JP2016063049A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
9 基板
10 制御部
12 チャンバ
14 基板保持部
15 基板回転機構
81 環状開口
91 上面
92 下面
100 拡大密閉空間
120 チャンバ空間
121 チャンバ本体
122 チャンバ蓋部
123 トッププレート
131 チャンバ開閉機構
141 基板支持部
142 基板押さえ部
160 側方空間
161 カップ部
180 加熱ガスノズル
181 上部ノズル
191a,192a 排出口
194 外側排気部
198 内側排気部
220 圧力調整バルブ
226 蓋側壁部
J1 中心軸
W1 第1開放幅
W2 第2開放幅
Claims (8)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
密閉されたチャンバ空間を形成するチャンバと、
前記チャンバの上部または下部を含むチャンバ可動部を他の部位に対して相対的に昇降するチャンバ開閉機構と、
前記チャンバ内に配置され、水平状態で基板を保持する基板保持部と、
上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、
前記基板の上面に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記基板の下面に向けて加熱したガスを噴出する加熱ガスノズルと、
前記チャンバ空間に対して開口する排出口から前記チャンバ空間内のガスを排出する内側排気部と、
前記チャンバ可動部の移動により前記チャンバ可動部と前記他の部位との間に形成される環状開口の径方向外側に位置するカップ部と、
前記環状開口が形成された状態の前記チャンバと、前記カップ部とにより密閉された空間である拡大密閉空間が形成され、前記拡大密閉空間において前記環状開口よりも外側の側方空間に対して開口する排出口から前記側方空間内のガスを排出する外側排気部と、
前記拡大密閉空間が形成される際に、前記チャンバ開閉機構を制御することにより、前記上下方向における前記環状開口の幅を第1開放幅、または、前記第1開放幅よりも狭い第2開放幅に選択的に設定する制御部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記環状開口の幅が前記第1開放幅に設定された状態において、前記基板が径方向において前記環状開口と対向し、
前記環状開口の幅が前記第2開放幅に設定された状態において、前記基板が径方向において前記チャンバの側壁部と対向することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記上面に処理液が供給された前記基板の前記下面に向けて前記加熱したガスが噴出されている状態において、前記環状開口の幅が前記第2開放幅に設定されることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記チャンバが、
チャンバ本体と、
環状の蓋側壁部を有し、前記蓋側壁部の下端が前記チャンバ本体と接することにより前記チャンバ空間を形成するチャンバ蓋部と、
を備え、
前記チャンバ可動部が、前記チャンバ蓋部を含み、
前記環状開口の幅が前記第2開放幅に設定された状態において、前記蓋側壁部の前記下端が前記基板の前記上面よりも下方に位置することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項4に記載の基板処理装置であって、
前記環状開口の幅が前記第1開放幅に設定された状態において、前記基板の上方にて前記チャンバ蓋部から吊り下がるように保持されるトッププレートをさらに備え、
前記基板保持部が、
前記基板を下側から支持する基板支持部と、
前記トッププレートに設けられた基板押さえ部と、
を備え、
前記環状開口の幅が前記第2開放幅に設定された状態において、前記チャンバ蓋部による前記トッププレートの保持が解除され、前記基板押さえ部が、前記基板支持部に支持された前記基板の外縁部を上側から押さえることを特徴とする基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理装置であって、
密閉されたチャンバ空間を形成するチャンバと、
前記チャンバ内に配置され、水平状態で基板を保持する基板保持部と、
上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、
前記基板の上面に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記基板の下面に向けて加熱したガスを噴出する加熱ガスノズルと、
前記チャンバ空間に対して開口する排出口から前記チャンバ空間内のガスを排出する排気部と、
前記チャンバの外縁部に設けられ、前記チャンバ空間の圧力を調整する複数の圧力調整バルブと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置であって、
前記複数の圧力調整バルブが、前記チャンバの前記外縁部おいて周方向におよそ等間隔にて設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6または7に記載の基板処理装置であって、
前記複数の圧力調整バルブが、前記基板よりも上方にて前記チャンバ空間に接続することを特徴とする基板処理装置。
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