JP2016100581A - 配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上層の絶縁層3に形成されたビアホールV内を、上端が上層の絶縁層3の上面から0〜15μm凹んで位置するビア導体4で充填した後、このビア導体4上を、ビア導体4の上端よりも狭い幅で横切る帯状パターン5aを有する上層の配線導体5をセミアディティブ法により形成する配線基板の製造方法である。ビアホールV内をビア導体4により良好に充填できるとともに、その上に微細な帯状パターン5aを高密度で形成することができる。
【選択図】図1
Description
下層の絶縁層と、該下層の絶縁層上に形成された下層の配線導体と、該下層の配線導体および下層の絶縁層上に形成された上層の絶縁層と、該上層の絶縁層に前記下層の配線導体を底面として形成されたビアホールと、該ビアホール内に充填されており、上端が上層の絶縁層の表面から0〜15μm凹んで位置するビア導体と、前記上層の絶縁層上および前記ビア導体上に、前記ビア導体上を該ビア導体の上端よりも狭い幅で横切る帯状パターンを有する上層の配線導体と、を形成して成る配線基板の製造方法であって、以下の(1)〜(7)の工程を行うことを特徴とするものである。
(1)前記下層の絶縁層上に前記下層の配線導体を形成する工程
(2)前記下層の絶縁層上および前記下層の配線導体上に前記上層の絶縁層を形成する工程
(3)前記上層の絶縁層に前記ビアホールを形成する工程
(4)前記上層の絶縁層上および前記ビアホール内に、電解めっきのための下地導体層を被着させる工程
(5)前記上層の配線導体が形成される部位の前記上層の絶縁層上ならびに前記ビアホール内およびその周辺の前記下地導体層上に、前記ビアホール内を完全に充填するとともに前記上層の絶縁層上面における面積占有率が40〜55%となる電解めっき層を形成する工程
(6)前記ビアホール上における前記電解めっき層の表面が前記上層の絶縁層の上面から0〜15μm凹む高さになるように前記下地導体層および前記電解めっき層の全面をエッチングして前記ビア導体を形成する工程
(7)前記上層の絶縁層上および前記ビア導体上に前記上層の配線導体をセミアディティブ法により形成する工程
2 下層の配線導体
3 上層の絶縁層
4 ビア導体
4U 第1の下地導体層
4P 第1の電解めっき層
5 上層の配線導体
5U 第2の下地導体層
5P 第2の電解めっき層
V ビアホール
Claims (1)
- 下層の絶縁層と、該下層の絶縁層上に形成された下層の配線導体と、該下層の配線導体および下層の絶縁層上に形成された上層の絶縁層と、該上層の絶縁層に前記下層の配線導体を底面として形成されたビアホールと、該ビアホール内に充填されており、上端が上層の絶縁層の表面から0〜15μm凹んで位置するビア導体と、前記上層の絶縁層上および前記ビア導体上に、前記ビア導体上を該ビア導体の上端よりも狭い幅で横切る帯状パターンを有する上層の配線導体と、を形成して成る配線基板の製造方法であって、以下の(1)〜(7)の工程を行うことを特徴とする配線基板の製造方法。
(1)前記下層の絶縁層上に前記下層の配線導体を形成する工程
(2)前記下層の絶縁層上および前記下層の配線導体上に前記上層の絶縁層を形成する工程
(3)前記上層の絶縁層に前記ビアホールを形成する工程
(4)前記上層の絶縁層上および前記ビアホール内に、電解めっきのための下地導体層を被着させる工程
(5)前記上層の配線導体が形成される部位の前記上層の絶縁層上ならびに前記ビアホール内およびその周辺の前記下地導体層上に、前記ビアホール内を完全に充填するとともに前記上層の絶縁層上面における面積占有率が40〜55%となる電解めっき層を形成する工程
(6)前記ビアホール上における前記電解めっき層の上面が前記上層の絶縁層の上面から0〜15μm凹む高さになるように前記下地導体層および前記電解めっき層の全面をエッチングして前記ビア導体を形成する工程
(7)前記上層の絶縁層上および前記ビア導体上に前記上層の配線導体をセミアディティブ法により形成する工程
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014239048A JP2016100581A (ja) | 2014-11-26 | 2014-11-26 | 配線基板の製造方法 |
KR1020150070925A KR20150137001A (ko) | 2014-05-28 | 2015-05-21 | 배선 기판의 제조방법 |
TW104116769A TW201603671A (zh) | 2014-05-28 | 2015-05-26 | 配線基板的製造方法 |
CN201510278610.2A CN105282968A (zh) | 2014-05-28 | 2015-05-27 | 布线基板的制造方法 |
US14/722,246 US20150351257A1 (en) | 2014-05-28 | 2015-05-27 | Method for producing wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014239048A JP2016100581A (ja) | 2014-11-26 | 2014-11-26 | 配線基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2016100581A true JP2016100581A (ja) | 2016-05-30 |
Family
ID=56077511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2014239048A Pending JP2016100581A (ja) | 2014-05-28 | 2014-11-26 | 配線基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016100581A (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2014
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