JP2016118752A - 液晶表示パネル及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明は、優れた表示効果を有する液晶表示パネル及びその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明に係る液晶表示パネルは、第一配向層を含む第一基板と、第二配向層を含む第二基板と、第一基板と第二基板との間に設置される液晶層と、を備える。第一配向層は、光配向層であり、第二配向層は、摩擦配向層である。【選択図】図６

Description

本発明は、液晶表示パネル及びその製造方法に関するものである。
液晶表示パネルは、一般的には、薄膜トランジスタアレイ基板、該薄膜トランジスタアレイ基板に対向して設置されるカラーフィルタ基板、及び薄膜トランジスタアレイ基板とカラーフィルタ基板との間に設置される液晶層を備える。
現在、液晶層の配向方式は、主に摩擦配向（Ｒｕｂｂｉｎｇ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）及び光配向（Ｐｈｏｔｏ ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）を備える。即ち、摩擦配向方法によって薄膜トランジスタアレイ基板及びカラーフィルタ基板を配向する、或いは、光配向方法によって薄膜トランジスタアレイ基板及びカラーフィルタ基板を配向する。
しかし、摩擦配向を採用した場合、基板が非平坦であるために起こる表示パネルの光漏れを招く可能性がある。また、光配向を採用した場合、光漏れは生じないが、紫外線が表示パネルの部分の光反応性層（例えば、カラーフィルタ層）を劣化させる可能性があり、表示パネルのコントラストに影響を与える。即ち、従来の液晶表示パネルの配向方式は、液晶表示パネルの表示効果を低下させる。
前記課題を解決するために、本発明は、優れた表示効果を有する液晶表示パネル及びその製造方法を提供する。
本発明に係る液晶表示パネルは、第一配向層を含む第一基板と、第二配向層を含む第二基板と、第一基板と第二基板との間に設置される液晶層と、を備える。第一配向層は、光配向層であり、第二配向層は、摩擦配向層である。
本発明に係る液晶表示パネルの製造方法は、第一基板及び第二基板を提供するステップと、前記第一基板に第一配向層を形成し、前記第二基板上に第二配向層を形成するステップと、前記第一配向層に光配向を行い、前記第二配向層に摩擦配向を行うステップと、前記第一配向層又は前記第二配向層上に液晶層を形成するステップと、前記第一基板を前記第二基板に対向して配置させ、前記液晶層を前記第一配向層と前記第二配向層との間に位置させるステップと、を備える。
従来の技術と比べて、本発明に係る液晶表示パネル及びその製造方法は、２つの基板の配向層において、それぞれ異なる配向工程を採用するため、実際の状況に基づいて２つの基板に適切な配向処理を採用することができる。従って、本発明の液晶表示パネルは、優れた表示効果を有する。
本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの断面図である。 本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法のフローチャートである。 本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法における各ステップを示す図である。 本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法における各ステップを示す図である。 本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法における各ステップを示す図である。 本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法における各ステップを示す図である。 本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法における各ステップを示す図である。 本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法における各ステップを示す図である。 本発明の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法における各ステップを示す図である。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
図１を参照すると、本発明の実施形態に係る液晶表示パネル１００は、第一基板１１０、第二基板１２０、第一基板１１０と第二基板１２０との間に設置される液晶層１３０及びスペーサ１１６を備える。スペーサ１１６は、第一基板１１０と第二基板１２０とが互いに組み合わされた際、第一基板１１０と第二基板１２０との間に一定の間隔を維持するために用いられる。本実施形態において、第一基板１１０は、薄膜トランジスタアレイ基板（ＴＦＴ Ａｒｒａｙ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）であり、第二基板１２０は、カラーフィルタ基板（Ｃｏｌｏｒ Ｆｉｌｔｅｒ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）である。
第一基板１１０は、第一基体１１１と、第一基体１１１上に形成された薄膜トランジスタ１１２と、第一基体１１１上に形成され、且つ薄膜トランジスタ１１２を覆う不動態化層１１３と、不動態化層１１３上に設けられている貫通孔１１４（図３を参照）と、不動態化層１１３上に形成され、且つ貫通孔１１４を介して薄膜トランジスタ１１２と接続された透明電極１１５と、不動態化層１１３及び透明電極１１５上に形成された第一配向層１１８と、を備える。第一配向層１１８は、光配向工程によって形成される光配向層である。第一配向層１１８は、第一基体１１１と液晶層１３０との間に位置する。
第二基板１２０は、第二基体１２１と、第二基体１２１上に形成されたカラーフィルタ層１２２及びブラックマトリクス１２３と、カラーフィルタ層１２２及びブラックマトリクス１２３を覆うオーバーコート層１２４と、オーバーコート層１２４上に形成された第二配向層１２８と、を備える。第二配向層１２８は、摩擦配向処理によって形成された摩擦配向層である。第二配向層１２８は、第二基体１２１と液晶層１３０との間に位置する。
図２を参照すると、本発明の実施形態に係る液晶表示パネル１００の製造方法は、以下のステップＳ２０１〜ステップＳ２０６を備える。
ステップＳ２０１において、図３に示したように、第一基板１１０及び第二基板１２０を提供する。本実施形態において、第一基板１１０は、薄膜トランジスタアレイ基板であり、第二基板１２０は、カラーフィルタ基板である。
第一基板１１０は、第一基体１１１と、第一基体１１１上に形成された薄膜トランジスタ１１２と、第一基体１１１上に形成され、且つ薄膜トランジスタ１１２を覆う不動態化層１１３と、不動態化層１１３上に設けられた貫通孔１１４と、不動態化層１１３上に形成され、且つ貫通孔１１４を介して薄膜トランジスタ１１２と接続された透明電極１１５と、を備える。
第二基板１２０は、第二基体１２１と、第二基体１２１上に形成されたカラーフィルタ層１２２及びブラックマトリクス１２３と、カラーフィルタ層１２２及びブラックマトリクス１２３を覆うオーバーコート層１２４と、を備える。
ステップＳ２０２において、図４に示したように、第一基板１１０上にスペーサ１１６を形成する。他の実施形態において、スペーサ１１６は、第二基板１２０上に形成してもよい。
ステップＳ２０３において、図５に示したように、第一基板１１０上に第一配向層１１８を形成し、第二基板１２０上に第二配向層１２８を形成する。第一配向層１１８は、光配向層であり、ポリイミド等の任意の適切な光配向材料からなる。第二配向層１２８は、摩擦配向層であり、ポリイミド、ポリスチレン又はポリアクリレート等の任意の適切な摩擦配向材料からなる。
ステップＳ２０４において、図６に示したように、第一配向層１１８に光配向を行い、第二配向層１２８に摩擦配向を行う。本実施形態において、第一配向層１１８に光配向を行う方式は、アライメント光５を第一配向層１１８に対して斜めに照射させる。これにより、第一配向層１１８における液晶分子の配列方向に影響を与える側鎖の方向を変更し、第一配向層１１８に隣接する液晶分子をアライメント光５の方向に沿って配列させることができる。アライメント光５は、紫外線である。第二配向層１２８に摩擦配向を行う方式は、ローラ６によって一定の回転速度によって第二配向層１２８に摩擦処理を行って、第二配向層１２８上に溝を形成する。これにより、第二配向層１２８に隣接する液晶分子を溝の方向に沿って配列させることができる。
ステップＳ２０５において、第一配向層１１８又は第二配向層１２８上に液晶層１３０を形成する。本実施形態において、図７に示すように、液晶層１３０は、第二配向層１２８上に形成される。他の実施形態において、図８に示すように、液晶層１３０は、第一配向層１１８上に形成してもよい。
ステップＳ２０６において、図９に示したように、第一基板１１０を第二基板１２０に対向して配置して、液晶層１３０を第一配向層１１８と第二配向層１２８との間に位置させる。これにより、液晶表示パネル１００を形成する。
従来の技術と比べ、本発明の液晶表示パネル１００において、薄膜トランジスタアレイ基板は、光配向工程を採用するので、薄膜トランジスタアレイ基板の非平坦に起因する表示パネルの光漏れを防止することができる。また、カラーフィルタ基板は、摩擦配向工程を採用するので、カラーフィルタ層の劣化を防止することができる。以上により、本発明の方法によって製造された液晶表示パネル１００は、優れた表示効果を有する。
１００ 液晶表示パネル
１１０ 第一基板
１２０ 第二基板
１３０ 液晶層
１１１ 第一基体
１１２ 薄膜トランジスタ
１１３ 不動態化層
１１４ 貫通孔
１１５ 透明電極
１１６ スペーサ
１２１ 第二基体
１２２ カラーフィルタ層
１２３ ブラックマトリクス
１２４ オーバーコート層
１１８ 第一配向層
１２８ 第二配向層
５ アライメント光
６ ローラ

