JP2016152405A - プリント配線板用基材、プリント配線板及びプリント配線板用基材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の一態様に係るプリント配線板用基材は、絶縁性を有するベースフィルムと、このベースフィルムの少なくとも一方の面に積層される金属層とを備え、上記金属層が、上記ベースフィルムに固着された銅粒子の焼結体(以下、単に「焼結体」ともいう)を含み、上記金属層の上記ベースフィルムとの界面から50nm以下の領域(以下、「界面近傍層」ともいう)における銅以外の金属の含有率が10at%以下のプリント配線板用基材である。
銅以外の金属の含有率(at%)=(銅以外の金属の原子数/全金属の原子数)×100
本発明の好適な実施形態について、以下に図面を参照しつつ説明する。
図1に、第1実施形態に係るプリント配線板用基材10の模式的断面図を示す。プリント配線板用基材10は、絶縁性を有するベースフィルム1と、ベースフィルム1の一方の面に積層される金属層2とを備える。金属層2は、ベースフィルム1に固着された銅粒子の焼結体3を含む。また、プリント配線板用基材10は、金属層2の界面近傍層2aにおける異種金属の含有率が10at%以下である。プリント配線板用基材10によれば、上記構成を備えるため、上述したように導電パターン間の異種金属の残存を抑制できるプリント配線板用基材を低コストで製造できる。なお、図1では、説明を分かりやすくするために、焼結体3を構成する銅粒子を誇張して描いている。
ベースフィルム1は絶縁性を有する。このベースフィルム1の主成分としては、例えばポリイミド、液晶ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、フッ素樹脂等の軟質材、紙フェノール、紙エポキシ、ガラスコンポジット、ガラスエポキシ、ガラス基材等の硬質材、軟質材と硬質材とを複合したリジッドフレキシブル材などを用いることができる。これらの中でも、焼結体3との結合力が高いことから、ポリイミド、液晶ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、及びこれらの組み合わせが好ましく、ポリイミドがより好ましい。なお、ベースフィルム1は、多孔化されたものでも良く、また、充填材、添加剤等を含んでもよい。また、プリント配線板用基材10をフレキシブルプリント配線板の製造に適用する場合、ベースフィルム1としては可撓性を有するものが好ましい。
金属層2は、プリント配線板用基材10の導電層を構成する層であり、ベースフィルム1に固着された銅粒子の焼結体3を含む。この焼結体3の好適な形成方法については後述する。
ベースフィルム1と金属層2との間の剥離強度の下限としては、1N/cmが好ましく、1.5N/cmがより好ましく、2N/cmがさらに好ましく、5N/cmが特に好ましい。上記剥離強度を上記下限以上とすることで、電気的な接続信頼性の高いプリント配線板を製造できる。一方、上記剥離強度の上限としては、特に限定されないが、例えば20N/cm程度である。上記剥離強度は、例えばベースフィルム1に固着される焼結体3の量、後述するインク中の銅粒子のサイズ、後述する塗膜を焼成する際の焼成温度及び焼成時間等により制御できる。
次に、本発明の第2実施形態に係るプリント配線板用基材について図2を参照しながら説明する。なお、図2において、上述した図1と同一の構成要素には同一の符号を付している。また、上述した第1実施形態に係るプリント配線板用基材10と重複する内容については説明を省略する。後述する図3〜図5についても同様である。
次に、本発明の第3実施形態に係るプリント配線板用基材について図3を参照しながら説明する。
次に、本発明の第4実施形態に係るプリント配線板について図4を参照しながら説明する。
次に、本発明のプリント配線板用基材の製造方法の一実施形態について図5A〜Dを参照しながら説明する。本実施形態に係るプリント配線板用基材の製造方法は、ベースフィルム1の一方の面に銅粒子6を含むインクの塗布により塗膜7を形成する工程(以下、「塗膜形成工程」ともいう)、及び塗膜7の焼成により銅粒子6の焼結体3を含む金属層2を形成する工程(以下、「金属層形成工程」ともいう)を備え、金属層2の界面近傍層2aにおける異種金属の含有率を10at%以下とする。本実施形態に係るプリント配線板用基材の製造方法によれば、上述したように導電パターン間の異種金属の残存を抑制できるプリント配線板用基材を低コストで容易かつ確実に製造できる。以下、各工程について説明する。
本工程では、図5Aに示すように、ベースフィルム1の一方の面に銅粒子6を含むインクを塗布し、例えば乾燥することにより塗膜7を形成する。なお、塗膜7には、上記インクの分散媒等が含まれていてもよい。
