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Description
本発明は、外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法に関する。更に詳しくは、排気系配管等の金属製品或いは金属部品を腐食させる虞のない外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法に関する。
従来、セラミックス製ハニカム構造体は、自動車排ガス浄化用触媒担体、ディーゼル微粒子除去フィルタ、或いは燃焼装置用蓄熱体等の広範な用途に使用されている。セラミックス製ハニカム構造体(以下、単に「ハニカム構造体」と称す。)は、成形材料(坏土)を調製し、押出成形機を用いて所望のハニカム形状に押出成形し、生切断、乾燥、仕上げ加工したハニカム成形体を、高温で焼成することで製造されている。ハニカム構造体は、流体の流路を形成する一方の端面から他方の端面まで延びる多角形の複数のセルを区画形成する格子状の隔壁を有している。
トラック等の大型自動車用の自動車排ガス浄化用触媒担体やディーゼル黒煙微粒子除去フィルタとして使用されるハニカム構造体は、直径の大きなものが必要となる。直径の大きなハニカム構造体でも、押出成形機を用いて所望の形状に一体成形することが可能であるが、押出成形直後に自重によりハニカム構造体全体が変形したり、セル構造の一部に変形やつぶれを生じたりする。これらの変形やつぶれを除去するために、焼成後に外周面を研削し、研削された外周面に外周コート材を塗布して外周壁を設け、所望の形状(例えば、円柱状等)のハニカム構造体を得ている。
特に、自動車排ガス浄化性能を向上させるため、高気孔率にしたり、ハニカム構造体の隔壁を薄型化したりするなど、ハニカム構造体を低嵩密度化する傾向が強くなっている。ハニカム構造体の低嵩密度化は、押出成形直後のハニカム形状を維持することを困難にし、ハニカム構造体の機械的強度を低下させる。そのため、従来の嵩密度では一体成形が可能であったハニカム構造体が、低嵩密度化により外周研削及び外周コートが必要となり、外周研削及び外周コートの対象が小型のハニカム構造体にも拡大しつつある。
ハニカム構造体の材料にSiC等の高耐熱材料を用いる場合は、材料の熱膨張が大きいため、一体成形すると使用中の温度勾配により亀裂を生じる。亀裂の発生を防止するために、予め複数の四角柱状のハニカム焼成体(ハニカムセグメント)を作製し、得られたハニカムセグメントの側面(接合面)に接合材を施与し、複数のハニカムセグメントを積層し、組み合わせて接合することで一つの大きなブロック状のハニカム構造体(ハニカムブロック体)を形成する。その後、ハニカムブロック体の外周面を研削し、所望の形状(例えば、円柱状等)のハニカム構造体に加工されている。
上記研削によってハニカム構造体の外周面のセルは、外部との間の隔壁が全部または一部取り除かれている。そのため、外部に開口し、軸方向に延びる不完全な隔壁が露出する。不完全な隔壁は外力により容易に剥離する。そこで、ハニカム構造体の外周面を保護し、形状を維持するために、ハニカム構造体の外周面に外周コート材を塗布し、乾燥することによって外周壁が形成される(例えば、特許文献1参照。)。すなわち、ハニカム径の大きい大型のハニカム構造体を製造する際には外周コート材、複数のハニカムセグメントを組み合わせてハニカム構造体を構成する場合は接合材及び外周コート材を使用する必要がある。
ハニカム構造体の外周壁を形成するために使用される外周コート材、及びハニカムセグメントの接合に使用される接合材は、それぞれの使用原料の一部としてコロイダルシリカが用いられている。ここで、コロイダルシリカは、通常の製造過程において塩酸などの塩素系化合物が使用される。そのため、これらのコロイダルシリカには、一般に、1000ppm程度の塩素成分が含有している。なお、係る塩素濃度は通常の使用においては特に問題のないものである。