Claims (5)

  1. 第一配向層を含む第一基板と、第二配向層を含む第二基板と、前記第一基板と前記第二基板との間に設置される液晶層と、を備える液晶表示パネルにおいて、前記第一配向層は、光配向層であり、前記第二配向層は、摩擦配向層であることを特徴とする液晶表示パネル。
  2. 前記第一基板は、薄膜トランジスタアレイ基板であり、前記第二基板は、カラーフィルタ基板であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
  3. 前記第一基板は、さらに、第一基体と、前記第一基体上に形成された薄膜トランジスタと、前記第一基体上に形成され、且つ前記薄膜トランジスタを覆う不動態化層と、前記不動態化層上に設けられた貫通孔と、前記不動態化層上に形成され、且つ前記貫通孔を介して前記薄膜トランジスタと接続された透明電極と、を備え、前記第一配向層は、前記不動態化層及び前記透明電極上に形成されることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
  4. 前記第二基板は、さらに、第二基体と、前記第二基体上に形成されたカラーフィルタ層及びブラックマトリクスと、前記カラーフィルタ層及び前記ブラックマトリクスを覆うオーバーコート層と、を備え、前記第二配向層は、前記オーバーコート層上に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
  5. 第一基板及び第二基板を提供するステップと、
    前記第一基板上に第一配向層を形成し、前記第二基板上に第二配向層を形成するステップと、
    前記第一配向層に光配向を行い、前記第二配向層に摩擦配向を行うステップと、
    前記第一配向層又は前記第二配向層上に液晶層を形成するステップと、
    前記第一基板を前記第二基板に対向して配置させ、前記液晶層を前記第一配向層と前記第二配向層との間に位置させるステップと、
    を備えることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
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