JP2010139573A - 液晶表示パネル - Google Patents
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【課題】表示領域に強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生を効果的に防止できるとともに、気泡の発生を効果的に防止できる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】液晶表示パネル1は、TFT基板2とTFT基板2に対向して配置されたCF基板3と、TFT基板2及びCF基板3の間に設けられた液晶層4と、TFT基板2及びCF基板3との間に設けられるとともに、液晶層4の厚みを規制するための複数のフォトスペーサ25とを備えている。そして、液晶表示パネル1の角領域Aに設けられたフォトスペーサ25は、液晶表示パネル1の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ25より高い分布密度で配置されている。
【選択図】図1
【解決手段】液晶表示パネル1は、TFT基板2とTFT基板2に対向して配置されたCF基板3と、TFT基板2及びCF基板3の間に設けられた液晶層4と、TFT基板2及びCF基板3との間に設けられるとともに、液晶層4の厚みを規制するための複数のフォトスペーサ25とを備えている。そして、液晶表示パネル1の角領域Aに設けられたフォトスペーサ25は、液晶表示パネル1の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ25より高い分布密度で配置されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶層の厚みを規制するためのスペーサを備える液晶表示パネルに関する。
近年、携帯電話等のモバイル型端末やノート型パソコン等の各種電子機器の表示パネルとして、薄くて軽量であるとともに、低電圧で駆動でき、かつ消費電力が少ないという長所を有する液晶表示パネルが広く使用されている。
一般に、液晶表示パネルは、互いに対向して配置された一対の基板(即ち、TFT(Thin Film Transistor)基板とCF(Color Filter)基板)と、一対の基板の間に設けられた液晶層と、一対の基板を互いに接着するとともに、両基板の間に液晶を封入するために枠状に設けられたシール材と、液晶層の厚み(即ち、セルギャップ)を規制するための複数のスペーサとを備えている。
また、近年、自動販売機、ATM、携帯ゲーム機、カーナビゲーション等の各種電子機器に使用される液晶表示パネルには、画面に触れることにより、電子機器の操作を行う装置であるタッチパネルが設けられている。このタッチパネルは、指やペンなどでタッチ(押圧)することによって、電子機器に対して対話形式で情報を入力する装置である。
ここで、上述のタッチパネルを備えた液晶表示パネルにおいては、パネルの表示面を指やペンなどで押圧すると、パネルの表示面に対して圧力が加わるため、液晶層の厚みが変化し、液晶表示パネルの表示領域において、プーリング(液晶の濃淡の波打ち現象)が発生するという問題があった。
また、液晶表示パネルを低温下(例えば−30℃以下)において保持した場合に、上述のスペーサが収縮してしまい、液晶層の内部に気泡が発生する場合がある。そして、この気泡により、液晶表示パネルの表示品質が低下して、液晶表示パネルの信頼性が低下するという問題があった。
そこで、液晶層の厚みを均一に保つとともに、低温における気泡の発生を回避すべく、弾性スペーサを使用した液晶表示パネルが提案されている。より具体的には、互いに対向して配置された一対の基板と、一対の基板の間に設けられた液晶層と、両基板の間に液晶を封入するためのシール材とを備え、両基板の間に、シール材の厚みより大きな厚み(径)を有する弾性スペーサを設けるとともに、当該弾性スペーサに対して圧力を加えることにより、シール材の厚みより薄くなるように、弾性スペーサを変形させた液晶表示パネルが開示されている。そして、このような構成により、液晶層の厚みが均一になるとともに、低温時に表示欠陥等の発生を防止できると記載されている(例えば、特許文献1参照)。
特開昭62−66223号公報
しかし、上記特許文献1に記載の弾性スペーサは、一般に、散布により形成されるため、液晶表示パネルの表示領域におけるプーリングの発生しやすい4つの角領域(即ち、表示領域における四隅の領域)において、液晶層の厚みを均一に規制するための十分な弾性スペーサを配置することができないという問題があった。従って、液晶表示パネルの表示領域に強い圧力が加わった場合に、プーリングの発生しやすい角領域において、液晶層の厚みを均一に規制することが困難になるとともに、液晶層の厚みが変化して、プーリングが発生してしまうという問題があった。
そこで、本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、表示領域に強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生を効果的に防止できるとともに、気泡の発生を効果的に防止できる液晶表示パネルを提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、第1基板と、第1基板に対向して配置された第2基板と、第1基板及び第2基板の間に設けられた液晶層と、第1基板及び第2基板の間に設けられるとともに、液晶層の厚みを規制するための複数のスペーサとを備えた液晶表示パネルであって、液晶表示パネルの角領域に設けられたスペーサは、液晶表示パネルの中央領域に設けられたスペーサよりも高い分布密度で配置されていることを特徴とする。
同構成によれば、プーリングの発生しやすい液晶表示パネルの角領域において、液晶表示パネルの中央領域に比し、スペーサを高い分布密度で配置するため、表示領域に強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい角領域において、スペーサにより圧力が効果的に分散されるため、液晶層の厚みを均一に規制することが可能になるとともに、液晶層の厚みの変化を効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネルの角領域において、プーリングの発生を効果的に防止できる。