ステンレス鋼や鉄鋼等の金属製品或いは金属部品は、塩素成分(塩化物イオン)と接触することで、金属製品等の表面全体或いは局所的に、腐食が進行することが知られている。そのため、これらの金属製品等を用いる場合には、塩化物イオンとの接触を極力抑えるような対策が講じられている。上記ハニカム構造体を自動車排ガス浄化用触媒担体等として採用した場合、ハニカム構造体中のコロイダルシリカの影響によって、主に金属から構成される自動車の排気系配管の一部を腐食させる懸念があった。焼成されたハニカム構造体自体は塩素を含まないが、外周コート材や接合材は一般に塩素を含むため、塩素を含まない外周コート材や接合材が求められている。
そこで、本発明は、上記従来の実情に鑑みてなされたものであり、塩素濃度を抑え、排気系配管等の腐食が発生する可能性を抑えた外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法が提供される。
本発明によれば、上記課題を解決した外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法が提供される。
[1] ハニカム構造体の外周面に塗布され、セルの一部が外部に開口した軸方向に延びる凹溝を充填するとともに外周面を覆い、前記外周面に外周壁を形成するための外周コート材であって、前記外周コート材の原料は、コロイダルシリカを含み、塩素濃度が150ppm以下である外周コート材。
[2] 四角柱状に形成された複数のハニカム焼成体を組み合わせて接合し、ブロック状のハニカム構造体を形成するための接合材であって、前記接合材の原料は、コロイダルシリカを含み、塩素濃度が150ppm以下である接合材。
[3] 前記[1]に記載の外周コート材を使用して外周壁が形成されたハニカム構造体であって、前記ハニカム構造体は、塩素濃度が100ppm以下であるハニカム構造体。
[4] 前記[2]に記載の接合材を使用して複数のハニカム焼成体を組み合わせて接合されたハニカム構造体であって、前記ハニカム構造体は、塩素濃度が100ppm以下であるハニカム構造体。
[5] ハニカム構造体の外周面に外周コート材を塗布し、外部に開口した軸方向に延びる凹溝を充填するとともに外周面を覆い、前記外周面に外周壁を形成する外周壁形成工程、及び、四角柱状に形成された複数のハニカム焼成体を組み合わせて接合し、ブロック状のハニカム構造体を形成する接合工程の少なくともいずれか一方と、前記外周壁形成工程、及び/または、前記接合工程を経て形成された前記ハニカム構造体を、600℃以上の加熱温度で加熱処理する加熱工程とを有し、前記加熱工程を経た前記ハニカム構造体は、塩素濃度が100ppm以下であるハニカム構造体の製造方法。
[6] 前記外周コート材及び/または接合材の原料は、コロイダルシリカを含み、使用する前記コロイダルシリカの塩素濃度が500ppm以下である前記[5]に記載のハニカム構造体の製造方法。
[7] 前記コロイダルシリカは、製造過程において使用される酸が、硫酸、燐酸、及び有機酸の少なくともいずれか一つである前記[6]に記載のハニカム構造体の製造方法。
[8] 前記有機酸は、酢酸である前記[7]に記載のハニカム構造体の製造方法。
本発明の外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法によれば、ハニカム径の大きなサイズのハニカム構造体を製造するために使用される外周コート材及び/または接合材に使用されるコロイダルシリカ由来の塩素濃度を抑えることで、ハニカム構造体全体の塩素濃度を減少させることができる。特に、500ppmを超える塩素成分を含有する場合であっても、600℃以上の加熱温度でハニカム構造体を加熱することで、ハニカム構造体に含まれる塩素成分を除去することができる。その結果、外周コート材、接合材、及びハニカム構造体において、塩素濃度をそれぞれ規定以下に抑えることができ、排気系配管等の金属製品或いは金属部品が腐食する可能性を低くすることができる。
以下、図面を参照しつつ本発明の外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法の実施の形態について詳述する。なお、本発明の外周コート材等は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱しない限りにおいて、種々の設計の変更、修正、及び改良等を加え得るものである。
