JP2016084272A - 水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置 - Google Patents

水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】改質器の熱源として利用するオフガスの燃焼効率を向上させることや、オフガスを原料ガスの一部としてリサイクル利用させることで、製品水素ガスに対する燃料ガスや原料ガスの供給量を低減できる水素ガス製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、炭化水素含有ガスの水蒸気改質、部分酸化改質又はオートサーマル改質により水素リッチな改質ガスを生成する改質器と、この改質ガス中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置とを用い、高純度水素ガスを製造する水素ガス製造方法であって、水素PSA装置より排出されるオフガスからオフガス用吸着塔を用い、二酸化炭素を除去する工程と、上記二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスを熱源又は原料ガスとして利用する工程とを備えることを特徴とする。
【選択図】図3

Description

本発明は、水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置に関する。
燃料電池の燃料等として使用される高純度の水素を製造する際、水蒸気改質器及び水素PSA(Pressure Swing Adsorption)装置が多用される。水蒸気改質器は、天然ガス等の炭化水素から水素リッチな改質ガスを製造する装置であり、水素PSA装置は、改質ガス中に含まれる一酸化炭素(CO)、メタン(CH)、二酸化炭素(CO)等の不純物を除去し、高純度の水素を精製する装置である。
水蒸気改質器における反応温度は800℃程度と高温であり、また水蒸気改質反応は吸熱反応なので、水蒸気改質器は外部から熱を供給する必要がある。この水蒸気改質器の熱源として、天然ガス等の原料ガスの一部や水素PSA装置から排出されるオフガスが用いられる。このように、水蒸気改質器の熱源としてオフガスを利用することで、原料ガスの供給量を低減できる。
しかし、水素PSA装置から排出されるオフガスを水蒸気改質器の熱源として利用する場合、このオフガスに不燃性ガスである二酸化炭素が含まれるため、二酸化炭素の顕熱分、燃焼効率が低下し易い。
上記水蒸気改質法の他に、水素の製造方法としては部分酸化改質法、オートサーマル改質法がある。部分酸化改質は発熱反応であるため、外部からの加熱用の熱源は不要とできる。また、オートサーマル改質は水蒸気改質と部分酸化改質とを組み合わせる方法であり、水蒸気改質で必要な熱源を部分酸化改質で発生する熱源で補うため、同様に熱源は不要とできる。このような部分酸化改質、オートサーマル改質においては、水素PSA装置から排出されるオフガスを改質ガス製造原料の一部としてリサイクル利用することで、原料ガスの供給量を低減でき、水素製造コストを低減することができる。
しかし、水素PSA装置から排出されるオフガスを改質ガス製造原料として利用する場合、オフガス中に不活性ガスである二酸化炭素が含まれるため、原料ガス中の炭化水素ガスの分圧が低下し改質器での反応効率が低下する。また、改質器の原料として利用する場合、二酸化炭素を多く含有する水素PSA装置のオフガスを導入すると、改質ガス中の二酸化炭素分圧が上昇し、水素PSA装置において二酸化炭素を除去するための負荷が増大する。このため、吸着塔サイズが大きくなると共に、水素回収率が低下し易い。
本発明者らは特許第5314408号公報や特許第4814024号公報において、水素回収率に優れ、水素製造コストの低減につながる水素PSA装置を提案している。しかしながら、水素PSA装置における水素回収率が高くなると、水素PSA装置のオフガス中の水素量が減少し、オフガスを燃料としてリサイクルする際の加熱効率の低下、及び改質器原料としてリサイクルする際の改質ガス中の二酸化炭素分圧の増加が顕著となる。このため、リサイクルによる水素製造コストの低減効果には改善の余地がある。
特許第5314408号公報 特許第4814024号公報
本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものであり、改質器の熱源又は原料ガスとして好適に利用できるようにオフガス中の二酸化炭素を減少させることで、水素の製造コストを低減できる水素ガス製造方法及び水素製造装置の提供を目的とする。
上記課題を解決するためになされた本発明は、炭化水素含有ガスの水蒸気改質、部分酸化改質又はオートサーマル改質により水素リッチな改質ガスを生成する改質器と、この改質ガス中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置とを用い、高純度水素ガスを製造する水素ガス製造方法であって、水素PSA装置より排出されるオフガスからオフガス用吸着塔を用い、二酸化炭素を除去する工程と、上記二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスを熱源又は原料ガスとして利用する工程とを備えることを特徴とする。
当該水素ガス製造方法によれば、オフガスを改質器の熱源又は原料ガスとして用いるので、原料ガスの供給量を低減できる。また、当該水素ガス製造方法はオフガスから二酸化炭素を除去する工程を備えるので、オフガスを熱源として用いる際の燃焼効率及びオフガスを原料ガスとして用いる際の水素回収率が向上する。その結果、原料ガスの供給量に対する製品ガスの生産効率が向上するので、当該水素ガス製造方法を用いることで水素製造コストを低減することができる。
上記炭化水素含有ガスの改質が水蒸気改質であり、上記オフガス利用工程において、オフガスを改質器の加熱燃料として供給するとよい。このように上記炭化水素含有ガスの改質が水蒸気改質である場合に、上記オフガス利用工程において燃焼効率の向上したオフガスを加熱燃料として供給することにより、原料ガスの供給量に対する製品ガスの生産効率がより向上する。
上記炭化水素含有ガスの改質がオートサーマル改質であり、上記オフガス利用工程において、オフガスを改質器に供給するスチームの生成用燃料として利用するとよい。このように上記炭化水素含有ガスの改質がオートサーマル改質である場合に、上記オフガス利用工程において燃焼効率の向上したオフガスをスチームの生成用燃料として供給することにより、原料ガスの供給量に対する製品ガスの生産効率がより向上する。
上記炭化水素含有ガスの改質が部分酸化改質又はオートサーマル改質であり、上記オフガス利用工程において、オフガスを原料ガスとして改質器に供給するとよい。このように上記炭化水素含有ガスの改質が部分酸化改質又はオートサーマル改質である場合に、上記オフガス利用工程においてオフガスを二酸化炭素濃度の低い改質ガス製造原料として供給することにより、原料ガス供給量を低減できるので、原料ガスの供給量に対する製品ガスの生産効率がより向上する。
上記オフガス用吸着塔に、二酸化炭素を選択的に吸着するオフガス用吸着剤として活性炭が充填されているとよい。このようにオフガス用吸着剤を二酸化炭素の吸着容量が大きい活性炭とすることにより、オフガス用吸着塔のサイズを小型化することができるので、オフガス用吸着塔の設置コストを低減できる。
