JP2016175991A - 偏光板保護フィルム、偏光板、液晶表示装置、及び偏光板保護フィルムの製造方法、 - Google Patents
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Abstract
Description
また、特許文献2には低透湿ハードコートフィルムが記載されているが、ハードコート層はウレタンアクリレート等で形成しているため、ハードコート層としての透湿度低減効果は小さく、支持体の厚みが低減しつつある近年においては、更なる改良が必要であった。更に、特許文献3では、低透湿性については検討されておらず、偏光板保護フィルムとしての耐久性も十分なレベルではなかった。
厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、膜厚3〜10μmのハードコート層を有する偏光板保護フィルムであって、
上記ハードコート層は、下記(a)〜(d)を含むハードコート層形成用組成物を硬化してなる層であり、
上記偏光板保護フィルムは、温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRAとし、温度85℃、相対湿度85%環境下で24時間曝露した後の温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRBとした場合、
WVTRAが300g/m2/day以下であり、かつWVTRA/WVTRBが0.6〜1.0である、偏光板保護フィルム。
(a)分子内に少なくとも1個の脂環式エポキシ基を有する化合物
(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
(c)ラジカル重合開始剤
(d)カチオン重合開始剤
[2]
上記WVTRAが230g/m2/day未満であり、WVTRA/WVTRBが0.7〜1.0である、[1]に記載の偏光板保護フィルム。
[3]
上記(a)が下記一般式(1)で表され、分子内に1個の脂環式エポキシ基と1個のエチレン性不飽和二重結合性基とを有し、分子量が300以下の化合物である、[1]又は[2]に記載の偏光板保護フィルム。
一般式(1)
[4]
上記(a)が下記一般式(2)で表される繰り返し単位を有し、重量平均分子量が1500以上の化合物である、[1]又は[2]に記載の偏光板保護フィルム。
一般式(2)
[5]
上記ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対し、上記(a)の含有量が10〜40質量%、上記(b)の含有量が35〜89.8質量%、上記(c)の含有量が0.1〜10質量%、上記(d)の含有量が0.1〜10質量%である、[1]〜[4]のいずれかに記載の偏光板保護フィルム。
[6]
上記ハードコート層形成用組成物は更に、上記組成物中の全固形分に対し、(e)エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する平均粒子径10〜100nmの無機微粒子を5〜40質量%含む、[1]〜[5]のいずれかに記載の偏光板保護フィルム。
[7]
上記(c)の波長230nm〜500nmにおける最大吸収波長λcと、上記(d)の波長260nm〜500nmにおける最大吸収波長λdが、下記式(3)を満たす、[1]〜[6]のいずれかに記載の偏光板保護フィルム。
λd−λc≧30nm 式(3)
[8]
上記ハードコート層形成用組成物は更に、(f)紫外線吸収剤を含む、[1]〜[7]のいずれかに記載の偏光板保護フィルム。
[9]
上記(c)の波長230nm〜500nmにおける最大吸収波長λcと、上記(d)の波長260nm〜500nmにおける最大吸収波長λdと、上記(f)の波長230nm〜500nmにおける最大吸収波長λfが、下記式(3)及び(4)を満たす、[8]に記載の偏光板保護フィルム。
λd−λc≧30nm 式(3)
λf−λd≧60nm 式(4)
[10]
上記セルロースアシレートフィルムが、下記一般式Iで表される化合物を含有する、[1]〜[9]のいずれかに記載の偏光板保護フィルム。
[11]
偏光子と、少なくとも1枚の[1]〜[10]のいずれかに記載の偏光板保護フィルムとを含む偏光板。
[12]
液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された[11]に記載の偏光板とを含み、上記偏光板保護フィルムが最表面に配置された液晶表示装置。
[13]
厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、膜厚3〜10μmのハードコート層を有し、温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRAとし、温度85℃、相対湿度85%環境下で24時間曝露した後の温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRBとした場合に、WVTRAが300g/m2/day以下であり、かつWVTRA/WVTRBが0.6〜1.0である、偏光板保護フィルムの製造方法であって、
厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、下記(a)〜(d)を含むハードコート層形成用組成物を塗布して、乾燥する工程と、紫外線硬化する工程と、を有し、
上記紫外線硬化する工程は、膜面温度を40℃以下とし、照射量を30mJ/cm2以上として紫外線照射した後に、膜面温度を50℃以上とし、照射量を200mJ/cm2以上として紫外線照射する工程である、偏光板保護フィルムの製造方法。
(a)分子内に少なくとも1個の脂環式エポキシ基を有する化合物
(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
(c)ラジカル重合開始剤
(d)カチオン重合開始剤
本発明の偏光板保護フィルムは、厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、膜厚3〜10μmのハードコート層を有する偏光板保護フィルムであって、ハードコート層は、下記a)〜d)を含むハードコート層形成用組成物を硬化してなる層であり、偏光板保護フィルムは、温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRAとし、温度85℃、相対湿度85%環境下で24時間曝露した後の温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRBとした場合、WVTRAが300g/m2/day以下であり、かつWVTRA/WVTRBが0.6〜1.0である、偏光板保護フィルムである。
a)分子内に少なくとも1個の脂環式エポキシ基を有する化合物
b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
c)ラジカル重合開始剤
d)カチオン重合開始剤
また、本発明の偏光板保護フィルムは、温度を85℃、相対湿度85%環境下で24時間曝露した後の温度40℃、相対湿度を90%環境下での透湿度(WVTRB)に対する上記WVTRAの比(WVTRA/WVTRB)は0.6〜1.0であり、0.7〜1.0が好ましく、0.75〜1.0が更に好ましい。WVTRA、及びWVTRA/WVTRBを上記範囲にする事によって、耐久性に優れた偏光板保護フィルムを得る事ができる。
本発明者らは、ハードコート層を有する偏光板保護フィルムを偏光板に用いた際、過酷な湿熱環境下においては、WVTRAだけでなく、WVTRA/WVTRBが上記範囲を満たすことが重要であることを見出した。本発明者らは、WVTRA/WVTRBが0.6未満であると、高温高湿環境下において、偏光子(典型的にはPVA)の吸水によって偏光子が劣化するだけでなく、ハードコート層中の成分が偏光子へ移動して、偏光子の劣化を引き起こしていると推定している。
本発明の偏光板保護フィルムにおけるハードコート層の膜厚は3〜10μmであり、5〜8μmがより好ましい。膜厚を上記範囲にする事で、表面硬度及び透湿度のバランスを取る事ができる。膜厚が3μm以上であると、フィルム透湿度を下げることができる。また、膜厚を10μm以下とすることにより、脆性の悪化を防止することができる。
本発明におけるハードコート層形成用組成物は少なくとも下記a)〜d)を含む。これにより、得られるハードコート層の透湿度を下げる事ができる。更に、透湿度を下げるためには、ハードコート層形成用組成物中に、(e)エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する平均粒子径10〜100nmの無機微粒子を、組成物中の全固形分に対して5〜40質量%を添加する事が好ましい。これは、無機粒子によって透湿経路長が長くなり、透湿度を低減する事ができるためである。また、エチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する事によって、透湿度の安定性を高める事ができる。
ハードコート層形成用組成物中に(e)無機微粒子を添加する場合、その添加量は組成物中の全固形分に対して、5〜40質量%であることがより好ましい。
本発明のハードコート層形成用組成物に含有される、(a)分子内に少なくとも1個の脂環式エポキシ基を有する化合物について説明する。以下、(a)分子内に少なくとも1個の脂環式エポキシ基を有する化合物を「化合物(a)」とも称する。
ハードコート層形成用組成物が脂環式エポキシ基を有する化合物を含有する事によって、緻密な膜を形成し、透湿度を低減できると推定している。化合物(a)の具体的な化合物としては、下記化合物(a1)又は化合物(a2)を用いる事が好ましい。
一般式(1)