また、気泡の発生しやすい液晶表示パネルの中央領域において、液晶表示パネルの角領域に比し、スペーサを低い分布密度で配置することが可能になる。従って、液晶表示パネルの中央領域において、気泡の発生を効果的に抑制することができる。その結果、液晶表示パネルの表示品質の低下を効果的に抑制することができる。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の液晶表示パネルであって、液晶表示パネルの中央領域から液晶表示パネルの角領域に向けて、スペーサの分布密度が漸増することを特徴とする。
同構成によれば、液晶表示パネルの中央領域と液晶表示パネルの角領域との間の領域において、中央領域からプーリングの発生しやすい角領域に向かうに従って、スペーサにより圧力が効果的に分散されるため、プーリングの発生を効果的に防止することが可能になる。また、プーリングの発生しやすい角領域において、液晶層の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネルの角領域において、プーリングの発生をより一層効果的に防止できる。
請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の液晶表示パネルであって、第1基板と、第1基板に対向して配置された第2基板と、第1基板及び第2基板の間に設けられた液晶層と、第1基板及び第2基板の間に設けられるとともに、液晶層の厚みを規制するための複数のスペーサとを備えた液晶表示パネルであって、液晶表示パネルの角領域に設けられたスペーサは、液晶表示パネルの中央領域に設けられたスペーサよりも大きい径を有することを特徴とする。
同構成によれば、プーリングの発生しやすい液晶表示パネルの角領域において、液晶表示パネルの中央領域に設けられたスペーサよりも径の大きなスペーサを配置することができる。従って、表示領域に強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい角領域に設けられたスペーサにおいて圧力が効果的に分散されるため、液晶層の厚みを均一に規制することが可能になるとともに、液晶層の厚みの変化を効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネルの角領域において、プーリングの発生を効果的に防止できる。
また、気泡の発生しやすい液晶表示パネルの中央領域において、液晶表示パネルの角領域に設けられたスペーサに比し、径の小さいスペーサを配置することができる。従って、液晶表示パネルの中央領域において、気泡の発生を効果的に抑制することができる。その結果、液晶表示パネルの表示品質の低下を効果的に抑制することができる。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の液晶表示パネルであって、液晶表示パネルの中央領域から液晶表示パネルの角領域に向けて、スペーサの径が漸増することを特徴とする。
同構成によれば、液晶表示パネルの中央領域と液晶表示パネルの角領域との間の領域において、中央領域からプーリングの発生しやすい角領域に向かうに従って、スペーサにより圧力が効果的に分散されるため、プーリングの発生を効果的に防止することが可能になる。また、プーリングの発生しやすい角領域において、液晶層の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネルの角領域において、プーリングの発生をより一層効果的に防止できる。
請求項5に記載の発明は、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の液晶表示パネルであって、スペーサは、フォトリソグラフィー法により形成されていることを特徴とする。
同構成によれば、液晶表示パネルの任意の位置にスペーサを形成することが可能になる。従って、液晶表示パネルの透過領域以外の領域に、スペーサを形成することが可能になるため、透過率の低下を防止することができる。
また、本発明の請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の液晶表示パネルは、強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生を効果的に防止できるとともに、気泡の発生を効果的に防止して、表示品質の低下を効果的に防止できるという優れた特性を備えている。従って、請求項6に記載の発明のように、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の液晶表示パネルであって、液晶表示パネルに積層されたタッチパネルを備える液晶表示パネルに好適に使用される。
本発明によれば、スペーサを備える液晶表示パネルにおいて、強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生を効果的に防止できるとともに、気泡の発生を効果的に防止して、表示品質の低下を効果的に防止できる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示パネルの平面図であり、図2は、図1のA−A断面図である。また、図3は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示パネルの等価回路図であり、図4は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示パネルを構成するTFT基板の断面図である。また、図5は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示パネルの表示部の断面図である。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示パネルの平面図であり、図2は、図1のA−A断面図である。また、図3は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示パネルの等価回路図であり、図4は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示パネルを構成するTFT基板の断面図である。また、図5は、本発明の第1の実施形態に係る液晶表示パネルの表示部の断面図である。