上記オフガス用吸着塔に、水分除去用吸着剤がさらに充填されているとよい。このようにオフガス用吸着塔に水分除去用吸着剤を充填することで、水分が活性炭に吸着することによる活性炭の二酸化炭素吸着容量の低下を抑止できる。
上記水素PSA装置が、一酸化炭素を選択的に吸着する吸着剤が充填された吸着塔を有するとよい。このように水素PSA装置が一酸化炭素を選択的に吸着する吸着剤が充填された吸着塔を有することで、改質ガス中の一酸化炭素を除去するための吸着剤充填量をゼオライト等を使用する場合に比較して顕著に少なくすることができるので、吸着塔サイズのコンパクト化及び水素回収率の向上ができる。
上記一酸化炭素を選択的に吸着する吸着剤が、多孔質シリカ、多孔質アルミナ、及びポリスチレンのうち1種以上の担体にハロゲン化銅(I)あるいはハロゲン化銅(II)を担持させた材料、この材料を還元処理した材料、又はゼオライト中のカチオンを1価の銅(Cu(I))にイオン交換した材料を主成分とするとよい。上記材料は一酸化炭素の吸着性能が大きいため、一酸化炭素を選択的に吸着する吸着剤を上記材料を主成分とするものとすることで、吸着剤使用量をさらに削減できると共に、水素回収率の向上を図ることができる。なお、「主成分」とは、最も含有量の多い成分をいい、例えば50質量%以上含有される成分をいう。
水素PSA装置が吸着剤の再生時に常圧以下の減圧運転を行う、真空再生方式の水素PSA装置であるとよい。このように真空再生方式の水素PSA装置を用いることで、水素PSA装置の再生工程を容易に行うことができる。
上記水素PSA装置が、上記水素PSA装置の吸着塔を大気圧以下まで減圧する吸引ポンプを有するとよい。このように水素PSA装置が上記水素PSA装置の吸着塔を大気圧以下まで減圧する吸引ポンプを有することで、水素PSA装置の吸着塔の再生を容易に行うことができる。
上記水素PSA装置の吸引ポンプによる上記オフガス用吸着塔の減圧によって上記オフガス用吸着剤を再生する工程をさらに備えるとよい。このように水素PSA装置の吸引ポンプでオフガス用吸着塔を減圧しオフガス用吸着剤を再生することで、オフガス中の二酸化炭素を除去するオフガスPSA装置の設置コスト及び運転コストを低減できる。
上記オフガス用吸着剤再生工程が、水素PSA装置で吸引ポンプが作動していないときに行われるとよい。このようにオフガス用吸着剤再生工程を水素PSA装置で吸引ポンプが作動していないときに行うことで、運転効率を向上できる。
複数の上記オフガス用吸着塔を用い、一のオフガス用吸着塔で上記二酸化炭素除去工程を行いつつ、他のオフガス用吸着塔で上記吸着剤再生工程を行うとよい。このように一のオフガス用吸着塔で二酸化炭素除去工程を行いつつ他のオフガス用吸着塔で吸着剤再生工程を行うことにより、オフガス中の二酸化炭素の除去を連続的に行って単位時間当たりのオフガスの処理量を増加させることができる。その結果、原料ガスの供給量をより低減できる。
上記二酸化炭素除去工程において、常温常圧下でオフガスの二酸化炭素の除去を行うとよい。このようにオフガス用吸着塔を用いるオフガスの二酸化炭素の除去を常温常圧下で行うことで、オフガスを熱源として用いる際の燃焼効率及びオフガスを原料ガスとして用いる際の水素回収率をより低コストで向上できる。ここで、「常温」とは、例えば0℃以上40℃以下である。また、「常圧」とは特に減圧も加圧も行っていないときの圧力であり、通常大気圧(約1atm)に等しい圧力である。
上記二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスを一時貯蔵する工程をさらに備えるとよい。このように二酸化炭素を除去したオフガスを一時貯蔵する工程を備えることにより、二酸化炭素を除去したオフガスの改質器への供給量及び圧力等を調整できるので、二酸化炭素を除去したオフガスを安定して改質器へ供給できる。
また、上記課題を解決するためになされた別の発明は、炭化水素含有ガスの水蒸気改質、部分酸化改質又はオートサーマル改質により水素リッチな改質ガスを生成する改質器と、この改質ガス中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置とを備える水素ガス製造装置であって、水素PSA装置より排出されるオフガスから二酸化炭素を除去するオフガス用吸着塔と、上記オフガス用吸着塔により二酸化炭素が除去されたオフガスを熱源又は原料ガスとして利用するオフガス利用ラインとを備えることを特徴とする。
当該水素製造装置は、オフガスを熱源又は原料ガスとして利用するオフガス利用ラインにより、オフガスを改質器の熱源又は原料ガスとして用いることができるので、原料ガスの供給量を低減できる。また、当該水素製造装置は、オフガス用吸着塔を備えているので、水素PSA装置より排出されるオフガスから不活性ガスである二酸化炭素を除去でき、オフガスを熱源として用いる際の燃焼効率及びオフガスを原料ガスとして用いる際の水素回収率が向上する。その結果、製品ガスの生産効率が向上するので、当該水素製造装置は、水素製造コストを低減することができる。
以上説明したように、本発明の水素ガス製造方法及び水素製造装置によれば、改質器の熱源として利用するオフガスの燃焼効率を向上させること、又はオフガスを原料ガスの一部としてリサイクル利用することによって製品水素ガスに対する燃料ガス、原料ガス等の供給量を低減でき、水素製造コストの低減が可能となる。
本発明の一実施形態に係る水蒸気改質による水素製造装置の水素ガス製造プロセスを示すフロー図である。 本発明の一実施形態に係るオートサーマル改質による水素製造装置の水素ガス製造プロセスを示すフロー図である。 図1及び図2の水素PSA装置及びオフガスPSA装置を示す概略図である。 比較例における水蒸気改質による水素製造装置の水素ガス製造プロセスを示すフロー図である。
以下、適宜図面を参照しつつ、本発明の水素製造装置及び水素ガス製造方法の実施形態を詳説する。
[水素製造装置]
図1の水素製造装置は、原料ガスAである炭化水素ガスの水蒸気改質により水素リッチな改質ガスBを生成する改質器1と、この改質ガスB中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置2と、水素PSA装置2から排出されるオフガスCの二酸化炭素を除去するオフガスPSA装置3とを備える。
また、図2の水素製造装置は、原料ガスAである炭化水素ガスのオートサーマル改質により水素リッチな改質ガスBを生成する改質器1aと、この改質ガスB中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置2と、水素PSA装置2から排出されるオフガスCの二酸化炭素を除去するオフガスPSA装置3とを備える。
<改質器>
図1の水蒸気改質器1としては、例えば公知の水蒸気改質部と変成部とを組み合わせた改質器を用いることができる。水素リッチな改質ガスBは、天然ガス等の炭化水素を含有する原料ガスA及び水Hが供給される改質器1により原料ガスAが水蒸気改質されて得られる。具体的には、炭化水素を含有する原料ガスAを水蒸気改質部での改質反応により水蒸気で改質し、水素及び一酸化炭素を主成分とするガスとした後、さらに変成部で改質ガス中の一酸化炭素を水蒸気で変成し、水素リッチな改質ガスBを生成する。この改質ガスB中には、水素の他、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン等の未反応の天然ガス成分や水などの不純物が含まれる。上記水蒸気改質反応は吸熱反応なので、改質器バーナー4により改質器1を加熱して反応を促進させる。