Qa1で表されるエチレン性不飽和二重結合性基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基及び−C(O)OCH=CH2が好ましく、特に好ましくは(メタ)アクリロイル基である。エチレン性不飽和二重結合性基を有する事によって、高い硬度を維持する事ができ、WVTRA/WVTRBを0.6以上にする事ができる。
化合物(a1)における脂環式エポキシ基とエチレン性不飽和二重結合性基数はそれぞれ1個が好ましい。各官能基数が1個であれば、全体として分子量が小さくなり、透湿度が低く、表面硬度が高くなる傾向がある。
また、ハードコート層形成時の揮発を抑制する観点から、化合物(a1)の分子量は100以上であることが好ましく、150以上であることがより好ましい。
一般式(1)中のRa1が架橋炭化水素の場合、2環系架橋(bicyclo環)、3環系架橋(tricyclo環)が好ましく、炭素数5〜20個の架橋炭化水素が挙げられ、ノルボルニル基、ボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基、アダマンチル基、低級アルキル基置換アダマンチル基等が挙げられる。
中でも、下記一般式(1A)又は(1B)で表される化合物がより好ましく、分子量が低い下記一般式(1A)で表される化合物が更に好ましい。
一般式(1A)
なお、一般式(1A)又は(1B)で表される化合物はその異性体も好ましい。
Xa2がアルキレン基を表す場合、直鎖状、分岐状又は環状のいずれのアルキレン基でもよい。アルキレン基としては、炭素数1〜6のアルキレン基が好ましく、炭素数1〜3のアルキレン基がより好ましい。アルキレン基としては、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、シクロヘキシレン基が好ましい。
Xa2がアリーレン基を表す場合、炭素数6〜18のアリーレン基が好ましく、炭素数6〜12のアリーレン基がより好ましい。アリーレン基としては、具体的には、フェニレン基、ナフチレン基が好ましい。
Xa2がアラルキレン基を表す場合、炭素数7〜19のアラルキレン基が好ましく、炭素数7〜13のアラルキレン基がより好ましい。アラルキレン基としては、上記アルキレン基の好ましい範囲と上記アリーレン基の好ましい範囲とからなるアルキレン基が好ましい。
また、Xa2は、上記連結基を組み合わせてなる連結基であってもよく、組み合わせてなる連結基としては、エステル結合とアルキレン基とを組み合わせてなる連結基、アリーレン基とエステル結合とアルキレン基とを組み合わせてなる連結基、アルキレン基とエーテル結合とを組み合わせてなる連結基、カルボニル結合と−NH−とアルキレン基とエーテル結合とを組み合わせてなる連結基などが挙げられる。
Xとしては、単結合が最も好ましい。
La2がアルキレン基を表す場合、直鎖状、分岐状又は環状のいずれのアルキレン基でもよい。アルキレン基としては、炭素数1〜6のアルキレン基が好ましく、炭素数1〜3のアルキレン基がより好ましい。アルキレン基としては、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、シクロヘキシレン基が好ましい。
La2がアリーレン基を表す場合、炭素数6〜18のアリーレン基が好ましく、炭素数6〜12のアリーレン基がより好ましい。アリーレン基としては、具体的には、フェニレン基、ナフチレン基が好ましい。
La2がアラルキレン基を表す場合、炭素数7〜19のアラルキレン基が好ましく、炭素数7〜13のアラルキレン基がより好ましい。アラルキレン基としては、上記アルキレン基の好ましい範囲と上記アリーレン基の好ましい範囲とからなるアルキレン基が好ましい。
また、La2は、上記連結基を組み合わせてなる連結基であってもよく、組み合わせてなる連結基としては、エステル結合とアルキレン基とを組み合わせてなる連結基、アリーレン基とエステル結合とアルキレン基とを組み合わせてなる連結基、アルキレン基とエーテル結合とを組み合わせてなる連結基、カルボニル結合と−NH−とアルキレン基とエーテル結合とを組み合わせてなる連結基などが挙げられる。
La2としては、エステル結合、エーテル結合、−CONH−、アルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる連結基が好ましい。
化合物(a2)の重量平均分子量が1500以上であることにより、WVTRA/WVTRBが0.6以上となり、耐久性の優れた偏光板保護フィルムを作製する事ができる。
化合物(a2)の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定(溶媒:テトラヒドロフラン、カラム:東ソー社製TSKgel SuperHZM−H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200、カラム温度:40℃、流速:1.0mL/分、検出器:RI)によるポリスチレン換算値として定義される。
本発明におけるハードコート層形成用組成物に含有される(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物について説明する。以下、(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物を「化合物(b)」とも称する。
化合物(b)は、分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する事によって、高い硬度を発現できる。
化合物(b)としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル、ビニルベンゼン及びその誘導体、ビニルスルホン、(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。中でも硬度の観点から、3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましく、本業界で広範に用いられる高硬度の硬化物を形成するアクリレート系化合物が挙げられる。このような化合物としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル{例えば、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。
3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬(株)製KAYARAD DPHA、同DPHA−2C、同PET−30、同TMPTA、同TPA−320、同TPA−330、同RP−1040、同T−1420、同D−310、同DPCA−20、同DPCA−30、同DPCA−60、同GPO−303、大阪有機化学工業(株)製V#400、V#36095D等のポリオールと(メタ)アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光UV−1400B、同UV−1700B、同UV−6300B、同UV−7550B、同UV−7600B、同UV−7605B、同UV−7610B、同UV−7620EA、同UV−7630B、同UV−7640B、同UV−6630B、同UV−7000B、同UV−7510B、同UV−7461TE、同UV−3000B、同UV−3200B、同UV−3210EA、同UV−3310EA、同UV−3310B、同UV−3500BA、同UV−3520TL、同UV−3700B、同UV−6100B、同UV−6640B、同UV−2000B、同UV−2010B、同UV−2250EA、同UV−2750B(日本合成化学(株)製)、UL−503LN(共栄社化学(株)製)、ユニディック17−806、同17−813、同V−4030、同V−4000BA(大日本インキ化学工業(株)製)、EB−1290K、EB−220、EB−5129、EB−1830,EB−4358(ダイセルUCB(株)製)、ハイコープAU−2010、同AU−2020((株)トクシキ製)、アロニックスM−1960(東亜合成(株)製)、アートレジンUN−3320HA,UN−3320HC,UN−3320HS、UN−904,HDP−4Tなどの3官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスM−8100,M−8030,M−9050(東亞合成(株)製、KBM−8307(ダイセルサイテック(株)製)の3官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
化合物(b)は、分子内にエポキシ基を有さないことが好ましい。
化合物(b)は、1種単独でもよいし、2種以上を組み合わせて用いる事もできる。
本発明におけるハードコート層形成用組成物に含有される(c)ラジカル重合開始剤について説明する。以下、(c)ラジカル重合開始剤を「(c)成分」とも称する。
エチレン性不飽和基を有する化合物の重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
光及び熱重合開始剤としては市販の化合物を利用することができ、それらは、「最新UV硬化技術」(p.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行)や、BASF社のカタログに記載されている。
(c)成分としては、具体的には、アルキルフェノン系光重合開始剤(Irgacure651、Irgacure184、DAROCURE1173、Irgacure2959、Irgacure127、DAROCURE MBF、Irgacure907、Irgacure369、Irgacure379EG)、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤(Irgacure819、LUCIRIN TPO)、その他(Irgacure784、Irgacure OXE01、Irgacure OXE02、Irgacure754)等を用いる事ができる。