図1、図2に示す様に、液晶表示パネル1は、第1基板であるTFT基板2と、TFT基板2に対向して配置された第2基板であるCF基板3と、TFT基板2及びCF基板3の間に挟持して設けられた表示媒体層である液晶層4と、TFT基板2及びCF基板3を互いに接着するとともに液晶層4を封入するために枠状に設けられたシール材40とを備えている。このシール材40は、液晶層4を周回するように形成されており、TFT基板2とCF基板3は、このシール材40を介して相互に貼り合わされている。また、図1、図2に示すように、液晶表示パネル1は、液晶層4の厚み(即ち、セルギャップ)が均一になるように規制するための複数のフォトスペーサ25を備えている。
また、図1に示すように、液晶表示パネル1では、TFT基板2がその上辺においてCF基板3よりも突出しており、その突出した領域には、後述するゲート線やソース線等のの複数の表示用配線が引き出され、端子領域Tが構成されている。また、液晶表示パネル1では、TFT基板2及びCF基板3が重なる領域に画像表示を行う表示領域Dが規定されている。ここで、表示領域Dは、画像の最小単位である画素がマトリクス状に複数配列されることにより構成されている。
TFT基板2は、図3、図4に示すように、ガラス基板等の絶縁基板6と、当該絶縁基板6上に互いに平行に延設された複数のゲート線11と、各ゲート線11を覆うように設けられたゲート絶縁膜12と、ゲート絶縁膜12上に各ゲート線11と直交する方向に互いに平行に延設された複数のソース線14と、各ゲート線11及び各ソース線14の交差部分毎にそれぞれ設けられた複数のTFT5と、各ソース線14及び各TFT5を覆うように順に設けられた第1層間絶縁膜15及び第2層間絶縁膜16と、第2層間絶縁膜16上にマトリクス状に設けられ、各TFT5の各々に接続された複数の画素電極19と、各画素電極19を覆うように設けられた配向膜9とを備えている。
また、TFT5は、図4に示すように、各ゲート線11が側方に突出したゲート電極17と、ゲート電極17を覆うように設けられたゲート絶縁膜12と、ゲート絶縁膜12上でゲート電極17に重なる位置において島状に設けられた半導体層13と、半導体層13上で互いに対峙するように設けられたソース電極18及びドレイン電極20とを備えている。ここで、ソース電極18は、各ソース線14が側方に突出した部分である。また、ドレイン電極20は、図4に示すように、第1層間絶縁膜15及び第2層間絶縁膜16に形成されたコンタクトホール30を介して画素電極19に接続されている。また、画素電極19は、図5に示すように、第2層間絶縁膜16上に設けられた透明電極31と、透明電極31上に積層され、透明電極31の表面上に設けられた反射電極32とにより構成されている。また、半導体層13は、図4に示すように、下層の真性アモルファスシリコン層13aと、その上層のリンがドープされたn+アモルファスシリコン層13bとを備え、ソース電極18及びドレイン電極20から露出する真性アモルファスシリコン層13aがチャネル領域を構成している。
また、TFT基板2及びそれを備えた液晶表示パネル1の表示部では、図5に示すように、反射電極32により反射領域Rが規定され、反射電極32から露出する透明電極31により透過領域Tが規定されている。また、画素電極19の下層の第2層間絶縁膜16の表面は、図5に示すように、凹凸状に形成されており、第2層間絶縁膜16の表面に透明電極31を介して設けられた反射電極32の表面も凹凸状に形成されている。
CF基板3は、図5に示すように、ガラス基板等の絶縁基板21と、絶縁基板21上に設けられたカラーフィルター層22と、カラーフィルター層22の反射領域Rにおいて、反射領域R及び透過領域Tにおける光路差を補償するための透明層23と、カラーフィルター層22の透過領域T及び透明層23(即ち、反射領域R)覆うように設けられた共通電極24と、共通電極24を覆うように設けられた配向膜26とを備えている。なお、カラーフィルター層22には、各画素に対して設けられた赤色層R、緑色層G、および青色層Bの着色層(不図示)と、遮光膜であるブラックマトリクス(不図示)とが含まれる。
液晶層4は、例えば、電気光学特性を有するネマチックの液晶材料等により構成されている。
また、図1、図2に示すフォトスペーサ25は、例えば、アクリル系の感光性樹脂からなり、フォトリソグラフィー法により形成される。また、図示は省略するが、フォトスペーサ25は、上述の透過領域T以外の領域において、共通電極24上に柱状に設けられるとともに、配向膜26に覆われる構成となっている。
上記構成の半透過型の液晶表示パネル1は、反射領域RにおいてCF基板3側から入射する光を反射電極32で反射するとともに、透過領域TにおいてTFT基板2側から入射するバックライト(不図示)からの光を透過するように構成されている。
そして、液晶表示パネル1は、各画素電極毎に1つの画素が構成されており、各画素において、ゲート線11からゲート信号が送られてTFT5をオン状態にした場合に、ソース線14からソース信号が送られてソース電極18及びドレイン電極20を介して、画素電極19に所定の電荷が書き込まれ、画素電極19と共通電極24との間で電位差が生じ、液晶層4に所定の電圧が印加されるように構成されている。そして、液晶表示パネル1では、印加された電圧の大きさに応じて、液晶分子の配向状態が変わることを利用して、バックライトから入射する光の透過率を調整することにより、画像が表示される構成となっている。
ここで、本実施形態においては、液晶表示パネル1において、フォトスペーサ25を、フォトスペーサ25の分布密度を変化させて配置する点に特徴がある。より具体的には、図1に示すように、液晶表示パネル1の4つの角領域(即ち、表示領域Dにおける四隅の領域)Aの各々に設けられたフォトスペーサ25は、液晶表示パネル1の中央領域B(即ち、表示領域Dにおける中央領域)に設けられたフォトスペーサ25より高い分布密度で配置されている点に特徴がある。換言すれば、液晶表示パネル1の角領域Aに設けられたフォトスペーサ25の数が、液晶表示パネル1の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ25の数よりも多くなるように、フォトスペーサ25が配置されている。