図2のオートサーマル改質器1aは、少なくとも一部に改質触媒が充填されている。オートサーマル改質器1aは、この改質触媒に原料ガスとスチームとの混合物を接触させて改質反応により水素を主成分とする改質ガスを生成する改質層と、少なくとも一部に酸化触媒が充填されており、酸化用の原料ガスを酸化して熱を発生させる酸化発熱層とを備える改質器である。改質器1aに天然ガス等の炭化水素を含有する原料ガスA、スチームI及び酸素Jが供給されることで、原料ガスAが改質されて改質ガスBが得られる。改質ガスB中には、水蒸気改質と同様に水素の他、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン等の未反応の天然ガス成分や水などの不純物が含まれる。オートサーマル改質反応では酸素を供給することで水蒸気改質反応と同時に原料の酸化反応による発熱反応が同時起こるため、外部から改質器1aを加熱する必要はない。
(改質器バーナー)
図1の水蒸気改質器1に用いる改質器バーナー4は、その燃料として、原料ガスAの一部と、後述するオフガスPSA装置3から供給されるCO除去オフガスDが用いられる。改質器バーナー4により、原料ガスA及びCO除去オフガスDを空気Gと混合して燃焼させることにより、改質器1を加熱する。
水蒸気改質器1の加熱温度の下限としては特に限定されないが、原料ガスAが天然ガスの場合には700℃が好ましく、750℃がより好ましい。加熱温度の上限としては900℃が好ましく、850℃がより好ましい。上記加熱温度が上記下限未満の場合、水蒸気改質反応の効率の低下や原料ガスの炭素析出による触媒性能の低下が生じるおそれがある。また、上記加熱温度が上記上限を超える場合も、水蒸気改質反応の効率の低下や原料ガスの炭素析出による触媒性能の低下が生じるおそれがある。上記触媒としては、例えばルテニウム系やニッケル系の触媒を挙げることができる。
上記原料ガスAは、分子中に炭素と水素とを含む化合物又はその混合物から適宜選んで用いることができる。上記化合物は、酸素など他の元素を含んでもよい。また、原料ガスAの原料が液体の場合には、気化器により気化させて用いればよい。具体的には、例えばメタン、エタン、プロパン、ブタン、天然ガス、LPG(液化石油ガス)、ガソリン、ナフサ、灯油及び軽油などの炭化水素燃料、メタノール及びエタノールなどのアルコール、ジメチルエーテルなどのエーテル等を挙げることができる。これらの中でもコスト等から天然ガス及びLPGを好適に用いることができる。
<水素PSA装置>
図3の水素PSA装置2は、改質ガスB中の特定成分を圧力スウィング吸着法により吸着除去する3つの吸着塔11a,11b,11cと、この3つの吸着塔11a,11b,11cに連通する改質ガス供給ライン101、製品ガス排出ライン201、吸着塔減圧ライン103及びオフガス排出ライン104と、吸着塔減圧ライン103内に配設される吸引ポンプ12と、吸着塔減圧ライン103とオフガス排出ライン104とを接続する接続ライン105とを備える。水素PSA装置2は、吸着剤の再生時に常圧以下の減圧運転を行う真空再生方式である。
水素PSA装置2は、改質器1又は改質器1aで生成される改質ガスB中に含まれる水素以外の不純物を除去し、高純度の水素ガスを製品ガスEとして得る。水素PSA装置2により高純度の製品ガスEを得る方法について以下に説明する。
改質ガスBは、改質ガス供給ライン101を通して3つの吸着塔11a,11b,11cに供給される。
3つの吸着塔11a,11b,11cは、改質ガスB中の上記不純物を吸着する吸着剤が充填されており、製品ガス排出ライン201から高純度の製品ガスEを排出する。これらの吸着塔11a,11b,11cは、それぞれ吸着、減圧、均圧及び洗浄、昇圧、並びに吸着の一連の工程を順次切り替えて運転される。吸着塔内の圧力を減圧する工程及び製品ガスEである水素ガスで洗浄する工程により、吸着した不純物を除去し、吸着剤を再生する。その後、吸着剤を再生した吸着塔を再び昇圧し水素精製に再び供する。水素PSA装置2の運転中、いずれかの吸着塔が吸着工程となるように上記一連の工程のタイミングを各吸着塔でずらして行うことで、吸着と再生とを異なる吸着塔で同時に行うことが可能となり、連続的に製品ガスEを製造できる。
吸着塔11a,11b,11cには、改質ガスB中の主な不純物である一酸化炭素、二酸化炭素メタン及び水分を吸着可能な吸着剤が充填される。この吸着剤は各不純物をPSAにより吸着可能なものであれば特に限定されない。このような吸着剤としては、例えば一酸化炭素を特に吸着する5A型ゼオライト、二酸化炭素及びメタンを特に吸着する炭素系吸着剤、水分を特に吸着する活性アルミナ等を挙げることができる。これらの吸着剤は、単独で又は組み合わせて吸着塔11a,11b,11cに充填される。また、一酸化炭素を選択的に吸着する吸着剤(CO吸着剤)としては、多孔質シリカ、多孔質アルミナ、及びポリスチレンのうち1種以上の担体にハロゲン化銅(I)あるいはハロゲン化銅(II)を担持させた材料、この材料を還元処理した材料、又はゼオライト中のカチオンを1価の銅(Cu(I))にイオン交換した材料を主成分とするものが好ましい。これらのCO吸着剤は改質ガスB中のCOを除去するための吸着剤充填量をゼオライトなど他の吸着剤を使用する場合に比較して顕著に少なくすることができ、吸着塔サイズのコンパクト化及び水素回収率の向上に寄与する。
また、吸着塔11a,11b,11cに充填する吸着剤として、上述の一酸化炭素を選択的に吸着するCO吸着剤とともに、二酸化炭素を吸着できる吸着剤を充填する。二酸化炭素を吸着する吸着剤としては二酸化炭素吸着容量の大きい炭素系吸着剤が好適に利用できる。炭素吸着剤として、例えば活性炭やCMS(カーボンモレキュラーシーブ)が利用でき、特に、低コストの点で活性炭が好ましい。
改質ガス供給ライン101は改質ガスBを吸着塔11a,11b,11cへ導入するためのラインである。改質ガス供給ライン101と3つの吸着塔11a,11b,11cとはそれぞれ改質ガス供給弁V1a,V1b,V1cを介して接続される。
製品ガス排出ライン201は吸着塔11a,11b,11cで改質ガスBの不純物を除去して得た製品ガスEの回収ラインであり、3つの吸着塔11a,11b,11cとはそれぞれ製品ガス排出弁V2a,V2b,V2cを介して接続される。回収した製品ガスEは製品ガス用バッファタンク13に一時的に貯蔵され、適宜供給される。なお、この製品ガスEは吸着塔11a,11b,11cの洗浄ガスとしても使用される。
また、吸着塔11a,11b,11cの排出側には、それぞれ上記製品ガス排出ライン201の他に均圧ライン202及び洗浄ライン203が接続されている。均圧ライン202は、各吸着塔11a,11b,11cにそれぞれ均圧弁V4a,V4b,V4cを介して接続され、洗浄ライン203は、吸着塔11a,11b,11cにそれぞれ洗浄弁V5a,V5b,V5cを介して接続される。これらの製品ガス排出ライン201、均圧ライン202及び洗浄ライン203によって、1つの吸着塔から製品ガスEを回収しながら、他の1つの吸着塔に対して残りの吸着塔から製品ガスEを供給して、均圧及び洗浄工程を行うことができる。