上記インクに分散させる銅粒子6は、高温処理法、液相還元法、気相法等で製造することができる。中でも、液相還元法によれば、製造コストをより低減できる上、水溶液中での攪拌等により、容易に銅粒子6の粒子径を均一にすることができる。
上記インクには、銅粒子6以外に分散剤が含まれていてもよい。この分散剤としては、特に限定されず、銅粒子6を良好に分散させることができる種々の分散剤を用いることができる。分散剤の分子量の下限としては、2,000が好ましく、分散剤の分子量の上限としては、30,000が好ましい。分子量が上記範囲の分散剤を用いることで、銅粒子6をインク中に良好に分散させることができ、塗膜7の膜質を緻密でかつ欠陥のないものにすることができる。上記分散剤の分子量が上記下限未満の場合、銅粒子6の凝集を防止して分散を維持する効果が十分に得られないおそれがある。一方、上記分散剤の分子量が上記上限を超える場合、分散剤の嵩が大きすぎて、塗膜7の焼成時において、銅粒子6同士の焼結を阻害してボイドを生じさせるおそれがある。また、分散剤の嵩が大きすぎると、塗膜7の緻密さが低下したり、分散剤の分解残渣が導電性を低下させるおそれがある。
銅粒子6を分散させたインクをベースフィルム1の一方の面に塗布する方法としては、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ダイコート法、スリットコート法、ロールコート法、ディップコート法等の従来公知の塗布法を用いることができる。また、スクリーン印刷、ディスペンサ等によりベースフィルム1の一方の面の一部のみにインクを塗布するようにしてもよい。インクの塗布後、例えば室温以上の温度で乾燥することにより塗膜7が形成される。乾燥温度の上限としては、100℃が好ましく、40℃がより好ましい。乾燥温度が上記上限を超えると、塗膜7の急激な乾燥により、塗膜7にクラックが発生するおそれがある。
本工程では、塗膜7の焼成により銅粒子6の焼結体3を含む金属層2を形成する。
上記焼成により銅粒子6同士が焼結すると共に、焼結体3がベースフィルム1の一方の面に固着される(図5B参照)。なお、インクに含まれ得る分散剤やその他の有機物は、焼成によって揮発又は分解される。また、焼結体3とベースフィルム1との界面近傍では、焼成によって銅粒子6が酸化されるため、銅粒子6に基づく水酸化銅やその水酸化銅に由来する基の生成を抑えつつ、銅粒子6に基づく酸化銅やその酸化銅に由来する基(以下、これらをまとめて「酸化銅等」ともいう)が生成する。この焼結体3とベースフィルム1との界面近傍に生成した酸化銅等は、ベースフィルム1を構成するポリイミド等の樹脂と強く結合するため、ベースフィルム1と焼結体3との間の密着力が大きくなる。
上記焼成により上述したプリント配線板用基材10(図5B参照)が得られるが、図5Cに示すように、焼結体3内の空隙をめっき銅4で充填すると、上述したプリント配線板用基材20が得られる。焼結体3内の空隙をめっき銅4で充填すると、金属層2の抵抗を下げることができるため、例えば高周波信号処理用のプリント配線板の製造に適用する場合、伝送損失を抑制できるプリント配線板用基材を容易かつ確実に製造できる。
上記めっき銅4の形成によりプリント配線板用基材20(図5C参照)が得られるが、図5Dに示すように、焼結体3及びめっき銅4により形成される層上に銅めっき層5を積層すると、上述したプリント配線板用基材30が得られる。この構成によれば、金属層2を厚くすることができるため、例えばプリント配線板用基材30をサブトラクティブ法に用いるプリント配線板用基材に容易に適用できる。
当該プリント配線板用基材は、ベースフィルムに固着された銅粒子の焼結体を含む金属層を用いるため、スパッタリング等の物理的蒸着に必要な高価な真空設備を必要としない。そのため、当該プリント配線板用基材は低コストで製造できる。また、当該プリント配線板用基材は、界面近傍層における銅以外の金属(異種金属)の含有率が10at%以下であるため、導電パターン間の異種金属の残存を抑制できる。
上記開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
(試験例1)
まず、液相還元法によって得られた平均粒子径60nmの銅粒子を溶媒の水に分散させ、銅濃度が26質量%のインクを調製した。次に、絶縁性を有するベースフィルムとして平均厚み25μmのポリイミドフィルムを用い、上記インクをポリイミドフィルムの一方の面に塗布し、大気中で乾燥して塗膜を形成した。そして、酸素濃度が100体積ppmの窒素雰囲気中で120分間、350℃で上記塗膜を焼成し、ポリイミドフィルムに固着された銅粒子の焼結体からなる金属層(平均厚み150nm)を備えたプリント配線板用基材を得た。