(c)成分の添加量は、ハードコート層形成用組成物の全固形分を100質量%とした場合に、0.1〜10質量%の範囲が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。添加量が0.1質量%以上であれば、重合が十分に進み、ハードコート層の硬度が向上する。一方、10質量%以下であれば、紫外線が膜内部まで届き、ハードコート層の硬度が向上する。これらラジカル開始剤は単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いる事もできる。
本発明におけるハードコート層形成用組成物に含有される(d)カチオン重合開始剤について説明する。以下、(d)カチオン重合開始剤を「(d)成分」とも称する。
(d)成分としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。
例えば、オニウム化合物、有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物が挙げられる。有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物のこれらの具体例は、上記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
(d)成分は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分を100質量%とした場合に、0.1〜10質量%の範囲で添加されることが好ましく、0.5〜3.0質量%の割合で添加することがより好ましい。添加量を上記範囲に調整すると、硬化性組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。
式(3): λd−λc≧30nm
λd−λcは30nm以上である事が好ましく、35nm以上である事がより好ましい。(c)成分と(d)成分の吸収波長を上記範囲で設計する事によって、効率的に塗膜を硬化する事ができ、透湿度の安定性を高める事ができる。
本発明におけるハードコート層形成用組成物は、更に、(e)エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する無機微粒子を含有することが好ましい。以下、(e)エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する無機微粒子を「(e)成分」とも称する。
無機微粒子としては例えば、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。中でもシリカ粒子が好ましい。
表面修飾剤は、無機微粒子と結合を形成するか無機微粒子に吸着しうる官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有するものが好ましい。無機微粒子に結合もしくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。さらに有機成分との親和性の高い官能基としては単に有機成分と親疎水性を合わせただけのものでもよいが、有機成分と化学的に結合しうる官能基が好ましく、特にエチレン性不飽和二重結合性基、もしくは開環重合性基が好ましい。
本発明において好ましい無機微粒子表面修飾剤は、金属アルコキシド又はアニオン性基と、エチレン性不飽和二重結合性基又は開環重合性基と、を同一分子内に有する硬化性樹脂である。有機成分と化学的に結合させる事によって、ハードコート層の架橋密度が上昇し、透湿度の安定性や、鉛筆硬度を高める事ができる。
(S−1): H2C=C(X)COOC3H6Si(OCH3)3
(S−2): H2C=C(X)COOC2H4OTi(OC2H5)3
(S−3): H2C=C(X)COOC2H4OCOC5H10OPO(OH)2
(S−4): (H2C=C(X)COOC2H4OCOC5H10O)2POOH
(S−5): H2C=C(X)COOC2H4OSO3H
(S−6): H2C=C(X)COO(C5H10COO)2H
(S−7): H2C=C(X)COOC5H10COOH
(S−8): CH2CH(O)CH2OC3H6Si(OCH3)3
上記(S−1)〜(S−8)中、Xは水素原子又はCH3を表す。
また、無機微粒子(e)のサイズ(平均1次粒径)は、10nm〜100nmが好ましく、より好ましくは10〜60nmである。微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子の粒径が小さすぎると、硬度の改良効果が得られず、大きすぎるとヘイズ上昇の原因となってしまう。
なお、数個が鎖状に連結した無機微粒子を用いる事によって、強固な粒子ネットワーク構造を形成して、硬度が向上すると推定している。
無機微粒子の具体的な例としては、ELECOM V−8802(日揮(株)製の平均粒径12nmの球形シリカ微粒子)やELECOM V−8803(日揮(株)製の異形シリカ微粒子)、MiBK−SD(日産化学工業(株)製平均粒径10〜20nmの球形シリカ微粒子)、MEK−AC−2140Z(日産化学工業(株)製平均粒径10〜20nmの球形シリカ微粒子)、MEK−AC−4130(日産化学工業(株)製平均粒径40〜50nmの球形シリカ微粒子)、MiBK−SD−L(日産化学工業(株)製平均粒径40〜50nmの球形シリカ微粒子)、MEK−AC−5140Z(日産化学工業(株)製平均粒径70〜100nmの球形シリカ微粒子)等を挙げる事ができる。
本発明におけるハードコート層形成用組成物は、更に(f)紫外線吸収剤を含有することがより好ましい。以下、(f)紫外線吸収剤を(f)成分とも称する。
紫外線吸収剤は、偏光板の耐久性改善に寄与する。特に、本発明の偏光板保護フィルムを画像表示装置の表面保護フィルムとして利用する態様において、紫外線吸収剤の添加は有効である。紫外線吸収能は、透明支持体にのみ、その機能を持たせる事も可能であるが、透明支持体を薄膜化していった際はその機能が低下するため、ハードコート層にも紫外線吸収能を付与しておく事が好ましい。本発明に使用可能な紫外線吸収剤については特に制限はなく、特開2006−184874号公報[0107]〜[0185]段落に記載の化合物を挙げることができる。高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平6−148430号公報に記載の高分子紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
λd−λc≧30nm 式(3)
λf−λd≧60nm 式(4)
上記式(3)及び(4)の関係を満たす事によって、紫外線吸収剤を添加しても、優れた透湿度安定性を得ることができる。
本発明におけるハードコート層形成用組成物は溶媒を含有してもよい。溶媒としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は2種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が100℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃超の溶剤を少量含有することが好ましい。
本発明におけるハードコート層形成用組成物においては、粒子の沈降を防ぐため、沸点80℃以下の溶剤を塗布組成物の全溶剤中の30〜80質量%含有することが好ましく、50〜70質量含有することが更に好ましい。沸点80℃以下の溶剤比を上記割合にすることによって、透明支持体への樹脂成分の染み込みを適度に抑え、また、乾燥による粘度上昇速度が上がることで、粒子沈降を抑えることができる。
本発明におけるハードコート層形成用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制することができる。
一般式(イ)
一般式(ロ)
R14は置換基を有しても良い炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。R14のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
シリコーン系界面活性剤は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分を100質量%とした場合に、0.01〜0.5質量%含有されることが好ましく、0.01〜0.3質量%がより好ましい。
リコート性の良い界面活性剤としては、分子内に親水性基を有するポリマー、嵩高いパーフルオロアルケニル構造を有するポリマー、紫外線照射により含フッ素基が離脱するポリマー等を用いる事ができる。具体的には、LE−605、LE−607(共栄社化学(株)製)、メガファックTF−1939,TF−1940、TF−1941、TF−1942(DIC(株)製)、フタージェント650A、610FM、710FM((株)ネオス製)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
ハードコート層には、内部散乱性付与や表面凹凸付与の目的で、平均粒径が1.0〜10.0μm、好ましくは1.5〜5.0μmのマット粒子を含有してもよい。また、塗布液の粘度を調整するために、高分子化合物や無機層状化合物等を含む事もできる。(e)をマット粒子として使用してもよい。
本発明の偏光板保護フィルムは、厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムを有する。セルロースアシレートフィルムは、可視光の透過率が60%以上であることが好ましく、より好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。
セルロースアシレートフィルムの厚みは15μm〜30μmであることが更に好ましい。セルロースアシレートフィルムの厚みを薄くする事によって、偏光板保護フィルム全体の厚みを低減する事ができる。