吸着塔減圧ライン103及びオフガス排出ライン104は、吸着塔11a,11b,11cの再生時に吸着塔内を減圧するために用いるラインである。吸着塔減圧ライン103及びオフガス排出ライン104は、3つの吸着塔11a,11b,11cとオフガス排出弁V3a,V3b,V3cをそれぞれ介して接続される。この吸着塔減圧ライン103には吸着塔11a,11b,11cの再生時に大気圧以下まで減圧するための吸引ポンプ12の吸入側が吸引ポンプ接続弁V8を介して接続される。そして、吸着塔減圧ライン103及びオフガス排出ライン104にオフガスPSA装置3が接続される。
また、吸着塔減圧ライン103の吸引ポンプ12の排出側には大気開放ライン102が接続され、オフガス排出ライン104に接続するオフガスPSA装置3の大気開放弁V7及び減圧制御弁V9を開けることで吸着塔内が大気開放される。
オフガス排出ライン104から排出される吸着塔11a,11b,11cの特定成分等を含むオフガスCは、減圧制御弁V9及びオフガスタンク供給弁V10を介してオフガスPSA装置3へ供給される。また、吸着塔11a,11b,11cを減圧する際に吸引ポンプ12から排出されるオフガスCは、接続ライン105を介してオフガスPSA装置3へ供給される。
<オフガスPSA装置>
図1及び図2のオフガスPSA装置3は、水素PSA装置2より排出されるオフガスCを貯蔵するオフガスタンク14と、オフガスタンク14より供給されるオフガスCから二酸化炭素を除去するオフガス用吸着塔15a,15bと、オフガス用吸着塔15a,15bにより二酸化炭素が除去されたCO除去オフガスDを改質器等に供給するオフガス利用ライン303とを主に備える。また、オフガスPSA装置3は、オフガス用吸着塔15a,15bを用いて二酸化炭素が除去されたCO除去オフガスDを一時貯蔵するCO除去オフガス用バッファタンク16を備える。上記オフガス用吸着塔15a,15bには、二酸化炭素を吸着するオフガス用吸着剤及び水分を吸着する水分除去吸着剤が充填されている。
オフガスタンク14に接続するオフガス供給ライン301と2つのオフガス用吸着塔15a,15bとは、それぞれオフガス供給弁V12a,V12bを介して接続される。また、CO除去オフガス用バッファタンク16に接続するCO除去オフガス排出ライン302と2つのオフガス用吸着塔15a,15bとは、それぞれCO除去オフガス排出弁V13a,V13bを介して接続される。また、水素PSA装置2の吸着塔減圧ライン103に接続するオフガス用吸着塔減圧ライン304と2つのオフガス用吸着塔15a,15bとは、それぞれ排気ガス排出弁V14a,V14bを介して接続される。
(オフガスタンク)
オフガスタンク14は、減圧工程及び洗浄工程で水素PSA装置2より排出されるオフガスCを一時貯蔵し、オフガス供給ライン301からオフガス用吸着塔15a,15bへオフガスCを供給する。
オフガスタンク14に貯蔵されるオフガスCは、吸着塔11a,11b,11cに吸着された一酸化炭素、二酸化炭素及びメタンと、洗浄工程で流通させる製品ガスEの水素とを主に含有するガスであり、オフガスCの成分は、例えば二酸化炭素50体積%、水素40体積%、残部10体積%程度である。
(オフガス用吸着塔)
オフガス用吸着塔15a,15bは、二酸化炭素を吸着するオフガス用吸着剤及び水分を吸着する水分除去用吸着剤が充填されており、オフガスタンク14から供給されるオフガスC中の二酸化炭素の少なくとも一部と水分とを吸着により除去し、改質器の熱源又は原料ガスとして利用するCO除去オフガスDを精製する。
上記オフガス用吸着剤としては、二酸化炭素を選択的に吸着できる炭素系吸着剤が好ましく、例えば活性炭やCMS(カーボンモレキュラーシーブ)が利用できる。特に、コストの点で活性炭が好ましい。上記水分除去用吸着剤としては、例えば活性アルミナ及びシリカゲルが好適である。
オフガス用吸着塔の役割は、オフガスをリサイクルして改質器の加熱燃料や改質器の原料として利用する際に二酸化炭素を除くことで、オフガスの燃焼効率を高め、また原料として利用する際の原料への二酸化炭素混入を防止することである。ただし、オフガス用吸着塔ではオフガス中の二酸化炭素全てを除去する必要はなく、オフガス中の一部の二酸化炭素を除くだけでもリサイクルにおいて効果が期待できる。オフガス中の二酸化炭素を全て除去する場合、水素PSA装置2の1つの吸着塔に充填される二酸化炭素用吸着剤に対する1つのオフガス用吸着塔に充填されるオフガス用二酸化炭素用吸着剤の質量比の下限としては、0.6が好ましく、0.7がより好ましい。上記質量比の二酸化炭素用吸着剤をオフガス用吸着塔に充填することで、オフガス中の二酸化炭素をほぼ完全に除去することができる。
(オフガス利用ライン)
オフガス利用ライン303は、二酸化炭素が除去されたオフガスを熱源又は原料ガスとして利用する配管である。図1の水蒸気改質器1の場合、熱源としてCO除去オフガスDを改質器バーナー4へ供給する。また、図2のオートサーマル改質器1aの場合、改質器に供給するスチームの生成用燃料としてCO除去オフガスDをスチーム生成器に供給する。さらに、図2のオートサーマル改質器1aの場合、CO除去オフガスDを原料ガスとして改質器に供給してもよい。
(CO除去オフガス用バッファタンク)
CO除去オフガス用バッファタンク16は、オフガス用吸着塔15a,15bでオフガスC中から二酸化炭素が除去されたCO除去オフガスDを一時的に貯蔵する。CO除去オフガス用バッファタンク16を備えることにより、CO除去オフガスDを適時改質器バーナー4等へ供給できる。また、CO除去オフガス用バッファタンク16を備えることにより、CO除去オフガスDの流量を調整できるので、オフガス用吸着塔15a,15bの設計の自由度が大きくなり、プラントを設計する際に空き領域などを考慮してオフガス用吸着塔15a,15bを設置することができる。
[水素ガス製造方法]
次に、図1の水素製造装置を用いて、当該水素ガス製造方法について説明する。
当該水素ガス製造方法は、改質器1で炭化水素含有ガスの水蒸気改質により水素リッチな改質ガスBを生成する工程と、水素PSA装置2より改質器1で生成される改質ガスB中の水素以外のガスを除去する工程と、水素PSA装置2より排出されるオフガスCをオフガスタンク14に貯蔵する工程と、オフガス用吸着塔15a,15bを用い、上記オフガスタンク14に貯蔵したオフガスCから二酸化炭素を除去する工程と、上記水素PSA装置2の吸引ポンプ12によるオフガス用吸着塔15a,15bの減圧によってオフガス用吸着剤を再生する工程と、上記二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスDを改質器1に熱源として供給する工程とを備える。
(改質ガス生成工程)
改質ガス生成工程では、改質器1に天然ガス等の原料ガスA及び水Hを供給する。改質器1は、水蒸気改質部と変成部とを有しており、上記水蒸気改質部は、水蒸気発生器と触媒とを有している。水蒸気改質部は、水蒸気発生器から供給された水蒸気と原料ガスAとに触媒を用いて下記式(1)の水蒸気改質反応を起こさせ、水素含有ガスを得る。