このような構成により、プーリングの発生しやすい液晶表示パネル1の角領域Aにおいて、液晶表示パネル1の中央領域Bに比し、フォトスペーサ25を高い分布密度で配置することができる。従って、表示領域Dに強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、複数のフォトスペーサ25により圧力が効果的に分散されることになる。従って、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、液晶層4の厚みを均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化を効果的に防止することが可能になる。
また、一般に、フォトスペーサの数が増加すると、低温においてフォトスペーサが収縮して、上述の気泡が発生しやすい傾向にあり、特に、液晶表示パネルの中央領域において、気泡が発生しやすい傾向にある。しかし、本実施形態においては、気泡の発生しやすい液晶表示パネル1の中央領域Bにおいて、液晶表示パネル1の角領域Aに比し、フォトスペーサ25を低い分布密度で配置することができる。従って、液晶表示パネル1の中央領域Bにおいて、気泡の発生を効果的に抑制することができる。
また、図1に示すように、本実施形態においては、液晶表示パネル1の中央領域Bから表示パネル1の角領域Aに向けて、フォトスペーサ25の分布密度が漸増する構成となっている。換言すれば、液晶表示パネル1の中央領域Bから表示パネル1の角領域Aに向けて、液晶表示パネル1に設けられたフォトスペーサ25の数が漸増する構成としている。
従って、液晶表示パネル1の中央領域Bと液晶表示パネル1の角領域Aとの間の領域において、中央領域Bからプーリングの発生しやすい角領域Aに向かうに従って、複数のフォトスペーサ25により圧力が効果的に分散されるため、プーリングの発生を効果的に防止することが可能になる。また、プーリングの発生しやすい角領域Aに向かうに従って、複数のフォトスペーサ25により圧力が効果的に分散されるため、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、液晶層4の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。
また、上記特許文献1に記載の弾性スペーサは、一般に、散布により形成されるため、液晶表示パネルの透過領域にも弾性スペーサが形成されることになる。従って、液晶表示パネルの透過率が低下するという問題があった。
一方、本実施形態においては、上述のごとく、フォトスペーサ25を、フォトリソグラフィー法により形成する構成としている。従って、液晶表示パネル1の任意の位置にフォトスペーサ25を形成することが可能になるため、透過領域T以外の領域に、フォトスペーサ25を形成することができる。
次に、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法について一例を挙げて説明する。なお、本実施形態の製造方法は、TFT基板作製工程、CF基板作製工程、及び基板貼り合わせ工程を備える。
<TFT基板作製工程>
まず、絶縁基板6の全体に、スパッタリング法により、例えば、チタン膜、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線11及びゲート電極17を厚さ4000Å程度に形成する。
まず、絶縁基板6の全体に、スパッタリング法により、例えば、チタン膜、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線11及びゲート電極17を厚さ4000Å程度に形成する。
続いて、ゲート線11及びゲート電極17が形成された基板全体に、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法により、例えば、窒化シリコン膜などを成膜し、ゲート絶縁膜12を厚さ4000Å程度に形成する。
さらに、ゲート絶縁膜12が形成された基板全体に、プラズマCVD法により、例えば、真性アモルファスシリコン膜(厚さ2000Å程度)、及びリンがドープされたn+アモルファスシリコン膜(厚さ500Å程度)を連続して成膜し、その後、フォトリソグラフィによりゲート電極17上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層及びn+アモルファスシリコン層が積層された半導体形成層を形成する。
そして、上記半導体形成層が形成された基板全体に、スパッタリング法により、例えば、アルミニウム膜及びチタン膜などを順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線14、ソース電極18及びドレイン電極20を厚さ2000Å程度に形成する。
続いて、ソース電極18及びドレイン電極20をマスクとして上記半導体形成層のn+アモルファスシリコン層をエッチングすることにより、チャネル領域をパターニングして、半導体層13及びそれを備えたTFT5を形成する。
さらに、TFT5が形成された基板全体に、プラズマCVD法により、例えば、窒化シリコン膜などを成膜し、第1層間絶縁膜15を厚さ4000Å程度に形成する。
そして、第1層間絶縁膜15が形成された基板全体に、スピンコート法により、例えば、ポジ型の感光性樹脂を厚さ3μm程度に塗布し、その塗布された感光性樹脂を、複数の円形状の遮光部が互いに離間してランダムに形成された第1のフォトマスクを介して均一に且つ相対的に低照度で露光し、続いて、ドレイン電極20上のコンタクトホール30に対応する位置に開口部がそれぞれ形成された第2のフォトマスクを介して均一に且つ相対的に高照度で露光した後に、現像する。これにより、上述した高照度の露光部分の感光性樹脂は、完全に除去され、同低照度の露光部分の感光性樹脂は、塗布厚の40%程度が残膜し、未露光部分の感光性樹脂は、塗布厚の80%程度が残膜することになる。さらに、感光性樹脂が現像された基板を200℃程度に加熱して、感光性樹脂を熱だれさせることにより、反射領域Rの表面がなめらかな凹凸状になった第2層間絶縁膜16を形成する。その後、第2層間絶縁膜16から露出する第1層間絶縁膜15をエッチングして、コンタクトホール30を形成する。
次いで、第2層間絶縁膜16上の基板全体に、ITO膜などからなる透明導電膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、絶縁基板6に透明電極31を厚さ1000Å程度に形成する。