上記R1、R3およびR5におけるシクロアルキル基の炭素数は、3〜20が好ましく、3〜10がより好ましく、4〜8がさらに好ましく、5または6が特に好ましい。シクロアルキル基の具体例として、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロへキシルが挙げられ、シクロヘキシルが特に好ましい。
上記R1、R3およびR5におけるアルケニル基の炭素数は、2〜20が好ましく、2〜10がより好ましく、2〜5がさらに好ましい。例えば、ビニル、アリルが挙げられる。
上記R1、R3およびR5における芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても芳香族複素環基であってもよいが、芳香族炭化水素基であることが好ましい。芳香族基の炭素数は、6〜20が好ましく、6〜16がより好ましく、6〜12がさらに好ましい。
芳香族基、なかでも芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチルが好ましく、フェニルがより好ましい。
置換基としては、特に制限はなく、アルキル基(好ましくは炭素数1〜10で、例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘプチル、1−エチルペンチル、ベンジル等)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20で、例えば、エチニル、2−ブチニル、フェニルエチニル等)、シクロアルキル基(好ましくは炭素数3〜20で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル等)、アリール基(好ましくは炭素数6〜26で、例えば、フェニル、1−ナフチル、4−メトキシフェニル、2−クロロフェニル、3−メチルフェニル等)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数0〜20のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、5または6員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、環が飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、2−ピリジニル、3−ピリジニル、4−ピリジニル、2−イミダゾリル、2−ベンゾイミダゾリル、2−チアゾリル、2−オキサゾリル等)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜26で、例えば、フェノキシ、1−ナフチルオキシ、3−メチルフェノキシ、4−メトキシフェノキシ等)、
なお、これらの置換基は、R1、R3、R5の各基が有してもよい置換基のみでなく、本明細書に記載の化合物における置換基に適用される。
なかでも、R5が環構造を有する基が置換したアルキル基またはシクロアルキル基であるものが好ましい。
ここで、環構造を有する基の環は、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、含窒素ヘテロ芳香環(例えば、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、インドール環、イソインドール環)が好ましい。
また、一般式Iで表される化合物は、R1、R3およびR5のうちの少なくとも2つが、置換基として環構造を有するアルキル基またはシクロアルキル基であることが好ましい。さらに、R1およびR3が、各々独立に、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよい芳香族基またはシクロアルキル基である場合が、なかでも好ましい。
一般式Iで表される化合物は、R1、R3およびR5の置換基に存在する環構造の合計が最大4個であることがさらに好ましい。
アルキル基のうち、無置換アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、n−ヘキシル、2−エチルヘキシル、n−オクチルが挙げられる。
環構造の基が置換したアルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、3−フェニルプロピル、ナフチルメチル等のアラルキル基、ピリジン−2−イルメチル、ピリジン−3−イルメチル、ピリジン−4−イルメチル、インドール−3−イルメチルが挙げられる。
上記のアルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイルが挙げられ、シクロアルキルカルボニル基としては、例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニルが挙げられ、アリールカルボニル基としては、例えば、ベンゾイル、トルオイル、ナフトイルが挙げられる。
アシル基が置換したアルキル基は、例えば、2−アシルエチル基、3−アシルプロピル基、2−アシルプロピル基が挙げられ、2−アシルエチル基が好ましい。
・R1、R3およびR5の少なくとも1つが、芳香族環が置換したアルキル基である化合物
なお、芳香族環が置換したアルキル基のなかでも、アルキル基に1個または2個のアリール基が置換したもの(2個のアリール基が置換した場合、同一炭素原子に置換していることが好ましい。)が好ましい。また、アルキル基にアリール基とアシル基(好ましくはアリーロイル基)が置換したものも好ましい。
・R1、R3およびR5のいずれか1つが、シクロアルキル基を含む基で、好ましくは、シクロアルキル基を含む基がシクロアルキル基である化合物
上記環構造としては、環状飽和炭化水素構造または芳香環構造(芳香族炭化水素構造または芳香族複素環構造)が好ましい。また、環構造は縮環構造であってもよい。
上記環構造が環状飽和炭化水素構造である場合、環状飽和炭化水素構造は炭素数3〜20のシクロアルキル基として存在することが好ましい。より具体的には、シクロプロピル基、シクロペンチル基またはシクロへキシル基として存在することがより好ましく、シクロへキシル基として存在することが特に好ましい。
また、上記環構造が芳香環構造である場合、芳香族炭化水素構造であることが好ましい。芳香族炭化水素構造は、炭素数6〜20のアリール基として存在することが好ましい。より具体的には、ベンゼン環、ナフタレン環として存在することがより好ましく、ベンゼン環として存在することが特に好ましい。
上記環構造は置換基を有してもよいが、置換基を有する場合は、その好ましい範囲は、R1、R3およびR5の各基が有してもよい置換基と同様である。
分子量をこのような好ましい範囲にすることで、一般式Iで表される化合物のフィルムからの揮散抑制に優れ、透明性の高いフィルムを得ることができる。
また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、R5に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより一般式Iで表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると5位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより一般式Iで表される化合物を合成してもよい。
なお、一般式Iで表される化合物の合成法は上記に限定されるものではない。
一般式Iで表される化合物の添加量を上記の範囲とすることで、透湿度を効果的に下げることが可能となり、またヘイズの発生が抑えられる。
また、二種類以上の溶媒を同時に含んでもよいし、水と溶媒を含む(例えば、水とアルコール(例えば、メタノール、エタノール、t−ブタノール)等)であってもよい。
本発明の偏光板保護フィルムは、一般に、最も単純な構成では、セルロースアシレートフィルム(支持体)上にハードコート層を塗設した構成である。
本発明の偏光板保護フィルムの好ましい層構成の例を下記に示すが、特にこれらの層構成のみに限定されるわけではない。
・支持体/ハードコート層
・支持体/ハードコート層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/防眩層(帯電防止層)/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/防眩層/帯電防止層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/帯電防止層/防眩層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層(帯電防止層)/防眩層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/高屈折率層/帯電防止層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/高屈折率層(帯電防止層)/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/帯電防止層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層(帯電防止層)/低屈折率層
・支持体/ハードコート層/中屈折率層(帯電防止層)/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/ハードコート層(帯電防止層)/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・支持体/帯電防止層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・帯電防止層/支持体/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