+nHO → nCO+(n+m/2)H ・・・(1)
この水蒸気改質反応は吸熱反応なので、改質器バーナー4により改質器1中の雰囲気が改質温度となるよう加熱して反応を促進させる。上記水蒸気改質部の触媒としては、例えばルテニウム系やニッケル系の触媒を挙げることができる。
変成部は触媒を有しており、上記水蒸気改質部により得た水素含有ガス中の水蒸気と一酸化炭素とに触媒によって下記式(2)のシフト反応を起こさせ、水素リッチな改質ガスBを生成する。
CO+HO → CO+H ・・・(2)
上記変成部の触媒としては、例えば鉄・クロム系触媒や銅・亜鉛系触媒を挙げることができる。この変成部中の雰囲気温度、すなわちシフト反応温度としては、鉄・クロム系触媒の場合には320℃以上450℃以下が好ましく、銅・亜鉛系触媒の場合には150℃以上300℃以下が好ましい。このようにして得られた改質ガスBは、昇圧された状態で水素PSA装置2に送られる。
(水素PSA装置による不純物除去工程)
改質ガスB中の水素以外のガスを除去する不純物除去工程では、水素PSA装置2を用い、改質ガスB中の特定成分を圧力スウィング吸着法により吸着除去する。この吸着除去方法は、3つの吸着塔11a,11b,11cのうち1つの吸着塔で特定成分の吸着除去工程を行い、その間に残りの吸着塔で吸引ポンプ12での減圧による吸着剤の再生工程を行う。ここでは、表1を用いて、これらの工程について、第一の吸着塔11aで吸着除去工程を行っている間に、第二の吸着塔11b及び第三の吸着塔11cで再生工程を行う場合を例にとり具体的に説明する。
Figure 2016084272
(ステップ0)
ステップ1の直前の状態(ステップ0)は、第一の吸着塔11aに改質ガスBが供給され、不純物が除去された製品ガスEが第一の吸着塔11aの製品ガス排出弁V2aを通して製品ガス排出ライン201から回収され、第二の吸着塔11bは再生工程中の製品ガスEによる洗浄が終わった直後の負圧状態であり、第三の吸着塔11cは吸着除去工程が終わった直後の加圧状態である。
(ステップ1)
ステップ0の状態から、最初に第二の吸着塔11bと第三の吸着塔11cとの均圧が行われる。この均圧工程は、第二の吸着塔11bの均圧弁V4bと第三の吸着塔11cの均圧弁V4cとを開とし、第二の吸着塔11bと第三の吸着塔11cとを連通することにより第三の吸着塔11c内のガスを第二の吸着塔11bに移送して第二の吸着塔11bの内圧と第三の吸着塔11cの内圧とを等しくするものである。このとき、第二の吸着塔11bは昇圧され、第三の吸着塔11cは減圧される。
(ステップ2)
第三の吸着塔11cの均圧弁V4cを閉じ、第三の吸着塔11c内のガスをオフガス排出弁V3c、減圧制御弁V9及び大気開放弁V7を開いて排出することで第三の吸着塔11cを大気圧まで一次減圧する。このとき、バッファタンク接続弁V6を開けることで第二の吸着塔11bには製品ガス用バッファタンク13から製品ガスEが供給され昇圧が行われる。この第二の吸着塔11bの昇圧は、吸着圧力となるまで継続される。
(ステップ3)
減圧制御弁V9を閉じ、吸引ポンプ接続弁V8を開け、吸引ポンプ12を駆動させることで第三の吸着塔11c内のガスを吸引し、第三の吸着塔11cを大気圧からさらに減圧する。このとき、大気開放弁V7を閉じ、オフガスタンク供給弁V10を開けることで、吸引ポンプ12から排出されるオフガスCをオフガスPSA装置3のオフガスタンク14へ供給する。
(ステップ4)
第三の吸着塔11c内の圧力が十分低下した状態で、第三の吸着塔11cのオフガス排出弁V3cを閉じると共に洗浄弁V5cを開け、製品ガスEを第三の吸着塔11c内に導入して吸着剤を洗浄し、再生する。このとき、製品ガスEの導入により第三の吸着塔11c内の圧力は上昇するが、吸引ポンプ12により減圧し続けることで、第三の吸着塔11c内を大気圧以下の圧力に保つ。なお、洗浄中の吸着塔内の圧力は低いほど好ましい。
(ステップ5以降)
第三の吸着塔11cの再生工程が終了した時点で吸引ポンプ12を停止し、各弁の操作により吸着除去を行う吸着塔を第二の吸着塔11bに切り替え、第三の吸着塔11cの再生工程での昇圧を継続しつつ、第一の吸着塔11aの再生工程を始める。以降は、上記吸着除去工程及び再生工程を行う吸着塔を入れ替えながら繰り返し行う。このような吸着除去方法により、吸着と再生とを異なる吸着塔で同時に行うことが可能となり、連続的に製品ガスEを製造できる。
(オフガス貯蔵工程)
オフガス貯蔵工程では、水素PSA装置2の減圧工程及び洗浄工程で排出されるオフガスCをオフガスタンク14内に一時貯蔵する。
上述のように、水素PSA装置2の減圧工程時及び洗浄工程時、大気開放弁V7を閉とし、オフガスタンク供給弁V10を開とすることにより、吸引ポンプ12から排出されるオフガスCをオフガスタンク14内へ供給する。減圧工程時のオフガスCには、吸着塔11a,11b,11cに吸着された一酸化炭素、二酸化炭素、メタン及び水分が主に含まれる。一方、洗浄工程では製品ガスEを吸着塔11a,11b,11cに流通させるので、洗浄工程時のオフガスCには水素が多く含まれる。
(オフガス用PSA装置による二酸化炭素除去工程)
オフガスPSA装置3は、2つのオフガス用吸着塔15a,15bを備えており、一方のオフガス用吸着塔で二酸化炭素除去工程を行いつつ、他方のオフガス用吸着塔で吸着剤再生工程を行う。表1に示すように第一のオフガス用吸着塔15aで吸着除去工程を行っている間に、第二のオフガス用吸着塔15bで再生工程を行う場合を例にとり具体的に説明する。
(ステップ0)
ステップ1の直前の状態(ステップ0)は、排気ガス排出弁V14aを閉とすることで、第一のオフガス用吸着塔15aにオフガスCが供給され、CO除去オフガスが第一のオフガス用吸着塔15aのCO除去オフガス排出弁V13aを通して回収され、CO除去オフガス用バッファタンク16に貯蔵される。この時、第二のオフガス用吸着塔15bは吸着工程が終わった後の状態である。
(ステップ1及びステップ2)
第一のオフガス用吸着塔15aでは、第一のオフガス用吸着塔15aの排気ガス排出弁V14a、第二のオフガス用吸着塔15bのオフガス供給弁V12b及びCO除去オフガス排出弁V13bを閉とし、オフガスタンク排出弁V11、第一のオフガス用吸着塔15aのオフガス供給弁V12a及びCO除去オフガス排出弁V13aを開とする。これにより、オフガスタンク14内に貯蔵したオフガスCをオフガス供給ライン301から第一のオフガス用吸着塔15aへ供給することで二酸化炭素を吸着除去し、CO除去オフガスDがCO除去オフガス排出ライン302からCO除去オフガス用バッファタンク16内へ供給され、CO除去オフガス用バッファタンク16で一時貯蔵される。一方、水素PSA装置本体において停止状態にあり作動していない吸引ポンプ12を利用して、第二のオフガス用吸着塔15bを減圧再生する。この再生工程は、オフガス供給弁V12b及びCO除去オフガス排出弁V13bを閉とし、水素PSA本体の吸引ポンプ12を稼働させることで、第二のオフガス用吸着塔15bに吸着された二酸化炭素が脱離され、吸着塔が再生される。このとき、吸引ポンプ12によって第二のオフガス用吸着塔15b内から吸引されたガスは、大気開放弁V7を開けることで大気開放ライン102から排気ガスFとして排出される。二酸化炭素は減圧工程のみで脱離の進行が可能であり、オフガス用吸着剤再生中のオフガス用吸着塔内の圧力は低いほど好ましい。このように吸引ポンプ12を利用することで、吸引ポンプ12の遊休時間を排除し、吸引ポンプ12の利用効率を向上させることができる。