次いで、透明電極31が形成された基板全体に、モリブデン膜(厚さ750Å程度)及びアルミニウム膜(厚さ1000Å程度)をスパッタリング法により順に成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、反射領域Rにおいて、透明電極31の表面上に反射電極32を形成して、透明電極31及び反射電極32を備えた画素電極19を形成する。
次いで、画素電極19が形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行って、配向膜9を厚さ1000Å程度に形成する。
以上のようにして、TFT基板2を作製することができる。
<CF基板作製工程>
まず、ガラス基板などの絶縁基板21の基板全体に、例えば、赤、緑又は青に着色されたアクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することによりパターニングして、選択した色の着色層(例えば、赤色層R)を厚さ2.0μm程度に形成する。さらに、他の2色についても同様な工程を繰り返して、他の2色の着色層(例えば、緑色層G及び青色層B)を厚さ2.0μm程度に形成して、赤色層R、緑色層G及び青色層Bを備えたカラーフィルター層22を形成する。
まず、ガラス基板などの絶縁基板21の基板全体に、例えば、赤、緑又は青に着色されたアクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することによりパターニングして、選択した色の着色層(例えば、赤色層R)を厚さ2.0μm程度に形成する。さらに、他の2色についても同様な工程を繰り返して、他の2色の着色層(例えば、緑色層G及び青色層B)を厚さ2.0μm程度に形成して、赤色層R、緑色層G及び青色層Bを備えたカラーフィルター層22を形成する。
次いで、カラーフィルター層22が形成された基板上に、スピンコート法により、アクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することにより、透明層23を厚さ2μm程度に形成する。
次いで、透明層23が形成された基板全体に、スパッタリング法により、例えば、ITO膜を成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、共通電極24を厚さ1500Å程度に形成する。
次いで、フォトリソグラフィー法によりフォトスペーサ25を形成する。より具体的には、共通電極24が形成された基板全体に、スピンコート法により、アクリル系の感光性樹脂を塗布し、その塗布された感光性樹脂をフォトマスクを介して露光した後に、現像することにより、フォトスペーサ25を厚さ4μm程度に形成する。この際、液晶表示パネル1の角領域Aに設けられるフォトスペーサ25の数を、液晶表示パネル1の中央領域Bに設けられるフォトスペーサ25の数よりも多くなるように、フォトスペーサ25を配置し、液晶表示パネル1の角領域Aに設けられるフォトスペーサ25を、液晶表示パネル1の中央領域Bに設けられるフォトスペーサ25より高い分布密度で配置する。
次いで、フォトスペーサ25が形成された基板全体に、印刷法によりポリイミド系樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行って、配向膜26を厚さ1000Å程度に形成する。
以上のようにして、CF基板3を作製することができる。
<貼り合わせ工程>
まず、例えば、ディスペンサを用いて、上記CF基板作製工程で作製されたCF基板3に、紫外線硬化及び熱硬化併用型樹脂などにより構成されたシール材40を枠状に描画する。
まず、例えば、ディスペンサを用いて、上記CF基板作製工程で作製されたCF基板3に、紫外線硬化及び熱硬化併用型樹脂などにより構成されたシール材40を枠状に描画する。
次いで、上記シール材40が描画されたCF基板3におけるシール材40の内側の領域に液晶材料を滴下する。
さらに、上記液晶材料が滴下されたCF基板3と、上記TFT基板作製工程で作製されたTFT基板2とを、減圧下で貼り合わせた後に、その貼り合わせた貼合体を大気圧に開放することにより、その貼合体の表面及び裏面を加圧する。
次いで、上記貼合体に挟持されたシール材40にUV光を照射した後に、その貼合体を加熱することによりシール材40を硬化させる。
以上のようにして、図1に示す液晶表示パネル1を作製することができる。
以上に説明した本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
(1)本実施形態においては、液晶表示パネル1の角領域Aに設けられたフォトスペーサ25を、液晶表示パネル1の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ25より高い分布密度で配置する構成としている。従って、表示領域Dに強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、液晶層4の厚みを均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化を効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネル1の角領域Aにおいて、プーリングの発生を効果的に防止できる。
(2)また、気泡の発生しやすい液晶表示パネル1の中央領域Bにおいて、液晶表示パネル1の角領域Aに比し、フォトスペーサ25を低い分布密度で配置することができる。従って、液晶表示パネル1の中央領域Bにおいて、気泡の発生を効果的に抑制することができる。その結果、液晶表示パネル1の表示品質の低下を効果的に抑制することができる。
(3)本実施形態においては、液晶表示パネル1の中央領域Bから液晶表示パネル1の角領域Aに向けて、フォトスペーサ25の分布密度を漸増させる構成としている。従って、液晶表示パネル1の中央領域Bと液晶表示パネル1の角領域Aとの間の領域において、プーリングの発生を効果的に防止することが可能になる。