本実施形態のハニカム構造体1は、図1〜図3に示すように、流体の流路を形成する一方の端面2aから他方の端面2bまで延びる四角形の複数のセル3を区画形成する格子状の隔壁4を備えるハニカム構造部5を有し、円柱状を呈している。ハニカム構造体1は、押出成形機を用いてハニカム成形体を一定成形した後、得られたハニカム成形体を所定の焼成温度で焼成することにより形成される。
更に具体的に説明すると、本実施形態のハニカム構造体1は、ハニカム成形体を焼成したハニカム焼成体6を研削し、研削後のハニカム焼成体6の外周面7に外周コート材(図示しない)を塗布し、乾燥させた外周壁8を備えている。
本実施形態のハニカム構造体1は、主としてトラック等の大型自動車用の自動車排ガス浄化用触媒担体としての使用を想定したものである。そのため、通常のハニカム構造体と比べてハニカム径が大きい特徴を備えている。成形材料を押出成形した直後のハニカム成形体は、まだ柔らかい状態にあり、自重等によってハニカム成形体の全体またはハニカム成形体のセルの一部が変形する可能性を有している。
ハニカム焼成体6の外周面を研削することで、上記の変形部分を取り除くことができる。更に、研削した外周面7に外周コート材(図示しない)を塗布し、乾燥させた外周壁8をハニカム構造体1は備えている。この外周壁8を設けることにより、ハニカム構造体1の全体の機械的強度を向上させることができる。これにより、図1及び図2に示すような円柱状のハニカム構造体1の製造が完了する。なお、図1において、図示を簡略化するため、ハニカム構造体1の外周面9の外周壁8を示すハッチングを省略している。
ハニカム焼成体6の外周面を研削することにより、研削した外周面7に位置する最外側のセル3aは、外部との間を仕切る隔壁4の少なくとも一部が除去されている。そのため、外部に開口し、かつハニカム構造体1(またはハニカム焼成体6)の中心軸方向(図2または図3において紙面手前から紙面奥行方向に相当)に延び、ハニカム構造体1(またはハニカム焼成体6)の中心に向かって窪んだ凹溝10が形成されている。外周面7に外周コート材を塗布することにより、この凹溝10が充填するとともに外周面を覆い、外周面7から所定厚さの外周壁8が形成される。
外周壁8を形成するための外周コート材は、ハニカム成形体と同一成分のセラミックス原料を骨材として使用することができる。このセラミックス原料としては、例えば、炭化珪素、珪素−炭化珪素系複合材料、コージェライト、チタン酸アルミニウム等を挙げることができる。このセラミックス原料に対して、水、結合剤として機能するコロイダルシリカ、セラミックスファイバー、無機添加剤、有機添加剤、発泡粒子、及び界面活性剤等が添加される。
外周壁8を形成するための外周コート材は、コロイダルシリカが使用される。コロイダルシリカは、水ガラスを原料として製造する「水ガラス法」と、アルコキシドを加水分解して製造する「アルコキシド法」の二つの手法が主に製造工程において用いられている。
「水ガラス法」は、アルカリ珪酸塩の水溶液を、イオン交換樹脂と接触させて脱アルカリとした後で得られた珪酸塩溶液に酸を加えて酸処理した後、酸性珪酸コロイド液中の不純物を限外濾過膜を用いて除去し、オリゴ珪酸溶液を調製する。その後、オリゴ珪酸溶液の一部に、アンモニア等を加え、弱酸性から弱アルカリ性の間で加熱処理をすることで、「ヒールゾル」を形成する。その後、得られたヒールゾルにオリゴ珪酸塩の残りを徐々に滴下することで、コロイド粒子の成長を促進されるものである。
「アルコキシド法」は、酸性の水性溶媒中に投入されたアルコキシシラン(更に、具体的にはテトラアルコキシシラン)の加水分解処理を行い、珪酸モノマーを得た後、該珪酸モノマーを塩基性の水性溶媒中に加え、重合処理を行うものである。これにより、加水分解処理と同時に、モノマーの縮合及びシリカ粒子の成長を行いながらシリカ粒子の製造を行うものである。