(ステップ3及びステップ4以降)
水素PSA装置本体の再生工程が開始する時点で、第二のオフガス用吸着塔15bを再生工程から吸着工程に切り替える。排気ガス排出弁V14bを閉とし、オフガス供給弁V12b及びCO除去オフガス排出弁V13bを開とし、第二のオフガス用吸着塔15bにオフガスを供給させることで吸着工程に切り替わる。一方、吸着工程を終えた第一のオフガス用吸着塔15aは、オフガス供給弁V12a及びCO除去オフガス排出弁V13aを閉とすることで保持状態となる。水素PSA装置本体の吸引ポンプ12の稼働終了後、ステップ1及びステップ2と同様のバルブ操作を行い、第一のオフガス用吸着塔15aの再生を行う。以降は、上記吸着除去工程及び再生工程を行う吸着塔を入れ替えながら繰り返し行う。このような吸着除去方法により、吸着と再生とを異なる吸着塔で同時に行うことが可能となり、連続的にCO除去オフガスDを製造できる。
なお、水素PSA装置2から排出されるオフガスCはオフガスタンク14で一時貯蔵されるため、貯蔵時間が長いとオフガスタンク14から供給されるオフガスCの温度はオフガスタンク14周囲の外気温に近い温度となる。外気温が常温の場合、オフガスタンク14内のオフガスCを温度制御せずにオフガス用吸着塔15a,15bへ供給しても、二酸化炭素用吸着剤の二酸化炭素の吸着容量は確保される。
二酸化炭素除去工程におけるオフガス用吸着塔15a,15b内のオフガスCの圧力の下限としては、0.05MPaが好ましく、0.08MPaがより好ましい。オフガス用吸着塔15a,15b内のオフガスCの圧力が上記下限未満の場合、吸着効率が低下し、吸着剤量が増加するおそれがある。一方、オフガス用吸着塔15a,15b内のオフガスCの圧力が高すぎると、オフガスCを昇圧するためのコンプレッサー等が必要となり、設備コストが増加する。また、吸着時のオフガスCの温度が低いほど吸着剤の吸着容量が増加する。従って、二酸化炭素除去工程は常温常圧下で行うことが好ましい。
各オフガス用吸着塔15a,15bにおいて、上述のようにそれぞれ二酸化炭素除去工程及び吸着剤再生工程を交互に繰り返し行う。1回の二酸化炭素除去工程で供給するオフガスCの流量の下限としては、水素PSA装置2の1回の吸着除去工程で排出されるオフガスCの排出量を1とした場合、0.8が好ましく、0.9がより好ましい。一方、上記オフガスCの流量の上限としては、水素PSA装置2の1回の吸着除去工程で排出されるオフガスCの排出量を1とした場合、1.2が好ましく、1.1がより好ましい。上記オフガスCの流量が上記下限未満の場合、CO除去オフガスの排出量が少なくなり、原料ガスの供給量に対する製品ガスの生産効率が十分に向上しないおそれがある。逆に、上記オフガスCの流量が上記上限を超える場合、オフガスPSA装置3が大型化すると共に、運転制御が困難となるおそれがある。1回の二酸化炭素除去工程で供給するオフガスCの流量を水素PSA装置2の1回の吸着除去工程で排出されるオフガスCの排出量と等しくすることにより、容易な運転制御で、原料ガスの供給量に対する製品ガスの生産効率の顕著な向上効果が得られる。
(CO除去オフガス利用工程)
CO除去オフガス利用工程では、改質器1の熱源として、CO除去オフガス用バッファタンク16に貯蔵したCO除去オフガスDをオフガス利用ライン303から改質器1へ供給する。具体的には、例えばCO除去オフガスDが、改質器バーナー4の燃焼用の燃料として供給される。CO除去オフガスDは、二酸化炭素の除去により燃焼効率が高いので、改質器バーナー4の燃焼用の燃料のように直接燃焼させる用途として好適に用いることができる。
<利点>
当該水素ガス製造方法によれば、二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスDを改質器1の熱源として用いるので、改質器1の熱源として用いる原料ガスAの供給量を低減でき、原料ガスAの供給量に対する製品ガスEの生産効率を向上できる。また、当該水素ガス製造方法は、二酸化炭素除去工程で用いるオフガス用吸着塔15a,15bに二酸化炭素を選択的に吸着するオフガス用吸着剤を充填している。これにより、水素PSA装置2より排出されるオフガスCから不活性ガスである二酸化炭素を効率よく除去でき、改質器1の熱源として利用するオフガスの燃焼効率を向上できる。
<その他の実施形態>
本発明の水素ガス製造方法及び水素製造装置は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば上記実施形態では、CO除去オフガスを一時貯蔵するCO除去オフガス用バッファタンク16を備えることとしたが、CO除去オフガス用バッファタンク16は必須の構成要素ではなく、オフガス用吸着塔から排出するCO除去オフガスを直接改質器へ供給してもよい。この場合でも、二酸化炭素除去工程において、オフガスタンクからオフガス用吸着塔へ供給するオフガスの圧力や流量を調整することにより、CO除去オフガスの供給量及び供給圧力を制御することができる。
また、上記実施形態では、水蒸気改質及びオートサーマル改質による改質器を備えるものについて説明したが、部分酸化改質による改質器を用いた水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置も本発明の意図する範囲内である。
また、上記実施形態では、オフガスPSA装置が2つのオフガス用吸着塔を備える構成について説明したが、オフガスPSA装置が1つ又は3つ以上のオフガス用吸着塔を備える構成としてもよい。オフガスPSA装置が備えるオフガス用吸着塔が1つのみの場合、CO除去オフガスを連続的にCO除去オフガス用バッファタンクへ供給することができないが、例えばCO除去オフガス用バッファタンクの貯蔵容量を増加させることにより、CO除去オフガスを連続的に改質器へ供給することができる。また、オフガスPSA装置が3つ以上のオフガス用吸着塔を備える場合、改質器の熱源として用いる原料ガス等の供給量をより低減でき、水素回収率をさらに向上できる。
また、上記実施形態では、オフガス用吸着塔の減圧に水素PSA装置の吸引ポンプを利用することとしたが、水素PSA装置の吸引ポンプとは別にオフガスPSA装置にオフガス吸引ポンプを設けてもよい。オフガスPSA装置にオフガス吸引ポンプを設けることにより、オフガスPSA装置が水素PSA装置の動作と独立して動作でき、二酸化炭素除去の動作の制御がし易くなる。
また、上記実施形態では、炭化水素含有ガスの水蒸気改質による水素ガス製造方法について説明したが、炭化水素含有ガスの部分酸化改質又はオートサーマル改質を用いた水素ガス製造方法も本発明の意図する範囲内である。部分酸化改質又はオートサーマル改質を用いる場合、オフガスを原料ガスとして改質器に供給することができる。この時、コンプレッサーを用いてオフガスを昇圧して供給するとよい。また、オートサーマル改質を用いる場合、オフガス利用工程において、オフガスを改質器に供給するスチームの生成用燃料として利用することもできる。
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
[実施例1]
