JP5539154B2 - アライメント方法、アライメント装置、及び有機el素子製造装置 - Google Patents
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Description
前記基板の重力方向の振動を計測し、
計測された前記基板の重力方向の振動データに基づいて逆位相の振動波を算出し、
前記逆位相の振動波を基板に付与することによって、前記基板の重力方向の振動を低減し、
前記基板の重力方向の振動が、予め設定された規定値内に入った時点で、前記基板とマスクにそれぞれ設けられたアライメントマークの相対位置を、前記基板の重力方向から撮影して、得られた画像データに基づいて基板又はマスクの水平方向での移動量を算出し、算出された移動量データに基づいて前記基板又はマスクを移動させることを特徴とする。
基板とマスクにそれぞれ設けられたアライメントマークの相対位置を、前記基板の重力方向から撮影して、得られた画像データに基づいて基板又はマスクの水平方向での移動量を算出し、算出された移動量データに基づいて前記基板又はマスクを移動させるアライメント手段と、
前記基板の重力方向の振動を計測するための振動計測手段と、
前記振動計測手段によって計測された前記基板の重力方向の振動データに基づいて逆位相の振動波を算出し、該逆位相の振動波を前記基板に付与することによって、前記基板の重力方向の振動を低減する振動除去手段と、を備えたことを特徴とする。
Claims (4)
- 基板とマスクとのアライメント方法であって、
前記基板の重力方向の振動を計測し、
計測された前記基板の重力方向の振動データに基づいて逆位相の振動波を算出し、
前記逆位相の振動波を基板に付与することによって、前記基板の重力方向の振動を低減し、
前記基板の重力方向の振動が、予め設定された規定値内に入った時点で、前記基板とマスクにそれぞれ設けられたアライメントマークの相対位置を、前記基板の重力方向から撮影して、得られた画像データに基づいて基板又はマスクの水平方向での移動量を算出し、算出された移動量データに基づいて前記基板又はマスクを移動させることを特徴とするアライメント方法。 - 基板とマスクとのアライメントを行うアライメント装置であって、
基板とマスクにそれぞれ設けられたアライメントマークの相対位置を、前記基板の重力方向から撮影して、得られた画像データに基づいて基板又はマスクの水平方向での移動量を算出し、算出された移動量データに基づいて前記基板又はマスクを移動させるアライメント手段と、
前記基板の重力方向の振動を計測するための振動計測手段と、
前記振動計測手段によって計測された前記基板の重力方向の振動データに基づいて逆位相の振動波を算出し、該逆位相の振動波を前記基板に付与することによって、前記基板の重力方向の振動を低減する振動除去手段と、を備えたことを特徴とするアライメント装置。 - 前記振動除去手段が、弾性部材を介して前記振動波を前記基板に付与する請求項2に記載のアライメント装置。
- 真空蒸着室内で蒸着源から発した有機材料を、基板の被成膜面にマスクを介して蒸着させる有機EL素子の製造装置であって、請求項2又は3に記載のアライメント装置を備えたことを特徴とする有機EL素子製造装置。
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