ここで、帯電防止層、防眩層はハードコート性を有していても良い。
本発明の偏光板保護フィルムの製造方法は、特に限定されないが、以下の態様が好ましい。すなわち、厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、膜厚3〜10μmのハードコート層を有し、温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRAとし、温度85℃、相対湿度85%環境下で24時間曝露した後の温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRBとした場合に、WVTRAが300g/m2/day以下であり、かつWVTRA/WVTRBが0.6〜1.0である、偏光板保護フィルムの製造方法であって、
厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、下記(a)〜(d)を含むハードコート層形成用組成物を塗布して、乾燥する工程と、紫外線(UV)硬化する工程と、を有し、
上記紫外線硬化する工程は、膜面温度を40℃以下とし、照射量を30mJ/cm2以上として紫外線照射した後に、膜面温度を50℃以上とし、照射量を200mJ/cm2以上として紫外線照射する工程である、偏光板保護フィルムの製造方法。
(a)分子内に少なくとも1個の脂環式エポキシ基を有する化合物
(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
(c)ラジカル重合開始剤
(d)カチオン重合開始剤
ハードコート層形成用組成物は以下の塗布方法により形成することが好ましいが、これらの方法に制限されない。ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(特開2003−164788号明細書参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
セルロースアシレートフィルム上に塗布されたハードコート層形成用組成物の乾燥方法は特に限定されないが、熱や風による乾燥が好ましい。乾燥温度としては特に限定されないが、30〜60℃が好ましく、40〜50℃がより好ましい。
本発明者らは、紫外線硬化する工程の始めに、40℃を超える膜面温度で紫外線照射すると、ハードコート層形成用組成物中の化合物(b)が先に硬化してしまい、化合物(a)(エポキシ基を有する化合物)が動けなくなることで、ハードコート層を硬化させることができなくなると考えている。
紫外線硬化する工程においては、始めに膜面温度を40℃以下とし、照射量を30mJ/cm2以上として紫外線照射した後に、膜面温度を50℃以上とし、照射量を200mJ/cm2以上として紫外線照射することにより、化合物(a)と化合物(b)が効率的に反応し、安定なネットワーク構造を形成でき、透湿度の安定性を高める事ができると共に、偏光板保護フィルムのWVTRAとWVTRA/WVTRABを所望の範囲に調整することができ、偏光板に用いた場合に偏光子の劣化を防止して、耐久性を向上させることができると考えられる。
本発明の偏光板保護フィルムは、偏光子とその両側に配置された保護フィルムとからなる偏光板の、その保護フィルムの一方又は両方に使用して、ハードコート性を有する偏光板とすることができる。
すなわち、連続的に供給されるポリビニルアルコール系フィルムなどのポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸して、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内で、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するように、フィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
本発明の偏光板保護フィルム又は偏光板は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に用いることができる。
特に、液晶セルと、液晶セルの少なくとも一方の面に配置された本発明の偏光板とを含み、本発明のハードコートフィルムが最表面に配置された液晶表示装置が好ましい。
本発明の偏光板保護フィルム又は偏光板は、液晶表示装置等のディスプレイの表示画像品質を長期にわたり高品位に保つことができる。
以下の表1〜3に示す組成となるように各成分を添加し、孔径10μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液A01〜A26、B01〜B06を調製した。表1〜3中の溶媒を除く各成分の数値は、各成分の「固形分全量に対する質量%」を表す。
ELECOM V−8802のように溶媒で希釈された素材についても、固形分比が表1及び2になる様に調整して添加している。溶媒については、溶媒比が表1〜3に記載された比率になる様に調整し、固形分濃度50質量%のハードコート層形成用組成物を作製した。
攪拌機、温度計、還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた300ミリリットル三口フラスコに、メチルエチルケトン10.0gを仕込んで、80℃まで昇温した。次いで、サイクロマーM19.63g(0.1モル)、メチルエチルケトン10.0g、及び「V−601」(和光純薬(株)製)0.23gからなる混合溶液を、6時間で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、さらに12時間攪拌を続けた後、溶媒を減圧溜去し、80℃にて減圧乾燥し、サイクロマーMポリマー24.20gを得た。上記ポリマーの重量平均分子量(Mw)は50000(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算で算出、使用カラムはTSKgel SuperHZM−H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200(東ソー社製))であった。
上記エポキシポリマーAの合成の方法において、「V−601」(和光純薬(株)製)を23.26gに変更した事のみ異なる方法で、ポリマーの重量平均分子量(Mw)は1000のエポキシポリマーBを得た。
攪拌機、温度計、還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた300ミリリットル三口フラスコに、メチルエチルケトン10.0gを仕込んで、80℃まで昇温した。次いで、公知の方法で合成したN−(2−(7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン−3−イルメトキシ)エチル)メタクリルアミド23.93g(0.1モル)、メチルエチルケトン10.0g、及び「V−601」(和光純薬(株)製)0.69gからなる混合溶液を、6時間で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、さらに12時間攪拌を続けた後、溶媒を減圧溜去し、80℃にて減圧乾燥し、化合物5を21.70g得た。上記ポリマーの重量平均分子量(Mw)は29000(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算で算出、使用カラムはTSKgel SuperHZM−H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200(東ソー社製))であった。
・3,4−エポキシシクロヘキシルブチルメタクリレート(分子内に1個の脂環式エポキシ基と1個のエチレン性不飽和二重結合性基を有する分子量238の化合物)
・DPHA:KAYARD DPHA ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物 (日本化薬(株)製)
・PETA:KAYARD PET−30 ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物 (日本化薬(株)製)
・U−4HA:NKオリゴU−4HA ウレタンアクリレート (新中村化学(株)製)
・Irgacure184:ラジカル重合開始剤(BASF製)
・Irgacure127:ラジカル重合開始剤(BASF製)
・Irgacure270:スルホニウム塩系カチオン重合開始剤(BASF製)
・WPI−170:ヨードニウム塩系カチオン重合開始剤(和光純薬(株)製))
・MiBK−ST:平均粒径10〜20nm、反応性基を付与していないシリカ微粒子の固形分30質量%のMiBK分散液(日産化学社製)
SEESORB107:シプロ化成株式会社製
Tinuvin477:BASF製
Tinuvin405:BASF製
・グリシジルメタクリレート(共栄社化学(株)製)
25μm、15μmの厚さのトリアセチルセルロース(TAC)フィルムをそれぞれロール形態で巻き出して、ハードコート層形成用組成物A01〜A26、B01〜B06を使用し、硬膜後のハードコート層の膜厚が下記表4〜6に示す厚みになる様に調整し、ハードコートフィルムS01〜S26、T01〜06を作製した。
具体的には、特開2006−122889号公報実施例1記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度30m/分の条件で各塗布液を塗布し、50℃で60秒乾燥の後、更に窒素パージ下酸素濃度約0.1体積%で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量500mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させてハードコート層を形成した後、巻き取った。