上記試験例1と同様の手順でポリイミドフィルムの一方の面に銅粒子の焼結体を形成した後、パラジウムを含有する触媒溶液に上記焼結体を接触させ、次いで20ppmのNiを含む無電解銅めっき液を用いて上記焼結体内の空隙及び表面をめっき処理し、上記焼結体及び無電解めっき銅からなる金属層(平均厚み400nm)を備えたプリント配線板用基材を得た。
上記試験例1と同様の手順でポリイミドフィルムの一方の面に銅粒子の焼結体を形成した後、パラジウムを含有する触媒溶液に上記焼結体を接触させ、次いで200ppmのNiを含む無電解銅めっき液を用いて上記焼結体内の空隙及び表面をめっき処理し、上記焼結体及び無電解めっき銅からなる金属層(平均厚み400nm)を備えたプリント配線板用基材を得た。
試験例1〜3のプリント配線板用基材の断面について、EDX(日立ハイテクノロジーズ社の「SU8020」)を用いて、加速電圧6kVで金属原子の原子数を定量し、界面近傍層の銅以外の金属(異種金属)の含有率(at%)を測定した。
試験例1〜3のプリント配線板用基材を塩化鉄含有エッチング液(比重1.33g/cm3、遊離塩酸濃度0.2mol/L、温度45℃)に2分間浸漬し、水洗及び乾燥した後、金属層が除去されたポリイミドフィルム表面1cm2当たりの異種金属の平均残存量(μg/cm2)を測定した。異種金属の平均残存量は、金属層が除去されたポリイミドフィルム表面の1cm四方の領域を任意に3箇所選択し、EDX(日立ハイテクノロジーズ社の「SU8020」)を用いて、各箇所について加速電圧6kVで異種金属の残存量を測定した値の平均値とした。
試験例1〜3のプリント配線板用基材について、JIS−C−6471(1995年)に準拠する180°方向引き剥がし試験により、ポリイミドフィルムと金属層と間の剥離強度(N/cm)を測定した。
2 金属層
2a 界面近傍層
3 銅粒子の焼結体
4 めっき銅
5 銅めっき層
6 銅粒子
7 塗膜
10,20,30 プリント配線板用基材
40 導電パターン
50 プリント配線板
Claims (12)
- 絶縁性を有するベースフィルムと、このベースフィルムの少なくとも一方の面に積層される金属層とを備え、
上記金属層が、上記ベースフィルムに固着された銅粒子の焼結体を含み、
上記金属層の上記ベースフィルムとの界面から50nm以下の領域における銅以外の金属の含有率が10at%以下であるプリント配線板用基材。 - 上記ベースフィルムと上記金属層との間の剥離強度が1N/cm以上である請求項1に記載のプリント配線板用基材。
- 上記金属層が、上記焼結体内の空隙の少なくとも一部に充填されるめっき銅をさらに含む請求項1又は請求項2に記載のプリント配線板用基材。
- 上記めっき銅が電解めっき銅である請求項3に記載のプリント配線板用基材。
- 上記銅粒子が、水溶液中で還元剤により銅イオンを還元する液相還元法によって得られたものである請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプリント配線板用基材。
- 上記銅粒子の平均粒子径が1nm以上500nm以下である請求項5に記載のプリント配線板用基材。
- 上記金属層の平均厚みが50nm以上である請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプリント配線板用基材。
- 上記ベースフィルムが、ポリイミド、液晶ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート又はこれらの組み合わせを主成分とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のプリント配線板用基材。
- 上記金属層が、上記焼結体の上記ベースフィルムとは反対面側に積層される銅めっき層をさらに含む請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のプリント配線板用基材。
- 導電パターンを有するプリント配線板であって、
上記導電パターンが、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のプリント配線板用基材の上記金属層の一部を含むプリント配線板。 - 絶縁性を有するベースフィルムの少なくとも一方の面に銅粒子を含むインクの塗布により塗膜を形成する工程、及び
上記塗膜の焼成により上記銅粒子の焼結体を含む金属層を形成する工程
を備え、
上記金属層の上記ベースフィルムとの界面から50nm以下の領域における銅以外の金属の含有率を10at%以下とするプリント配線板用基材の製造方法。 - 上記金属層形成工程において、上記焼結体内の空隙の少なくとも一部をめっき銅で充填する請求項11に記載のプリント配線板用基材の製造方法。
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