オフガス中のCOを除去するオフガスPSA装置3を備える図1に示す水素製造装置を実施例1とした。
[比較例1]
従来の構成として、オフガス中のCOを除去せずに改質器1の熱源として利用する図4の水素製造装置を比較例1とした。
<燃焼効率の算出>
上記実施例1及び比較例1について、シミュレーションによりそれぞれの燃焼効率を比較した。
改質器バーナー4の燃料として、オフガスC又はCO除去オフガスDと原料ガスAとを用いるものとした場合、オフガスの燃焼効率が向上すると、改質器バーナー4の燃料として供給する原料ガスAの供給量が低減する。従って、上記燃焼効率として、改質器バーナー4の燃料として必要な原料ガスAの量を定常プロセスシミュレーター(invensys社の「PRO/II ver9.1」)を用いて算出した。
シミュレーション条件として、原料ガスAとして天然ガス(メタンガス)を用い、改質器1の改質温度800℃、シフト反応温度250℃、水素PSA装置2の吸着塔11a,11b,11cの水素回収率80%、オフガスPSA装置3のオフガス用吸着塔15a,15bの二酸化炭素回収率80%、改質器バーナー4の燃焼温度1100℃とした。なお、改質器バーナー4の燃料として、製品ガスEを1kmol/h得るために必要な天然ガスの供給量を算出した。
上記シミュレーションの結果、製品ガスEを1kmol/h得るために改質器バーナー4の燃料として必要な天然ガスの供給量は、実施例1では0.0275kmol/h、比較例1では0.0305kmol/hであった。
この結果より、実施例1は比較例1に対して、改質器バーナー4の燃料として必要な天然ガスの供給量を9.84%低減できることがわかった。従って、従来の水素製造装置に対して、オフガスPSA装置3を備えることによりオフガスの燃焼効率を大幅に向上できるといえる。
以上説明したように、当該水素ガス製造方法及び水素製造装置は、改質器の熱源等として利用するオフガスの燃焼効率を向上させ、製品ガスに対する原料ガス等の供給量を低減できるので、高純度の水素を製造する水素製造装置等として好適に用いられる。
1、1a 改質器
2 水素PSA装置
3 オフガスPSA装置
4 改質器バーナー
11a、11b、11c 吸着塔
12 吸引ポンプ
13 製品ガス用バッファタンク
14 オフガスタンク
15a、15b オフガス用吸着塔
16 CO除去オフガス用バッファタンク
101 改質ガス供給ライン
102 大気開放ライン
103 吸着塔減圧ライン
104 オフガス排出ライン
105 接続ライン
201 製品ガス排出ライン
202 均圧ライン
203 洗浄ライン
301 オフガス供給ライン
302 CO除去オフガス排出ライン
303 オフガス利用ライン
304 オフガス用吸着塔減圧ライン
V1a、V1b、V1c 改質ガス供給弁
V2a、V2b、V2c 製品ガス排出弁
V3a、V3b、V3c オフガス排出弁
V4a、V4b、V4c 均圧弁
V5a、V5b、V5c 洗浄弁
V6 バッファタンク接続弁
V7 大気開放弁
V8 吸引ポンプ接続弁
V9 減圧制御弁
V10 オフガスタンク供給弁
V11 オフガスタンク排出弁
V12a、V12b オフガス供給弁
V13a、V13b CO除去オフガス排出弁
V14a、V14b 排気ガス排出弁
A 原料ガス
B 改質ガス
C オフガス
D CO除去オフガス
E 製品ガス
F 排気ガス
G 空気
H 水
I スチーム
J 酸素

Claims (16)

  1. 炭化水素含有ガスの水蒸気改質、部分酸化改質又はオートサーマル改質により水素リッチな改質ガスを生成する改質器と、この改質ガス中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置とを用い、高純度水素ガスを製造する水素ガス製造方法であって、
    水素PSA装置より排出されるオフガスからオフガス用吸着塔を用い、二酸化炭素を除去する工程と、
    上記二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスを熱源又は原料ガスとして利用する工程とを備えることを特徴とする水素ガス製造方法。
  2. 上記炭化水素含有ガスの改質が水蒸気改質であり、
    上記オフガス利用工程において、オフガスを改質器の加熱燃料として供給する請求項1に記載の水素ガス製造方法。
  3. 上記炭化水素含有ガスの改質がオートサーマル改質であり、
    上記オフガス利用工程において、オフガスを改質器に供給するスチームの生成用燃料として利用する請求項1に記載の水素ガス製造方法。
  4. 上記炭化水素含有ガスの改質が部分酸化改質又はオートサーマル改質であり、
    上記オフガス利用工程において、オフガスを原料ガスとして改質器に供給する請求項1に記載の水素ガス製造方法。
  5. 上記オフガス用吸着塔に、二酸化炭素を選択的に吸着するオフガス用吸着剤として活性炭が充填されている請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の水素ガス製造方法。
  6. 上記オフガス用吸着塔に、水分除去用吸着剤がさらに充填されている請求項5に記載の水素ガス製造方法。
  7. 上記水素PSA装置が、一酸化炭素を選択的に吸着する吸着剤が充填された吸着塔を有する請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の水素ガス製造方法。
  8. 上記一酸化炭素を選択的に吸着する吸着剤が、多孔質シリカ、多孔質アルミナ、及びポリスチレンのうち1種以上の担体にハロゲン化銅(I)あるいはハロゲン化銅(II)を担持させた材料、この材料を還元処理した材料、又はゼオライト中のカチオンを1価の銅(Cu(I))にイオン交換した材料を主成分とする請求項7に記載の水素ガス製造方法。
  9. 水素PSA装置が吸着剤の再生時に常圧以下の減圧運転を行う、真空再生方式の水素PSA装置である請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の水素ガス製造方法。
  10. 上記水素PSA装置が、上記水素PSA装置の吸着塔を大気圧以下まで減圧する吸引ポンプを有する請求項9に記載の水素ガス製造方法。
  11. 上記水素PSA装置の吸引ポンプによる上記オフガス用吸着塔の減圧によって上記オフガス用吸着剤を再生する工程をさらに備える請求項10に記載の水素ガス製造方法。
  12. 上記オフガス用吸着剤再生工程が、水素PSA装置で吸引ポンプが作動していないときに行われる請求項11に記載の水素ガス製造方法。
  13. 複数の上記オフガス用吸着塔を用い、一のオフガス用吸着塔で上記二酸化炭素除去工程を行いつつ、他のオフガス用吸着塔で上記吸着剤再生工程を行う請求項11又は請求項12に記載の水素ガス製造方法。
  14. 上記二酸化炭素除去工程において、常温常圧下でオフガスの二酸化炭素の除去を行う請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の水素ガス製造方法。
  15. 上記二酸化炭素除去工程で二酸化炭素を除去したオフガスを一時貯蔵する工程をさらに備える請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の水素ガス製造方法。