なお、S01〜S09、T01〜T05の偏光板保護フィルムを作製する際には、30℃に保温したバックアップロールでラップしながら紫外線照射し、膜面温度が40℃以下で維持される様に照射量500mJ/cm2の紫外線を照射した。
S1〜S22、T01〜T05のセルロースアシレート支持体は、化合物A−1を除いた以外は、S23、S24のセルロースアシレートフィルムと同様に作製した。
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調整した。
アセチル置換度2.88 重量平均分子量260000のセルロースアセテート
100質量部
フタル酸エステルオリゴマーA 10質量部
化合物(A−1) 4質量部
紫外線吸収剤(下記構造式の化合物、BASF社製) 2.7質量部
TINUVIN123 (HA−1、BASF社製) 0.18質量部
テークランDO(N−アルケニルプロピレンジアミン三酢酸、ナガセケムテックス(株)社製) 0.02質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 430質量部
メタノール(第2溶剤) 64質量部
上記のコア層セルロースアシレートドープ90質量部に下記のマット剤溶液を10質量部加え、外層セルロースアセテート溶液を調整した。
平均粒子サイズ20nmのシリカ粒子
(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製) 2質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 76質量部
メタノール(第2溶剤) 11質量部
コア層セルロースアシレートドープ 1質量部
上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを3層同時に流延口から20℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略20質量%の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶剤が3〜15%の状態で、横方向に1.18倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚さ25μmのセルロースアシレートフィルムを作製した。
厚み15μmのセルロースアシレートフィルムについては、上記25μmのセルロースアシレートフィルムと同様のドープを用い、乾燥後の膜厚が15μmになる様にドープの流延量を調整して作製した。
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、エア層用セルロースエステル溶液を調製した。
・セルロースエステル(アセチル置換度2.86 重量平均分子量260000)
100質量部
・式(11)の糖エステル化合物 3質量部
・式(12)の糖エステル化合物 1質量部
・式(13)の添加剤 2.4質量部
・式(14)の添加剤 0.022質量部
・式(15)の添加剤 0.012質量部
・シリカ粒子分散液(平均粒径16nm) “AEROSIL R972”、日本アエロジル(株)製 0.03質量部
・メチレンクロライド 398質量部
・メタノール 67質量部
・ブタノール 3質量部
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドラム層用セルロースエステル溶液を調製した。
・セルロースエステル(アセチル置換度2.86 重量平均分子量260000)
100質量部
・式(11)の糖エステル化合物 3質量部
・式(12)の糖エステル化合物 1質量部
・式(13)の添加剤 2.4質量部
・式(14)の添加剤 0.022質量部
・式(15)の添加剤 0.012質量部
・シリカ粒子分散液(平均粒径16nm) “AEROSIL R972”、日本アエロジル(株)製 0.09質量部
・メチレンクロライド 364質量部
・メタノール 80質量部
・ブタノール 4質量部
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、コア層用セルロースエステル溶液を調製した。
・セルロースエステル(アセチル置換度2.86 重量平均分子量260000)
100質量部
・式(11)の糖エステル化合物 3質量部
・式(12)の糖エステル化合物 1質量部
・式(13)の添加剤 6質量部
・式(14)の添加剤 0.054質量部
・式(15)の添加剤 0.03質量部
・式(16)の紫外線吸収剤 2.4重量部
・メチレンクロライド 298質量部
・メタノール 65質量部
・ブタノール 3質量部
流延ダイとして、共流延用に調整したフィードブロックを装備して、3層構造のフィルムを成形できるようにした装置を用いた。上記エア層用セルロースエステル溶液、コア層用セルロースエステル溶液、及びドラム層用セルロースエステル溶液を流延口から−7℃に冷却したドラム上に共流延した。このとき、厚みの比がエア層/中間層/ドラム層=5/53/2となるように各ドープの流量を調整した。
直径3mのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。ドラム上で34℃の乾燥風を270m3/分で当てた。
そして、流延部の終点部から50cm手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムをドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥離の際、搬送方向(長手方向)に5%の延伸を行った。
ピンテンターからウェブを離脱させたあと、ピンテンターで保持されていた部分を連続的に切り取り、搬送方向に210Nのテンションをかけながら145℃で10分乾燥した。さらに、ウェブが所望の幅になるように幅方向端部を連続的に切り取り、ウェブの幅方向両端部に15mmの幅で10μmの高さの凹凸をつけて、膜厚40μmのフィルムを作製した。
ハードコート層の膜厚は接触式の膜厚計で作製した偏光板保護フィルムの膜厚を測定し、そこから同様に測定した支持体(セルロースアシレートフィルム)厚みを引いて算出した。
各実施例及び比較例の偏光板保護フィルム試料70mmφを温度40℃、相対湿度90%でそれぞれ24時間調湿し、JIS Z−0208(1976)記載の方法により透湿度を測定した。
各実施例及び比較例の偏光板保護フィルム試料70mmφを温度85℃、相対湿度85%でそれぞれ24時間調湿し、その後、それぞれのフィルムをカップにセットして、温度40℃、相対湿度90%でそれぞれ24時間調湿し、JIS Z−0208(1976)記載の方法により透湿度を測定した。
JIS K 5600−5−4(1999)に記載の鉛筆硬度評価を行った。偏光板保護フィルムを温度25℃、湿度60%RHで2時間曝露した後、JIS S 6006(2007)に規定する試験用鉛筆を用いて、4.9Nの荷重にて、判定した。
偏光板保護フィルムの透過率を島津製作所の分光計測機器UV−3150で測定し、波長380nmにおけるフィルム透過率を求めた。
1〕フィルムの鹸化
実施例及び比較例で作製した偏光板保護フィルム及び前述の厚み25μmのセルロースアシレートフィルムを37℃に調温した4.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液(けん化液)に1分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、0.05mol/Lの硫酸水溶液に30秒浸漬した後、更に水洗浴を通した。そして、エアナイフによる水切りを3回繰り返し、水を落とした後に70℃の乾燥ゾーンに15秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
特開2001−141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、厚み7μmの偏光子を調製した。
このようにして得た偏光子と、上記鹸化処理したフィルムのうちから2枚選び、これらで上記偏光子を挟んだ後、PVA((株)クラレ製、PVA−117H)3%水溶液を接着剤として、偏光軸とフィルムの長手方向とが直交するようにロールツーロールで貼り合わせて偏光板を作成した。ここで、偏光子の一方のフィルムは、実施例又は比較例のフィルム群から選択される1枚を鹸化したフィルムとし、他方のフィルムは厚み25μmのセルロースアシレートフィルムを鹸化したフィルムとした。
上記で作製した偏光板について、各実施例および比較例の偏光板保護フィルムの面とは反対側を粘着剤でガラス板に貼り合せたサンプル(約5cm×5cm)を二組作製した。これをクロスニコルに配置して、VAP−7070(日本分光株式会社製)を用いて偏光度を測定した。
その後、85℃、相対湿度85%の環境下で24時間保存した後の偏光度を上記方法で測定した。偏光板耐久性の評価値を以下のように定義する。
偏光板耐久性の評価値;
〔経時前の偏光度(%)−経時後の偏光度(%)〕
市販のIPS型液晶テレビ(LG電子製42LS5600)の表面側の偏光板をはがし、フロント側の偏光板の吸収軸が長手方向(左右方向)になる様に、フロント側に、上記で作製した実施例または比較例の偏光板を粘着剤を介してハードコート層が最表面になるように貼り付けた。液晶セルに使用されているガラスの厚さは0.5mmであった。
このようにして、液晶表示装置を得た。
また、架橋性の無機粒子を添加した偏光板保護フィルムS08はS01やS13と比べて、鉛筆硬度が高く、低透湿性、偏光板耐久性に優れる事が分かる。
また、ラジカル重合開始剤とカチオン重合開始剤の吸収波長λd−λcが30nm以上である偏光板保護フィルムS09やS011は、S08、S10、S12と比べて、低透湿性、偏光板耐久性に優れる事が分かる。
