JP2016184712A - 半導体装置及びそれを用いた電力変換装置 - Google Patents
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Abstract
Description
IGBTのサイズを大きくすること無く1素子当りの定格電流を向上させるためには、ターンオフ時の安全動作領域(Reverse Bias Safe Operating Area:以下、RBSOA)を広げる必要がある。すなわち、より高い電流・電圧でもIGBTが破壊すること無く動作することが要求される。
101 コレクタ電極
102 pコレクタ層(第1半導体層)
103 n−基板(半導体基板)
104 エミッタ電極
105 トレンチ
106 ゲート電極
107 絶縁層
108 ゲート絶縁層
109 ダミートレンチ電極
110 ダミートレンチ絶縁層
111 n+ソース(第2半導体層)
112a 第1領域のp+コンタクト層(第3半導体層)
112b 第2領域のp+コンタクト層(第6半導体層)
113a 第1領域のpベース層(第4半導体層)
113b 第2領域のpベース層(第8半導体層)
114 nバリア層(第5半導体層)
115 n電界集中層(第7半導体層)
116 nバッファ層(第9半導体層)
2000 実施例2の半導体装置
201 pウェル201(第10半導体層)
2001 実施例2の変形例1の半導体装置
2002 実施例2の変形例2の半導体装置
3000 実施例3の半導体装置
4000 実施例4の半導体装置
401 第2のnバリア層(第11半導体層)
5000 実施例5の半導体装置
501 幅広トレンチ
502 サイドウォールゲート
503 フィールドプレート
504 サイドウォールゲート絶縁層
505 第1層間絶縁層
506 第2層間絶縁層
507 コンタクト溝
6000 実施例6の電力変換装置
601 ゲート駆動回路
602 IGBT
603 ダイオード
604、605 入力端子
606、607、608 出力端子
Claims (11)
- コレクタ電極と、
前記コレクタ電極の表面に形成された第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層の前記コレクタ電極が形成された側とは反対側に形成された第2導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の前記第1半導体層が形成された側とは反対側に形成されたエミッタ電極と、
前記エミッタ電極と前記半導体基板との間に形成された複数のトレンチと、
前記複数のトレンチのうちの少なくとも1つの内側に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極と前記エミッタ電極との間に形成された絶縁層と、
前記ゲート電極が形成されたトレンチと前記ゲート電極との間に形成されたゲート絶縁層と、
第1領域と、
第2領域と
を有する絶縁ゲート型バイポーラトランジスタを複数セル備えて構成される半導体装置であって、
前記第1領域は、
前記ゲート絶縁層に接して形成され、かつ、前記半導体基板より不純物濃度の高い第2導電型の第2半導体層と、
前記エミッタ電極の前記半導体基板側の表面に接して形成され、かつ、前記第1半導体層より不純物濃度の高い第1導電型の第3半導体層と、
前記ゲート電極に接し、かつ、前記第2半導体層の前記半導体基板側に形成され、かつ、前記第3半導体層より不純物濃度の低い第1導電型の第4半導体層と、
前記第4半導体層の前記半導体基板側に形成され、かつ、不純物濃度が前記半導体基板と同じかそれより高く前記第2半導体層より低い第2導電型の第5半導体層と
を有し、
前記第2領域は、
前記エミッタ電極の前記半導体基板側の表面に接して形成され、かつ、前記第1半導体層より不純物濃度の高い第1導電型の第6半導体層と、
前記第6半導体層の前記半導体基板側に形成され、かつ、不純物濃度が前記第5半導体層より高く前記第2半導体層より低い第2導電型の第7半導体層と
を有し、
前記第1領域と前記第2領域との間に、前記複数のトレンチのうちのいずれか1つを有する
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記第6半導体層と前記第7半導体層との間に形成され、かつ、不純物濃度が前記第1半導体層より高く前記第6半導体層より低い、第1導電型の第8半導体層を更に有する
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置において、
前記第1半導体層と前記半導体基板との間に形成され、かつ、不純物濃度が前記半導体基板と同じかそれより高く前記第2半導体層より低い、第2導電型の第9半導体層を更に有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置において、
前記複数セルを構成する1つのセル内において、該セルに隣接する他のセルとの間に、前記エミッタ電極とは前記絶縁層を介して互いに分離されているフローティング領域を更に有する
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置において、
前記フローティング領域の少なくとも一部に第1導電型の第10半導体層が形成される
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置において、
前記第1領域と前記フローティング領域とが互いに隣接して形成される
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置において、
前記第2領域と前記フローティング領域とが互いに隣接して形成される
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項7に記載の半導体装置において、
前記第1領域において、前記第5半導体層と前記第2領域側の前記トレンチとの間に、キャリア濃度が前記第5半導体層より高く、前記第7半導体層より低い第2導電型の第11半導体層が形成されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置において、
前記フローティング領域に幅広トレンチが形成され、
前記幅広トレンチの内側にサイドウォールゲート電極とフィールドプレートが形成され、
前記サイドウォールゲート電極と前記半導体基板はサイドウォールゲート絶縁層で分離され、
前記サイドウォールゲート電極と前記フィールドプレートは前記サイドウォールゲート絶縁層より厚い第1層間絶縁層で分離され、
前記フィールドプレートと前記半導体基板は第2層間絶縁層で分離されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項9に記載の半導体装置において、
前記サイドウォールゲート電極がエミッタ電極と同電位に接続されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至10のいずれか1項に記載の半導体装置を備えた電力変換装置。
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