JP2016188801A - 膜厚測定装置および膜厚測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態に係る膜厚測定装置は、照射部と、撮像部と、制御部とを備える。照射部は、有機膜が形成された基板上の照射領域に紫外光を照射する。撮像部は、紫外光の照射を受けた照射領域を撮像する。制御部は、撮像部によって撮像された撮像画像の輝度分布に基づいて有機膜の膜厚分布を求める。
【選択図】図6
Description
まず、有機発光ダイオードの構成の概略およびその製造方法について、図1〜図3を用いて説明する。図1は、有機発光ダイオード500の構成の概略を示す断面模式図である。図2は、有機発光ダイオード500のバンク540の構成の概略を示す平面模式図である。図3は、有機発光ダイオード500の製造方法の主な工程を示すフローチャートである。
次に、本実施形態に係る膜厚測定装置を備えた基板処理システム100の構成について図4を参照して説明する。図4は、本実施形態に係る基板処理システム100の構成の概略を示す平面模式図である。なお、図4では、膜厚測定装置200を分かりやすく示すため、膜厚測定装置200を所定のパターンで塗りつぶして示している。
次に、膜厚測定装置200の構成について、図5を用いてより具体的に説明する。図5は、本実施形態に係る膜厚測定装置200の構成の概略を示す平面模式図である。なお、以下においては、位置関係を明確にするために、互いに直交するX軸方向、Y軸方向およびZ軸方向を規定し、Z軸正方向を鉛直上向き方向とする。
次に、以上のように構成された膜厚測定装置200を用いて行われる発光層533を含む有機EL層530の膜厚分布の測定方法について図7〜図9を参照して説明する。図7は、膜厚測定装置200で撮像される撮像画像の説明図である。図8は、バンク540内における有機EL層530の膜厚分布を示す図である。図9は、バンク540内における有機EL層530が紫外光を受けて発する蛍光の輝度分布を示す図である。
膜厚測定装置200が備える照射部10の配置は、紫外光31が照射領域22に適切に照射されれば、任意に選択できる。以下では、照射部10の配置の変形例について図11〜図13を参照して説明する。図11は、第1変形例に係る照射部10および撮像部11の構成を示す模式図である。図12は、第2変形例に係る照射部10および撮像部11の構成を示す模式図である。図13は、第3変形例に係る照射部10および撮像部11の構成を示す模式図である。
上述した実施形態では、発光層形成処理後かつ電子輸送層形成処理前のガラス基板Gに対して膜厚測定を行う場合の例について説明したが、膜厚測定は、例えば、正孔注入層形成処理後かつ正孔輸送層形成処理前のガラス基板Gや、正孔輸送層形成処理後かつ発光層形成処理前のガラス基板Gに対して行ってもよい。かかる場合には、膜厚測定装置200を正孔注入層形成部121や正孔輸送層形成部122に配置すればよい。
10 照射部
11 撮像部
12 紫外光遮断フィルタ
100 基板処理システム
141 制御部
142 記憶部
200 膜厚測定装置
540 バンク
Claims (8)
- 有機膜が形成された基板上の照射領域に紫外光を照射する照射部と、
前記紫外光の照射を受けた前記照射領域を撮像する撮像部と、
前記撮像部によって撮像された撮像画像の輝度分布に基づいて前記有機膜の膜厚分布を求める制御部と
を備えることを特徴とする膜厚測定装置。 - 前記制御部は、
前記基板上の1つのバンク内に形成された前記有機膜の輝度分布を前記撮像画像から求め、求めた前記輝度分布に基づき、前記バンク内における前記有機膜の膜厚分布を求めること
を特徴とする請求項1に記載の膜厚測定装置。 - 前記制御部は、
前記輝度分布に所定の変換係数を乗じることによって前記膜厚分布を求めること
を特徴とする請求項1または2に記載の膜厚測定装置。 - 前記撮像部は、
紫外光を遮断するフィルタを備えること
を特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の膜厚測定装置。 - 前記照射部は、
前記照射領域に対して斜め方向から紫外光を照射する向きに配置され、
前記撮像部は、
前記照射領域に対して光軸が垂直となる向きに配置されること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の膜厚測定装置。 - 前記撮像部は、
前記照射領域の上方に配置され、
前記照射部は、
前記照射領域の下方に配置されること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の膜厚測定装置。 - 前記照射部から照射される紫外光の光路を前記照射領域に向ける光路変更部
を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の膜厚測定装置。 - 有機膜が形成された基板上の照射領域に紫外光を照射する照射工程と、
前記紫外光の照射を受けた前記照射領域を撮像する撮像工程と、
前記撮像工程によって撮像された撮像画像の輝度分布に基づいて前記有機膜の膜厚分布を求める測定工程と
を含むことを特徴とする膜厚測定方法。
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