801964B2 (ja) * 2016-01-19 2020-12-16 株式会社フジミインコーポレーテッド 研磨用組成物及びシリコン基板の研磨方法
US11332640B2 (en) 2016-02-29 2022-05-17 Fujimi Incorporated Polishing composition and polishing method using same
SG11201901590SA (en) * 2016-09-21 2019-03-28 Fujimi Inc Composition for surface treatment
CN110462797B (zh) * 2017-03-31 2023-09-22 福吉米株式会社 研磨用组合物
JP6916039B2 (ja) * 2017-06-05 2021-08-11 Atシリカ株式会社 研磨用組成物
US11421131B2 (en) * 2017-11-06 2022-08-23 Fujimi Incorporated Polishing composition and method for producing same
JP7353051B2 (ja) * 2019-03-26 2023-09-29 株式会社フジミインコーポレーテッド シリコンウェーハ研磨用組成物
JP7356248B2 (ja) * 2019-03-28 2023-10-04 株式会社フジミインコーポレーテッド リンス用組成物およびリンス方法
CN110922897B (zh) * 2019-11-18 2024-03-08 宁波日晟新材料有限公司 一种用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液及其制备方法
JPWO2021182276A1 (ja) * 2020-03-13 2021-09-16
EP4355836A1 (en) * 2021-06-14 2024-04-24 Entegris, Inc. Grinding of hard substrates

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100447551B1 (ko) * 1999-01-18 2004-09-08 가부시끼가이샤 도시바 복합 입자 및 그의 제조 방법, 수계 분산체, 화학 기계연마용 수계 분산체 조성물 및 반도체 장치의 제조 방법
KR20010046395A (ko) * 1999-11-12 2001-06-15 안복현 연마용 조성물
WO2004068570A1 (ja) * 2003-01-31 2004-08-12 Hitachi Chemical Co., Ltd. Cmp研磨剤及び研磨方法
US20090093118A1 (en) 2005-04-14 2009-04-09 Showa Denko K.K. Polishing composition
SG173357A1 (en) 2005-11-11 2011-08-29 Hitachi Chemical Co Ltd Polishing slurry for silicon oxide, additive liquid and polishing method
EP2075824A4 (en) * 2006-07-28 2011-05-04 Showa Denko Kk POLISHING COMPOSITION
JP2008091524A (ja) * 2006-09-29 2008-04-17 Fujifilm Corp 金属用研磨液
JP2008181955A (ja) * 2007-01-23 2008-08-07 Fujifilm Corp 金属用研磨液及びそれを用いた研磨方法
JP2009123880A (ja) * 2007-11-14 2009-06-04 Showa Denko Kk 研磨組成物
EP2237311A4 (en) * 2008-02-01 2011-11-30 Fujimi Inc POLISHING COMPOSITION AND POLISHING METHOD THEREFOR
US20110081780A1 (en) * 2008-02-18 2011-04-07 Jsr Corporation Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing and chemical mechanical polishing method
WO2009107472A1 (ja) * 2008-02-27 2009-09-03 Jsr株式会社 化学機械研磨用水系分散体およびそれを用いた化学機械研磨方法、化学機械研磨用水系分散体の再生方法
CN103396765A (zh) * 2008-04-23 2013-11-20 日立化成工业株式会社 研磨剂及使用该研磨剂的基板研磨方法
JP5413456B2 (ja) * 2009-04-20 2014-02-12 日立化成株式会社 半導体基板用研磨液及び半導体基板の研磨方法
CN102471726A (zh) 2009-07-15 2012-05-23 朗姆研究公司 高级基底清洁的材料和系统
JP5878020B2 (ja) * 2009-11-11 2016-03-08 株式会社クラレ 化学的機械的研磨用スラリー並びにそれを用いる基板の研磨方法
JP4772156B1 (ja) 2010-07-05 2011-09-14 花王株式会社 シリコンウエハ用研磨液組成物
KR101907229B1 (ko) * 2011-02-03 2018-10-11 니타 하스 인코포레이티드 연마용 조성물 및 그것을 이용한 연마 방법
SG10201606827RA (en) * 2012-02-21 2016-10-28 Hitachi Chemical Co Ltd Polishing agent, polishing agent set, and substrate polishing method
JP5822356B2 (ja) * 2012-04-17 2015-11-24 花王株式会社 シリコンウェーハ用研磨液組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016201557A5 (ja)
JP2011154353A5 (ja)
JP2012526168A5 (ja)
JP2011500550A5 (ja)
JP2016535772A5 (ja)
JP2013254069A5 (ja)
JP2012092103A5 (ja)
JP2015512931A5 (ja)
JP2012140436A5 (ja) 物質
JP2015507065A5 (ja)
JP2009501745A5 (ja)
JP2014028916A5 (ja)
JP2013537203A5 (ja)
JP2014515406A5 (ja)
JP2008546770A5 (ja)
JP2020500916A5 (ja)
JP2011145659A5 (ja)
JP2011520775A5 (ja)
JP2017517538A5 (ja)
JP2013523975A5 (ja)
JP2018537535A5 (ja)
JP2018524291A5 (ja)
JP2013137490A5 (ja)
JP2015517532A5 (ja)
JP2011016798A5 (ja)