上述のように、コロイダルシリカの製造の主流となる水ガラス法及びアルコキシド法のいずれの場合においても、コロイダルシリカの製造には酸を加えてpH調整を行う酸処理の工程が必須となる。このとき、製造コストや入手容易性、取扱性等の観点から、酸として塩酸が用いられることが一般的である。そのため、塩酸を使用して製造されたコロイダルシリカには、塩素成分(塩化物イオン)が微量ではあるが存在している。そのため、排気系配管等の金属製品等に対する腐食の可能性が一部において指摘されている。
そこで、本実施形態の外周コート材は、使用原料の一部として使用するコロイダルシリカの塩素濃度を150ppm以下のものとする特徴を備える。すなわち、上述したように、主として塩酸を使用して製造されていたコロイダルシリカに対し、製造過程において塩酸以外の硫酸、燐酸、酢酸、または有機酸を酸処理に使用する。これにより、コロイダルシリカの塩素濃度が、1000ppm程度から500ppm以下となる。このコロイダルシリカを用いて、外周コート材及び接合材を調製した場合、それぞれにおいて塩素濃度が150ppm以下となる。そして、最終的にハニカム構造体1の塩素濃度が100ppm以下となる。
図4に示すように、本発明の別例構成として、複数の四角柱状のハニカムセグメント11(ハニカム焼成体)を組み合わせ、互いの側面同士を接合材(図示しない)を用いて接合したブロック状のハニカムブロック体を形成し(接合工程)、当該ハニカムブロック体の外周面を研削し、所望形状のハニカム構造体12としたものであってもよい。このハニカム構造体12は、上記ハニカム構造体1と同様に、ハニカムブロック体の外周面13に、外周コート材を塗布し、外周壁14が形成される。更に、ハニカムセグメント11の間には、接合材から構成された接合層15を有している。なお、図4において、図示を簡略化するため、ハニカム構造体1と同様に、ハニカム構造体12の外周面16の外周壁14を示すハッチングを省略している。
使用する接合材は、前述した外周コート材と同様に、ハニカム成形体の成形材料として使用されるセラミックス原料をベースに、水、無機バインダー、有機バインダー、及び分散剤等を含有している。ここで、無機バインダーの一種として少なくともコロイダルシリカを含んでいる。すなわち、上記外周コート材と同じく「水ガラス法」または「アルコキシド法」のいずれか一つの手法で生成されたコロイダルシリカが用いられる。そのため、接合材は、微量の塩素成分を含んでいる可能性がある。
そこで、本実施形態の外周コート材は、使用原料の一部として使用するコロイダルシリカの塩素濃度を、それぞれ150ppm以下のものとする特徴を備える。すなわち、上述したように、主として塩酸を使用して製造されていたコロイダルシリカに対し、製造過程において塩酸以外の硫酸、燐酸、酢酸、または有機酸を酸処理に使用する。これにより、コロイダルシリカの塩素濃度が、1000ppm程度から500ppm以下となる。このコロイダルシリカを用いて、外周コート材及び接合材を調製した場合、それぞれにおいて塩素濃度が150ppm以下となる。そして、最終的にハニカム構造体1の塩素濃度が100ppm以下となる。
次に、本実施形態の外周コート材を用いたハニカム構造体の製造方法について説明する。ここで、予め調製されたセラミックス原料をベースとする成形材料(坏土)からハニカム成形体を押出成形し、その後の焼成工程を経て円柱状のハニカム焼成体6を得るまでの工程は、ハニカム構造体の製造方法において既に周知のものである。したがって、これらの工程についての詳細な説明は省略する。なお、押出成形されたハニカム成形体は、高温で焼成されるため、仮に成形材料中に塩素成分を多く含む原料を使用していた場合であっても、当該塩素成分は加熱によって消散する。その結果、得られたハニカム焼成体6はほとんど塩素成分を含まない。
(1)研削工程
焼成工程を経て形成された円柱状のハニカム焼成体6の外周面を周知の研削装置を用いて研削する。これにより、押出成形後に自重等で変形したハニカム成形体全体またはセルの一部に発生した変形が除去される。これにより、不完全な隔壁4a(図3参照)が研削済みの外周面7の表面に露出した状態のハニカム焼成体6が形成される。この状態では、外周面7の表面は非常に脆弱で、僅かな衝撃で外周面7に形成された不完全な隔壁4aが容易に剥離する。