  16. 炭化水素含有ガスの水蒸気改質、部分酸化改質又はオートサーマル改質により水素リッチな改質ガスを生成する改質器と、この改質ガス中の水素以外のガスを除去する水素PSA装置とを備える水素ガス製造装置であって、
    水素PSA装置より排出されるオフガスから二酸化炭素を除去するオフガス用吸着塔と、
    上記オフガス用吸着塔により二酸化炭素が除去されたオフガスを熱源又は原料ガスとして利用するオフガス利用ラインとを備えることを特徴とする水素ガス製造装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017218363A (ja) * 2016-06-10 2017-12-14 株式会社神戸製鋼所 水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置
JP2019137589A (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 東京瓦斯株式会社 水素製造装置
WO2020100453A1 (ja) * 2018-11-12 2020-05-22 東京瓦斯株式会社 水素製造装置
WO2020100454A1 (ja) * 2018-11-12 2020-05-22 東京瓦斯株式会社 水素製造装置
JP2021058856A (ja) * 2019-10-08 2021-04-15 Jfeスチール株式会社 ガス分離回収設備およびガス分離回収方法
WO2022167985A1 (en) * 2021-02-04 2022-08-11 Indian Institute Of Science A system for separating hydrogen from a feed gas
KR102610150B1 (ko) * 2023-06-23 2023-12-05 주식회사 에코시스텍 유기성 폐자원을 이용한 수소 가스 생산 시스템

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112169762B (zh) * 2020-10-27 2021-05-04 山东津挚环保科技有限公司 一种变压吸附提氢吸附剂、制备方法及应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01313301A (ja) * 1988-05-04 1989-12-18 Boc Group Inc:The 水素及び二酸化炭素の連産
JP2008063152A (ja) * 2006-09-04 2008-03-21 Kobe Steel Ltd 高純度水素ガス製造用psa装置
JP2010111562A (ja) * 2008-03-06 2010-05-20 Kobe Steel Ltd 高純度水素ガス製造用psa装置
US20100287981A1 (en) * 2009-05-18 2010-11-18 American Air Liquide, Inc. Processes For The Recovery Of High Purity Hydrogen And High Purity Carbon Dioxide
US20130017146A1 (en) * 2010-03-30 2013-01-17 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Method for producing hydrogen with reduced co2 emissions
JP2013203648A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Tokyo Gas Co Ltd Co2ガスからのco低減方法及びシステム

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01313301A (ja) * 1988-05-04 1989-12-18 Boc Group Inc:The 水素及び二酸化炭素の連産
JP2008063152A (ja) * 2006-09-04 2008-03-21 Kobe Steel Ltd 高純度水素ガス製造用psa装置
JP2010111562A (ja) * 2008-03-06 2010-05-20 Kobe Steel Ltd 高純度水素ガス製造用psa装置
US20100287981A1 (en) * 2009-05-18 2010-11-18 American Air Liquide, Inc. Processes For The Recovery Of High Purity Hydrogen And High Purity Carbon Dioxide
US20130017146A1 (en) * 2010-03-30 2013-01-17 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Method for producing hydrogen with reduced co2 emissions
JP2013203648A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Tokyo Gas Co Ltd Co2ガスからのco低減方法及びシステム

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017218363A (ja) * 2016-06-10 2017-12-14 株式会社神戸製鋼所 水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置
JP2019137589A (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 東京瓦斯株式会社 水素製造装置
WO2020100453A1 (ja) * 2018-11-12 2020-05-22 東京瓦斯株式会社 水素製造装置
WO2020100454A1 (ja) * 2018-11-12 2020-05-22 東京瓦斯株式会社 水素製造装置
JP2020079168A (ja) * 2018-11-12 2020-05-28 東京瓦斯株式会社 水素製造装置
JP2020079169A (ja) * 2018-11-12 2020-05-28 東京瓦斯株式会社 水素製造装置
JP2021058856A (ja) * 2019-10-08 2021-04-15 Jfeスチール株式会社 ガス分離回収設備およびガス分離回収方法
JP7147727B2 (ja) 2019-10-08 2022-10-05 Jfeスチール株式会社 ガス分離回収方法
WO2022167985A1 (en) * 2021-02-04 2022-08-11 Indian Institute Of Science A system for separating hydrogen from a feed gas
KR102610150B1 (ko) * 2023-06-23 2023-12-05 주식회사 에코시스텍 유기성 폐자원을 이용한 수소 가스 생산 시스템

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