(4)また、液晶表示パネル1の中央領域Bから液晶表示パネル1の角領域Aに向けて、フォトスペーサ25の分布密度が漸増するため、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、液晶層4の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネル1の角領域Aにおいて、プーリングの発生をより一層効果的に防止できる。
(5)本実施形態においては、フォトスペーサ25を、フォトリソグラフィー法により形成する構成としている。従って、液晶表示パネル1の任意の位置にフォトスペーサ25を形成することが可能になるため、液晶表示パネル1の透過領域T以外の領域にフォトスペーサ25を形成することが可能になる。その結果、透過率の低下を防止することができる。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。図6は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表示パネルの平面図であり、図7、図8は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表示パネルのフォトスペーサを説明するための図である。なお、上記第1の実施形態と同様の構成部分については同一の符号を付してその説明を省略する。また、液晶表示パネルの断面構造、液晶表示パネルの等価回路図、液晶表示パネルを構成するTFT基板、及び液晶表示パネルの表示部については、上述の第1の実施形態において説明したものと同様であるため、ここでは詳しい説明を省略する。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。図6は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表示パネルの平面図であり、図7、図8は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表示パネルのフォトスペーサを説明するための図である。なお、上記第1の実施形態と同様の構成部分については同一の符号を付してその説明を省略する。また、液晶表示パネルの断面構造、液晶表示パネルの等価回路図、液晶表示パネルを構成するTFT基板、及び液晶表示パネルの表示部については、上述の第1の実施形態において説明したものと同様であるため、ここでは詳しい説明を省略する。
本実施形態においては、液晶表示パネル60において、フォトスペーサ25の代わりに、径の異なるフォトスペーサを設ける点に特徴がある。より具体的には、図6〜図8に示すように、液晶表示パネル60の4つの角領域Aの各々に設けられたスペーサ26は、液晶表示パネル60の中央領域Bに設けられたスペーサ27よりも大きい径を有することを特徴とする。換言すれば、液晶表示パネル60の4つの角領域Aの各々に設けられたフォトスペーサ26の径R1は、液晶表示パネル60の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ27の径R2よりも大きい(即ち、R1>R2の関係が成立する)点に特徴がある。
このような構成により、プーリングの発生しやすい液晶表示パネル60の角領域Aにおいて、液晶表示パネル60の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ27よりも径の大きなフォトスペーサ26を配置することができる。従って、表示領域Dに強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい角領域Aに設けられたフォトスペーサ26において圧力が効果的に分散されるため、液晶層4の厚みを均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化を効果的に防止できる。
また、一般に、フォトスペーサの径が増加すると、低温においてフォトスペーサが収縮して、上述の気泡が発生しやすい傾向にあり、特に、液晶表示パネルの中央領域において、気泡が発生しやすい傾向にある。しかし、本実施形態においては、気泡の発生しやすい液晶表示パネル60の中央領域Bにおいて、液晶表示パネル60の角領域Aに設けられたフォトスペーサ26に比し、径の小さいフォトスペーサ27を配置することができる。従って、液晶表示パネル60の中央領域Bにおいて、気泡の発生を効果的に抑制することができる。
また、図6〜図8に示すように、本実施形態においては、液晶表示パネル60の中央領域Bから表示パネル1の角領域Aに向けて、フォトスペーサの径が漸増する構成となっている。より具体的には、図6〜図8に示すように、液晶表示パネル60の中央領域Bと液晶表示パネル60の角領域Aとの間の領域に設けられたフォトスペーサ28の径をR3とした場合に、R1>R2>R3の関係が成立するようにフォトスペーサ26〜28が設けられる構成となっている。
従って、液晶表示パネル60の中央領域Bと液晶表示パネル60の角領域Aとの間の領域において、中央領域Bからプーリングの発生しやすい角領域Aに向かうに従って、フォトスペーサ28により圧力が効果的に分散されるため、プーリングの発生を効果的に防止することが可能になるとともに、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、液晶層4の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。
なお、本実施形態の液晶表示パネルの製造方法については、上述の第1の実施形態において説明した液晶表示パネル製造方法と同様であるため、ここでは詳しい説明を省略するが、本実施形態においては、フォトリソグラフィー法によりフォトスペーサ26,27を形成する際に、液晶表示パネル60の4つの角領域Aの各々に設けられたフォトスペーサ26の径R1が、液晶表示パネル60の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ27の径R2よりも大きくなるように形成する。
以上に説明した本実施形態によれば、上述の(5)の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