焼成工程を経て形成された円柱状のハニカム焼成体6の外周面を周知の研削装置を用いて研削する。これにより、押出成形後に自重等で変形したハニカム成形体全体またはセルの一部に発生した変形が除去される。これにより、不完全な隔壁4a(図3参照)が研削済みの外周面7の表面に露出した状態のハニカム焼成体6が形成される。この状態では、外周面7の表面は非常に脆弱で、僅かな衝撃で外周面7に形成された不完全な隔壁4aが容易に剥離する。
(2)外周壁形成工程
ハニカム焼成体6を研削すると、研削された外周面7に中心軸方向に沿って延びた上記の不完全な隔壁4aが露出する。不完全な隔壁4aが露出した外周面7に外周コート材を塗布する。このとき、使用する外周コート材は、前述のように、塩素濃度が150ppm以下のものである。その結果、外周面7に位置するセル3aの凹溝10に当該外周コート材が充填されるとともに、外周面7が外周コート材で被覆される。塗布された外周コート材を乾燥させることにより、外周壁8が形成される。外周壁8はハニカム焼成体6の内部構造を保護する。なお、図1及び図2において、外側のハッチング領域は、外周コート材によって形成された外周壁8の状態を示している。これにより、本実施形態の外周コート材を用いたハニカム構造体1の製造が完了する。
ハニカム焼成体6を研削すると、研削された外周面7に中心軸方向に沿って延びた上記の不完全な隔壁4aが露出する。不完全な隔壁4aが露出した外周面7に外周コート材を塗布する。このとき、使用する外周コート材は、前述のように、塩素濃度が150ppm以下のものである。その結果、外周面7に位置するセル3aの凹溝10に当該外周コート材が充填されるとともに、外周面7が外周コート材で被覆される。塗布された外周コート材を乾燥させることにより、外周壁8が形成される。外周壁8はハニカム焼成体6の内部構造を保護する。なお、図1及び図2において、外側のハッチング領域は、外周コート材によって形成された外周壁8の状態を示している。これにより、本実施形態の外周コート材を用いたハニカム構造体1の製造が完了する。
(3)加熱工程
本実施形態のハニカム構造体の製造方法において、必要に応じて上記(2)で得られたハニカム構造体1を加熱炉内に導入し、600℃以上の加熱温度で所定時間加熱処理をする加熱工程を行ってもよい。塩素成分は高温で加熱することにより、消散することが知られている。そのため、製造された最終製品のハニカム構造体1に対して加熱処理を施すことにより、外周コート材に含まれていた塩素成分を除去することができ、ハニカム構造体1に含まれる塩素濃度を低減することができる。これにより、ハニカム構造体1の全体の塩素濃度を100ppm以下にすることができる。
本実施形態のハニカム構造体の製造方法において、必要に応じて上記(2)で得られたハニカム構造体1を加熱炉内に導入し、600℃以上の加熱温度で所定時間加熱処理をする加熱工程を行ってもよい。塩素成分は高温で加熱することにより、消散することが知られている。そのため、製造された最終製品のハニカム構造体1に対して加熱処理を施すことにより、外周コート材に含まれていた塩素成分を除去することができ、ハニカム構造体1に含まれる塩素濃度を低減することができる。これにより、ハニカム構造体1の全体の塩素濃度を100ppm以下にすることができる。
(4)接合材を用いたハニカム構造体
上述した本発明の別例構成のハニカム構造体12についても、外周コート材と同様に、接合材の使用原料の一部として使用するコロイダルシリカの塩素濃度を150ppm以下とする。これにより、最終的にハニカム構造体12の塩素濃度が100ppm以下となる。
上述した本発明の別例構成のハニカム構造体12についても、外周コート材と同様に、接合材の使用原料の一部として使用するコロイダルシリカの塩素濃度を150ppm以下とする。これにより、最終的にハニカム構造体12の塩素濃度が100ppm以下となる。
以下、本発明の外周コート材、及び該外周コート材を用いたハニカム構造体の実施例について説明するが、本発明の外周コート材、及びハニカム構造体は、これらの実施形態に限定されるものではない。なお、接合材に関しては、使用するコロイダルシリカを同一のものとすることにより、外周コート材とほぼ同一の結果を示すと想定されるため、実施例の提示を省略している。
