JP2016034938A - シクロドデカノンの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】最終生成物のＣＤＯＮ中のＣＤＥＮの割合が低減されかつＣＤＯＮの収率が高められるＣＤＯＮの新規製造方法を提供すること【解決手段】ａ．シクロドデセン（ＣＤＥＮ）をエポキシシクロドデカン（ＣＤＡＮエポキシド）にエポキシ化する工程、及びｂ．ＣＤＥＮを含む混合物を得ながら、ＣＤＡＮエポキシドをシクロドデカノン（ＣＤＯＮ）へ転位する工程を有する、反応経路Ｉを用いてＣＤＯＮを製造する方法において、ＣＤＥＮをＣＤＯＮ含有混合物から分離し、ＣＤＡＮエポキシドへのエポキシ化（工程ａ）に供給することを特徴とする、方法。【選択図】図１

Description

本発明は、シクロドデカノンの製造方法、ラウリンラクタムの製造方法並びにポリアミド１２の製造方法に関する。
シクロドデカノン（ＣＤＯＮ）は、ラウリンラクタムの合成のために使用される。このラクタムはまたポリアミド１２の製造のために適している。
ＣＤＯＮの製造は、シクロドデカトリエン（ＣＤＴ）から出発して行うことができる。まず、シクロドデカトリエン（ＣＤＴ）からシクロドデセン（ＣＤＥＮ）への選択的水素化を行うことができる。引き続き、ＣＤＥＮからエポキシシクロドデカン（ＣＤＡＮエポキシド）へのエポキシ化及びＣＤＡＮエポキシドからシクロドデカノン（ＣＤＯＮ）への転位が行われる。ＣＤＥＮから出発してＣＤＯＮ合成は次の工程を有する：
ａ．シクロドデセン（ＣＤＥＮ）からのエポキシシクロドデカン（ＣＤＡＮエポキシド）へのエポキシ化、及び
ｂ．ＣＤＡＮエポキシドから、ＣＤＥＮを含む混合物を得ながらのＣＤＯＮへの転位。
この転位から得られる混合物（ＣＤＯＮ含有混合物）は、従って少なくともＣＤＯＮ及びＣＤＥＮを含む。
このＣＤＯＮの製造方法の場合には、大量のＣＤＥＮが生じることがあるという問題が生じる。この問題は、場合により使用される触媒の劣化によって重大化する。ＣＤＥＮの生じる量は、転位から結果として生じるＣＤＯＮ含有混合物を基準にして、５質量％を越えることがある。
この高い割合のＣＤＥＮは、ラウリンラクタムの製造のような引き続く反応にとって不利な影響を及ぼしかねない。更に、低い生成物収率はあまり経済的ではない。
その点で、本発明の課題は、最終生成物のＣＤＯＮ中のＣＤＥＮの割合が低減されかつＣＤＯＮの収率が高められるＣＤＯＮの新規製造方法を提供する点にある。更に、この製造方法は全体でより経済的であるのが好ましい。
従って、以後、反応経路Ｉとして表される、冒頭に記載した工程ａ及びｂを有するＣＤＯＮの新規製造方法が見出された。ＣＤＥＮはＣＤＯＮ含有混合物から分離され、かつＣＤＡＮエポキシドへのエポキシ化（工程ａ）に供給される。
この本発明によるＣＤＯＮ法は、連続的に又は不連続的に実施することができる。
この転位は、好ましくは、０．９ｂａｒの最大水素分圧で実施される。好ましくは、この水素分圧は０〜０．９ｂａｒであり、特に好ましくは０〜０．５ｂａｒである。本発明による方法は、水素なしでも実施することができるが、不飽和副生成物を低減するために、少なくともわずかな水素割合が存在するのが好ましい。この水素割合は、０．０５〜０．５ｂａｒ、好ましくは０．１〜０．４ｂａｒを示すことができる。
上述の圧力表示は、この系中での水素の分圧に関する。通常では、溶剤、空気又は不活性ガス、例えば窒素又はアルゴンを含めた反応混合物の成分は、この系の他のガス状の成分である。
本発明によるＣＤＯＮ法の意味範囲で転位とは、特に、生じたＣＤＯＮ及びＣＤＯＬの全質量を基準として少なくとも９０質量％のＣＤＯＮが得られる反応であると解釈される。