(6)本実施形態においては、液晶表示パネル60の4つの角領域Aの各々に設けられたスペーサ26が、液晶表示パネル60の中央領域Bに設けられたスペーサ27よりも大きい径を有する構成としている。従って、表示領域Dに強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、液晶層4の厚みを均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化を効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネル60の角領域Aにおいて、プーリングの発生を効果的に防止できる。
(7)また、気泡の発生しやすい液晶表示パネル60の中央領域Bにおいて、液晶表示パネル60の角領域Aに設けられたフォトスペーサ26に比し、径の小さいフォトスペーサ27を配置することができる。従って、液晶表示パネル60の中央領域Bにおいて、気泡の発生を効果的に抑制することができる。その結果、液晶表示パネル60の表示品質の低下を効果的に抑制することができる。
(8)本実施形態においては、液晶表示パネル60の中央領域Bから液晶表示パネル60の角領域Aに向けて、フォトスペーサ26〜28の径を漸増させる構成としている。従って、液晶表示パネル60の中央領域Bと液晶表示パネル60の角領域Aとの間の領域において、プーリングの発生を効果的に防止することが可能になる。
(9)また、液晶表示パネル60の中央領域Bから液晶表示パネル60の角領域Aに向けて、フォトスペーサ26〜28の径が漸増するため、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、液晶層4の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネル60の角領域Aにおいて、プーリングの発生をより一層効果的に防止できる。
なお、上記実施形態は以下のように変更しても良い。
・上記実施形態においては、液晶表示パネルの角領域A及び中央領域Bに設けられたフォトスペーサの分布密度や径を変更する構成としたが、本発明はこれに限定されず、液晶表示パネルの任意の領域に設けられたフォトスペーサの分布密度や径を変更する構成としても良い。例えば、図9に示すように、液晶表示パネル61の周縁領域(即ち、表示領域Dにおける周縁領域)Cの各々に設けられたフォトスペーサ25を、液晶表示パネル61の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ25より高い分布密度で配置する構成としても良い。換言すれば、液晶表示パネル61の周縁領域Cに設けられたフォトスペーサ25の数が、液晶表示パネル61の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ25の数よりも多くなるように、フォトスペーサ25を配置する構成としても良い。このような構成により、液晶表示パネル61の周縁領域Cにおいてプーリングが発生しやすい場合に、液晶表示パネル61の周縁領域Cにおいて、液晶表示パネル61の中央領域Bに比し、フォトスペーサ25を高い分布密度で配置することができる。従って、表示領域Dに強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい周縁領域Cにおいて、複数のフォトスペーサ25により圧力が効果的に分散されることになる。従って、液晶層4の厚みを均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化を効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネル61の周縁C領域において、プーリングの発生を効果的に防止できる。また、上述の第1の実施形態の場合と同様に、気泡の発生しやすい液晶表示パネル61の中央領域Bにおいて、液晶表示パネル61の周縁領域Cに比し、フォトスペーサ25を低い分布密度で配置することができる。従って、液晶表示パネル61の中央領域Bにおいて、気泡の発生を効果的に抑制することができる。なお、この場合も、上述の第1の実施形態の場合と同様に、図9に示すように、液晶表示パネル61の中央領域Bから液晶表示パネル61の周縁領域Cに向けて、フォトスペーサ25の分布密度が漸増する(即ち、液晶表示パネル61の中央領域Bから表示パネル1の周縁領域Cに向けて、液晶表示パネル61に設けられたフォトスペーサ25の数が漸増する)構成としても良い。このような構成により、液晶表示パネル61の中央領域Bと液晶表示パネル61の周縁領域Cとの間の領域において、中央領域Bからプーリングの発生しやすい周縁領域Cに向かうに従って、複数のフォトスペーサ25により圧力が効果的に分散されるため、プーリングの発生を効果的に防止することが可能になる。また、プーリングの発生しやすい周縁領域Cに向かうに従って、複数のフォトスペーサ25により圧力が効果的に分散されるため、プーリングの発生しやすい周縁領域Cにおいて、液晶層4の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。
・また、図10に示すように、液晶表示パネル62の周縁領域Cに設けられたフォトスペーサ29の径R4を、液晶表示パネル62の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ27の径R2よりも大きく(即ち、R4>R2の関係が成立する)設定する構成としても良い。このような構成により、液晶表示パネル62の周縁領域Cにおいてプーリングが発生しやすい場合に、液晶表示パネル62の周縁領域Cにおいて、液晶表示パネル62の中央領域Bに設けられたフォトスペーサ27よりも径の大きなフォトスペーサ26を配置することができる。従って、表示領域Dに強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい周縁領域Cに設けられたフォトスペーサ29において圧力が効果的に分散されるため、液晶層4の厚みを均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化を効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネル62の周縁領域Cにおいて、プーリングの発生を効果的に防止できる。また、上述の第2の実施形態の場合と同様に、気泡の発生しやすい液晶表示パネル62の中央領域Bにおいて、液晶表示パネル62の周縁領域Cに設けられたフォトスペーサ29に比し、径の小さいフォトスペーサ27を配置することができる。