(1)コロイダルシリカ、乾燥前後の外周コート材の塩素濃度、及び加熱処理の影響
塩素濃度が異なるコロイダルシリカ(実施例1〜7、比較例1)を使用して外周コート材を調製した。使用したコロイダルシリカの塩素濃度、乾燥前の外周コート材の塩素濃度、及び乾燥後の外周コート材の塩素濃度の測定結果を下記の表1に示す。なお、実施例6,7については、上述した加熱工程を実施した後の各加熱温度における外周コート材の塩素濃度を併せて示している。
塩素濃度が異なるコロイダルシリカ(実施例1〜7、比較例1)を使用して外周コート材を調製した。使用したコロイダルシリカの塩素濃度、乾燥前の外周コート材の塩素濃度、及び乾燥後の外周コート材の塩素濃度の測定結果を下記の表1に示す。なお、実施例6,7については、上述した加熱工程を実施した後の各加熱温度における外周コート材の塩素濃度を併せて示している。
塩素濃度の測定は、熱加水分解−イオンクロマトグラフ分析方法を用いて行った。具体的に説明すると、不活性雰囲気下においた測定対象の試料を水蒸気気流中で加熱分解(熱加水分解)し、塩素をアルカリ溶液で捕集して試料溶液を調製する。得られた試料溶液をイオンクロマトグラフィー質量分析装置(IC−MS)を利用して分析し、試料溶液中の塩素イオン量を測定する。これにより、塩素濃度が測定される。
表1に示すように、実施例1〜5の500ppm以下のコロイダルシリカを用いた場合、乾燥前の外周コート材及び乾燥後の外周コート材(外周壁)においても、塩素成分が150ppm以下となることが確認された。すなわち、外周コート材に使用するコロイダルシリカの塩素濃度を抑制することにより、外周コート材自体の塩素濃度を減少させることができる。
一方、実施例6,7及び比較例1は、コロイダルシリカの塩素濃度が943ppmであり、実施例1〜5に比べて塩素濃度が高いものである。そのため、乾燥前及び乾燥後のいずれにおいても外周コート材(または外周壁)の塩素濃度が150ppm以上であり、本発明における塩素濃度の上限値を超える。したがって、外周コート材に用いるコロイダルシリカの塩素濃度は、少なくとも500ppm以下のものを用いる必要がある。
しかしながら、実施例6または実施例7に示すように、乾燥後の外周コート材に対して加熱処理を行った場合の加熱後の外周コート材(外周壁)の塩素濃度は、それぞれ134ppmまたは80ppmである。したがって、600℃以上の加熱温度で外周コート材(外周壁)を加熱処理することにより、外周コート材に含まれる塩素成分が外部に蒸散し、塩素濃度を低くすることができる。
特に、実施例6の600℃の加熱温度よりも高い実施例7の675℃の加熱温度で加熱処理をした場合、外周コート材の塩素濃度を100ppm以下の著しく低い値とすることができる。そのため、少なくとも、600℃以上、より好適には675℃以上の加熱温度で加熱することが望ましい。しかしながら、加熱温度が高すぎるとハニカム構造体や外周コート材にクラック等が生じるなどの不具合の発生の可能性が高くなるため、過剰な加熱温度による加熱は避ける必要がある。
上記結果から、1000ppm程度の塩素濃度が高いコロイダルシリカを外周コート材に用いた場合であっても、加熱処理を行うことで本発明における塩素濃度の上限値内に抑えることができ、実用性を有することが確認された。なお、比較例1は、実施例6または実施例7と同じコロイダルシリカを用いて行い、比較対象のために、加熱処理を行わなかったものである。
(2)ハニカム構造体の塩素濃度
実施例1〜7、比較例1のコロイダルシリカを使用して調製された外周コート材を、押出成形により一体的に形成されたコージェライト製のハニカム構造体の外周面に塗布し、外周壁を形成した。得られたハニカム構造体(実施例1〜7、比較例1,2)の塩素濃度の測定結果を下記の表2に示す。ここで、比較例2は、比較例1の外周コート材(表1参照)を異なる隔壁厚及び気孔率のハニカム構造体に塗布したものを示している。