また、紫外線吸収剤を添加したS18〜S20においては、λf−λdが60nm以上であるS19、S20が鉛筆硬度、低透湿性、偏光板耐久性に優れている事が分かる。
また、セルロースアシレート支持体中に、一般式Iで表される化合物を含有したS23〜S26は、偏光板耐久性を更に改良できている事が分かる。
また、ハードコート層硬化時のUV照射条件を30℃に保温したバックアップロールでラップしながら50mJ/cm2UV照射した後、60℃に保温したバックアップロールでラップしながら、450mJ/cm2UV照射したS15は、S09、S14と比較して、低透湿性と偏光板耐久性を更に改良できている事が分かる。
Claims (13)
- 厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、膜厚3〜10μmのハードコート層を有する偏光板保護フィルムであって、
前記ハードコート層は、下記(a)〜(d)を含むハードコート層形成用組成物を硬化してなる層であり、
前記偏光板保護フィルムは、温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRAとし、温度85℃、相対湿度85%環境下で24時間曝露した後の温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRBとした場合、
WVTRAが300g/m2/day以下であり、かつWVTRA/WVTRBが0.6〜1.0である、偏光板保護フィルム。
(a)分子内に少なくとも1個の脂環式エポキシ基を有する化合物
(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
(c)ラジカル重合開始剤
(d)カチオン重合開始剤 - 前記WVTRAが230g/m2/day未満であり、WVTRA/WVTRBが0.7〜1.0である、請求項1に記載の偏光板保護フィルム。
- 前記(a)が下記一般式(2)で表される繰り返し単位を有し、重量平均分子量が1500以上の化合物である、請求項1又は2に記載の偏光板保護フィルム。
一般式(2)
- 前記ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対し、前記(a)の含有量が10〜40質量%、前記(b)の含有量が35〜89.8質量%、前記(c)の含有量が0.1〜10質量%、前記(d)の含有量が0.1〜10質量%である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の偏光板保護フィルム。
- 前記ハードコート層形成用組成物は更に、前記組成物中の全固形分に対し、(e)エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する平均粒子径10〜100nmの無機微粒子を5〜40質量%含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の偏光板保護フィルム。
- 前記(c)の波長230nm〜500nmにおける最大吸収波長λcと、前記(d)の波長260nm〜500nmにおける最大吸収波長λdが、下記式(3)を満たす、請求項1〜6のいずれか1項に記載の偏光板保護フィルム。
λd−λc≧30nm 式(3) - 前記ハードコート層形成用組成物は更に、(f)紫外線吸収剤を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の偏光板保護フィルム。
- 前記(c)の波長230nm〜500nmにおける最大吸収波長λcと、前記(d)の波長260nm〜500nmにおける最大吸収波長λdと、前記(f)の波長230nm〜500nmにおける最大吸収波長λfが、下記式(3)及び(4)を満たす、請求項8に記載の偏光板保護フィルム。
λd−λc≧30nm 式(3)
λf−λd≧60nm 式(4) - 偏光子と、少なくとも1枚の請求項1〜10のいずれか1項に記載の偏光板保護フィルムとを含む偏光板。
- 液晶セルと、前記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された請求項11に記載の偏光板とを含み、前記偏光板保護フィルムが最表面に配置された液晶表示装置。
- 厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、膜厚3〜10μmのハードコート層を有し、温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRAとし、温度85℃、相対湿度85%環境下で24時間曝露した後の温度40℃、相対湿度90%環境下での透湿度をWVTRBとした場合に、WVTRAが300g/m2/day以下であり、かつWVTRA/WVTRBが0.6〜1.0である、偏光板保護フィルムの製造方法であって、
厚み15〜40μmのセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面に、下記(a)〜(d)を含むハードコート層形成用組成物を塗布して、乾燥する工程と、紫外線硬化する工程と、を有し、
前記紫外線硬化する工程は、膜面温度を40℃以下とし、照射量を30mJ/cm2以上として紫外線照射した後に、膜面温度を50℃以上とし、照射量を200mJ/cm2以上として紫外線照射する工程である、偏光板保護フィルムの製造方法。
(a)分子内に少なくとも1個の脂環式エポキシ基を有する化合物
(b)分子内に3個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
(c)ラジカル重合開始剤
(d)カチオン重合開始剤
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US15/073,165 US20160272843A1 (en) | 2015-03-19 | 2016-03-17 | Polarizing plate protective film, polarizing plate, liquid crystal display device, and method for preparing polarizing plate protective film |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018536731A (ja) * | 2015-11-17 | 2018-12-13 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.Dsm Ip Assets B.V. | 改善された付加造形用アンチモンフリー放射線硬化性組成物およびインベストメント鋳造プロセスにおけるその用途 |
US10654982B2 (en) | 2016-10-20 | 2020-05-19 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing polarizer protecting film |
WO2021131745A1 (ja) | 2019-12-25 | 2021-07-01 | 富士フイルム株式会社 | 農業用採光部材及び農産用箱体 |
KR20210121173A (ko) | 2020-03-10 | 2021-10-07 | 가부시키가이샤 도판 도모에가와 옵티컬 필름 | 편광판 및 이것을 사용한 표시 장치 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101992007B1 (ko) * | 2016-12-27 | 2019-06-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 편광판용 폴리에스테르 보호필름, 이를 포함하는 편광판, 및 이를 포함하는 액정표시장치 |
CN112534317B (zh) * | 2018-08-06 | 2022-10-04 | 富士胶片株式会社 | 层叠体、液晶显示装置、有机电致发光装置 |
CN112639554B (zh) * | 2018-09-04 | 2022-10-28 | 富士胶片株式会社 | 层叠体、有机电致发光装置、液晶显示装置 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004126206A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止ハードコートフィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP2007186691A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-07-26 | Fujifilm Corp | セルロースアシレートフィルムおよびその製造方法、並びに、それを用いた偏光板および液晶表示装置 |
JP2007237483A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、及びその製造方法 |
JP2007316603A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-12-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 複合偏光板及びそれを用いた液晶表示装置 |
JP2009226880A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 箔転写方法 |