従って、液晶表示パネル62の中央領域Bにおいて、気泡の発生を効果的に抑制することができる。なお、この場合も、上述の第2の実施形態の場合と同様に、図10に示すように、液晶表示パネル62の中央領域Bから液晶表示パネル62の周縁領域Cに向けて、フォトスペーサの径が漸増する(即ち、液晶表示パネル62の中央領域Bと液晶表示パネル62の周縁領域Cとの間の領域に設けられたフォトスペーサ30の径をR5とした場合に、R4>R5>R3の関係が成立する)構成としても良い。この様な構成により、液晶表示パネル62の中央領域Bと液晶表示パネル62の周縁領域Cとの間の領域において、中央領域Bからプーリングの発生しやすい周縁領域Cに向かうに従って、フォトスペーサ30により圧力が効果的に分散されるため、プーリングの発生を効果的に防止することが可能になるとともに、プーリングの発生しやすい周縁領域Cにおいて、液晶層4の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。
・また、図11に示すように、液晶表示パネル63の角領域Aに設けられたスペーサ25を、液晶表示パネル63の中央領域Bに設けられたスペーサ25より高い分布密度で配置するとともに、液晶表示パネル63の角領域Bに設けられたスペーサ25の径を、液晶表示パネル63の中央領域Bに設けられたスペーサ25の径より大きく設定する構成としても良い。このような構成により、表示領域Dに強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生しやすい角領域Aにおいて、複数のフォトスペーサ25により圧力がより一層効果的に分散されることになるとともに、各フォトスペーサ25において圧力がより一層効果的に分散されるため、液晶層4の厚みをより一層均一に規制することが可能になるとともに、液晶層4の厚みの変化をより一層効果的に防止できる。その結果、液晶表示パネル63の角領域Aにおいて、プーリングの発生をより一層効果的に防止することができる。
・また、図12に示すように、接着層50を介して、液晶表示パネル1に積層され、パネルのタッチ面に接触物を接触させてそのタッチ面における接触位置を検出するタッチパネル51を備える構成としても良い。上述のごとく、本発明の液晶表示パネル1は、強い圧力が加わった場合であっても、プーリングの発生を効果的に防止できるとともに、気泡の発生を効果的に防止して、液晶表示パネル1の表示品質の低下を効果的に防止できるという優れた特性を備えている。従って、本発明は、タッチパネル51を備える液晶表示パネル1に好適に使用できる。なお、タッチパネル51の方式は、特に限定されず、例えば、抵抗膜方式、静電容量結合方式、赤外線方式、超音波方式及び電磁誘導結合方式等のいずれの方式であっても良いが、これらのうち、低コストで液晶表示パネルに搭載可能であるとの観点から、抵抗膜方式及び静電容量結合方式のタッチパネルを使用することが好ましい。
・上記実施形態の液晶表示パネル1の方式は、TN(Twisted Nematic)、VA(Vertical Alignment)、MVA(Multi-domain Vertical Alignment)、ASV(Advanced Super View)、IPS(In-Plane-Switching)など、どのような方式であってもよい。
以上説明したように、本発明は、液晶層の厚みを規制するためのスペーサを備える液晶表示パネルに有用である。
1 液晶表示パネル
2 TFT基板(第1基板)
3 CF基板(第2基板)
4 液晶層
25、26,27,28、29、30 フォトスペーサ
51 タッチパネル
60 液晶表示パネル
61 液晶表示パネル
62 液晶表示パネル
63 液晶表示パネル
A 液晶表示パネルの角領域
B 液晶表示パネルの中央領域
R1 液晶表示パネルの角領域に設けられたフォトスペーサの径
R2 液晶表示パネルの中央領域に設けられたフォトスペーサの径
2 TFT基板(第1基板)
3 CF基板(第2基板)
4 液晶層
25、26,27,28、29、30 フォトスペーサ
51 タッチパネル
60 液晶表示パネル
61 液晶表示パネル
62 液晶表示パネル
63 液晶表示パネル
A 液晶表示パネルの角領域
B 液晶表示パネルの中央領域
R1 液晶表示パネルの角領域に設けられたフォトスペーサの径
R2 液晶表示パネルの中央領域に設けられたフォトスペーサの径
Claims (6)
- 第1基板と、
前記第1基板に対向して配置された第2基板と、
前記第1基板及び前記第2基板の間に設けられた液晶層と、
前記第1基板及び前記第2基板の間に設けられるとともに、前記液晶層の厚みを規制するための複数のスペーサと
を備えた液晶表示パネルであって、
前記液晶表示パネルの角領域に設けられた前記スペーサは、前記液晶表示パネルの中央領域に設けられた前記スペーサよりも高い分布密度で配置されていることを特徴とする液晶表示パネル。 - 前記液晶表示パネルの中央領域から前記液晶表示パネルの角領域に向けて、前記スペーサの分布密度が漸増することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。
- 第1基板と、
前記第1基板に対向して配置された第2基板と、
前記第1基板及び前記第2基板の間に設けられた液晶層と、
前記第1基板及び前記第2基板の間に設けられるとともに、前記液晶層の厚みを規制するための複数のスペーサと
を備えた液晶表示パネルであって、
前記液晶表示パネルの角領域に設けられた前記スペーサは、前記液晶表示パネルの中央領域に設けられた前記スペーサよりも大きい径を有することを特徴とする液晶表示パネル。 - 前記液晶表示パネルの中央領域から前記液晶表示パネルの角領域に向けて、前記スペーサの径が漸増することを特徴とする請求項3に記載の液晶表示パネル。
- 前記スペーサは、フォトリソグラフィー法により形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の液晶表示パネル。
- 前記液晶表示パネルに積層されたタッチパネルを備えることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の液晶表示パネル。
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