実施例1〜7、比較例1のコロイダルシリカを使用して調製された外周コート材を、押出成形により一体的に形成されたコージェライト製のハニカム構造体の外周面に塗布し、外周壁を形成した。得られたハニカム構造体(実施例1〜7、比較例1,2)の塩素濃度の測定結果を下記の表2に示す。ここで、比較例2は、比較例1の外周コート材(表1参照)を異なる隔壁厚及び気孔率のハニカム構造体に塗布したものを示している。
ハニカム構造体は、隔壁厚:0.15mm、セル密度:46.5個/cm2、気孔率:60%、ハニカム構造体のハニカム径:144mm、ハニカム構造体の全長:152mm、全重量:770g、乾燥後の外周コート材(外周壁)の重量:293g、基材重量:477gのものである(比較例1を除く。)。比較例1は、隔壁厚:0.20mm、セル密度:46.5個/cm2、気孔率:35%、ハニカム構造体のハニカム径:144mm、ハニカム構造体の全長:152mm、全重量:1130g、乾燥後の外周コート材(外周壁)の重量:293g、基材重量:837gのものである。
表2に示すように、実施例1〜7のいずれにおいても、ハニカム構造体の塩素濃度は、100ppm以下であることが確認された。なお、実施例6,7については、外周コート材の塗布後に加熱処理を行った結果を示している。ハニカム構造体の塩素濃度がいずれも100ppm以下であるため、排気系配管等に使用した場合であっても塩素成分を原因とする腐食の虞がほとんどないことが確認された。
本発明の外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法は、自動車排ガス浄化用触媒担体、ディーゼル微粒子除去フィルタ、あるいは燃焼装置用蓄熱体等に利用可能なハニカム構造体の製造に使用することができる。
1,12:ハニカム構造体、2a:一方の端面、2b:他方の端面、3,3a:セル、4:隔壁、4a:不完全な隔壁、5:ハニカム構造部、6:ハニカム焼成体、7,9,13,16:外周面、8,14:外周壁、10:凹溝、11:ハニカムセグメント、15:接合層。
Claims (8)
- ハニカム構造体の外周面に塗布され、セルの一部が外部に開口した軸方向に延びる凹溝を充填するとともに外周面を覆い、前記外周面に外周壁を形成するための外周コート材であって、
前記外周コートの原料は、コロイダルシリカを含み、
塩素濃度が150ppm以下である外周コート材。 - 四角柱状に形成された複数のハニカム焼成体を組み合わせて接合し、ブロック状のハニカム構造体を形成するための接合材であって、
前記接合材の原料は、コロイダルシリカを含み、
塩素濃度が150ppm以下である接合材。 - 請求項1に記載の外周コート材を使用して外周壁が形成されたハニカム構造体であって、
前記ハニカム構造体は、
塩素濃度が100ppm以下であるハニカム構造体。 - 請求項2に記載の接合材を使用して複数のハニカム焼成体を組み合わせて接合されたハニカム構造体であって、
前記ハニカム構造体は、
塩素濃度が100ppm以下であるハニカム構造体。 - ハニカム構造体の外周面に外周コート材を塗布し、外部に開口した軸方向に延びる凹溝を充填するとともに外周面を覆い、前記外周面に外周壁を形成する外周壁形成工程、及び、四角柱状に形成された複数のハニカム焼成体を組み合わせて接合し、ブロック状のハニカム構造体を形成する接合工程の少なくともいずれか一方と、
前記外周壁形成工程、及び/または、前記接合工程を経て形成された前記ハニカム構造体を、600℃以上の加熱温度で加熱処理する加熱工程と
を有し、
前記加熱工程を経た前記ハニカム構造体は、
塩素濃度が100ppm以下であるハニカム構造体の製造方法。 - 前記外周コート材及び/または接合材の原料は、コロイダルシリカを含み、
使用する前記コロイダルシリカの塩素濃度が、
500ppm以下である請求項5に記載のハニカム構造体の製造方法。 - 前記コロイダルシリカは、
製造過程において使用される酸が、硫酸、燐酸、及び有機酸の少なくともいずれか一つである請求項6に記載のハニカム構造体の製造方法。 - 前記有機酸は、
酢酸である請求項7に記載のハニカム構造体の製造方法。
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