JP2010008659A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Konica Minolta Opto Inc | ハードコートフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルムの製造方法、反射防止フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2010031091A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Daicel Chem Ind Ltd | 硬化性共重合体及び硬化性樹脂組成物 |
JP2011093133A (ja) * | 2009-10-28 | 2011-05-12 | Toppan Printing Co Ltd | 低透湿度ハードコートフィルムおよび偏光板、透過型液晶ディスプレイ |
JP2011253676A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-15 | Oji Paper Co Ltd | 導電性シート、タッチパネル用導電性積層体、及びタッチパネル |
JP2012163607A (ja) * | 2011-02-03 | 2012-08-30 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP2014059547A (ja) * | 2012-08-23 | 2014-04-03 | Fujifilm Corp | 偏光板及び液晶表示装置 |
WO2014064999A1 (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-01 | コニカミノルタ株式会社 | タッチパネル付き表示装置 |
JP2014172920A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-09-22 | Lintec Corp | 粘着シートおよび粘着シートの製造方法 |
WO2015005398A1 (ja) * | 2013-07-09 | 2015-01-15 | 富士フイルム株式会社 | セルロースアシレートフィルム、それを用いた偏光板および液晶表示装置 |
JP2015017271A (ja) * | 2014-09-29 | 2015-01-29 | 日立化成株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに光半導体装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3408331B2 (ja) | 1994-09-12 | 2003-05-19 | 旭電化工業株式会社 | 光硬化性ハードコート組成物およびその塗布物品 |
JP2002303725A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-18 | Nitto Denko Corp | 偏光フィルム、偏光フィルムを用いた光学フィルムおよび液晶表示装置 |
JP2006083225A (ja) | 2004-09-14 | 2006-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 機能性フィルム |
JP2008268938A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-11-06 | Fujifilm Corp | 保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 |
JP5976523B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
JP5914440B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
-
2015
- 2015-03-19 JP JP2015056757A patent/JP6530937B2/ja active Active
-
2016
- 2016-03-16 CN CN201610149535.4A patent/CN105988155B/zh active Active
- 2016-03-17 US US15/073,165 patent/US20160272843A1/en not_active Abandoned
- 2016-03-17 KR KR1020160031951A patent/KR20160113010A/ko unknown
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004126206A (ja) * | 2002-10-02 | 2004-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止ハードコートフィルム、偏光板、および画像表示装置 |
JP2007186691A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-07-26 | Fujifilm Corp | セルロースアシレートフィルムおよびその製造方法、並びに、それを用いた偏光板および液晶表示装置 |
JP2007237483A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、及びその製造方法 |
JP2007316603A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-12-06 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 複合偏光板及びそれを用いた液晶表示装置 |
JP2009226880A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 箔転写方法 |
JP2010008659A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Konica Minolta Opto Inc | ハードコートフィルム、反射防止フィルム、ハードコートフィルムの製造方法、反射防止フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 |
JP2010031091A (ja) * | 2008-07-25 | 2010-02-12 | Daicel Chem Ind Ltd | 硬化性共重合体及び硬化性樹脂組成物 |
JP2011093133A (ja) * | 2009-10-28 | 2011-05-12 | Toppan Printing Co Ltd | 低透湿度ハードコートフィルムおよび偏光板、透過型液晶ディスプレイ |
JP2011253676A (ja) * | 2010-06-01 | 2011-12-15 | Oji Paper Co Ltd | 導電性シート、タッチパネル用導電性積層体、及びタッチパネル |
JP2012163607A (ja) * | 2011-02-03 | 2012-08-30 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP2014059547A (ja) * | 2012-08-23 | 2014-04-03 | Fujifilm Corp | 偏光板及び液晶表示装置 |
WO2014064999A1 (ja) * | 2012-10-22 | 2014-05-01 | コニカミノルタ株式会社 | タッチパネル付き表示装置 |
JP2014172920A (ja) * | 2013-03-06 | 2014-09-22 | Lintec Corp | 粘着シートおよび粘着シートの製造方法 |
WO2015005398A1 (ja) * | 2013-07-09 | 2015-01-15 | 富士フイルム株式会社 | セルロースアシレートフィルム、それを用いた偏光板および液晶表示装置 |
JP2015017271A (ja) * | 2014-09-29 | 2015-01-29 | 日立化成株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに光半導体装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018536731A (ja) * | 2015-11-17 | 2018-12-13 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.Dsm Ip Assets B.V. | 改善された付加造形用アンチモンフリー放射線硬化性組成物およびインベストメント鋳造プロセスにおけるその用途 |
US10654982B2 (en) | 2016-10-20 | 2020-05-19 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing polarizer protecting film |
WO2021131745A1 (ja) | 2019-12-25 | 2021-07-01 | 富士フイルム株式会社 | 農業用採光部材及び農産用箱体 |
KR20210121173A (ko) | 2020-03-10 | 2021-10-07 | 가부시키가이샤 도판 도모에가와 옵티컬 필름 | 편광판 및 이것을 사용한 표시 장치 |
KR20240009540A (ko) | 2020-03-10 | 2024-01-22 | 가부시키가이샤 도판 도모에가와 옵티컬 필름 | 편광판 및 이것을 사용한 표시 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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