好ましくは、このＣＤＥＮはエポキシ化（工程ａ）のためにＣＤＴから得られる。このＣＤＴは、また１，３−ブタジエンから得ることができる。ＣＤＴの選択的水素化は、気相中で低い分圧の水素及びＰｄ含有触媒を用いて行うことができる（ＥＰ１４５７４７６）。この工程から、通常では、ＣＤＥＮ中の５〜１５質量％のＣＤＡＮ（シクロドデカン）が生じる。
工程ａによるＣＤＥＮのエポキシ化は、過酸化水素を用いて、相間移動触媒及び金属塩によって、酸性ｐＨで実施することができる。ＣＤＥＮ中に含まれるＣＤＡＮは、相分離促進剤として利用される（ＥＰ１４１１０５０、ＥＰ１４１１０５１）。この反応の後に、ＣＤＡＮエポキシドが得られ、これは更にＣＤＡＮ、未反応のＣＤＥＮ又はその両方を有していてもよい。
ＣＤＡＮエポキシドに反応されていないＣＤＥＮ（未反応のＣＤＥＮ）は、転位（工程ｂ）の前で、少なくとも部分的に分離することができる。
エポキシ化の後に存在するＣＤＡＮは、少なくとも部分的に分離され、それによりＣＤＡＮはこの循環によって濃縮されない。好ましくは、ＣＤＡＮの全質量を基準として、ＣＤＡＮの少なくとも５０質量％、好ましくは９０質量％、特に好ましくは９５質量％、特に全く好ましくは９８質量％、殊に１００質量％が分離される。このＣＤＡＮの分離されるべき割合は、特に、ＣＤＥＮが存在しないか又は僅かに存在する場合に、少なくとも９０質量％であることができる。ＣＤＥＮの割合がＣＤＡＮエポキシド、ＣＤＡＮ及びＣＤＥＮの混合物中で５質量％未満である場合に、少量のＣＤＥＮが存在する。
エポキシ化の後に未反応のＣＤＥＮが存在する場合には、ＣＤＥＮを、ＣＤＡＮとの混合物として少なくとも部分的にエポキシ化に供給するか又は分離せずに転位（工程ｂ）に供給することができる。引き続き、分離されたＣＤＡＮはＣＤＯＮに酸化され、この場合、少なくとも部分的にシクロドデカノール（ＣＤＯＬ）が生じることができる。このＣＤＯＬは、その後、ＣＤＯＮへ水素化することができる。
工程ｂによる転位は、好ましくは、貴金属含有触媒（触媒系）の存在で行われ、この触媒は好ましくは、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム又はその両方を含有する。この反応工程中でＣＤＯＮが形成され、これは更にＣＤＡＮ、ＣＤＥＮ、ＣＤＯＬ又はこれらの混合物を副生成物として含んでいてもよい（ＣＤＯＮ含有混合物）。同様に、ＣＤＯＮと比べてより高い沸点を有する他の副生成物（高沸点物）も含まれていてもよい。好ましくは、この転位は、触媒としてアルカリ金属水酸化物の存在で実施されない。
この触媒系の貴金属は、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白金から選択され、この場合、ルテニウム、パラジウム及び白金が好ましく、パラジウムが特に好ましい。この貴金属は、粉末（非担持）又は担持されて存在することができる。粉末の形の場合、例えば単体貴金属又はその酸化物が適している。
更に、少なくとも１種の金属酸化物が触媒系の他の成分として含まれていてもよい。この触媒系の金属酸化物は、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム又はこれらの混合物を有するか、又はここに挙げた酸化物の少なくとも１種からなることができる。これには、二酸化チタン又は二酸化ジルコニウムでドープ又は被覆された物質、例えば酸化アルミニウム又は二酸化ケイ素も含まれる。
この触媒系の金属酸化物は、この触媒系の貴金属用の担体として機能することができる。貴金属は、選択的に、例えば酸化アルミニウム、二酸化ケイ素又は活性炭から選択される択一的な担体上に設けることができる。二酸化チタン又は二酸化ジルコニウムは好ましい担体である。
この触媒の金属酸化物並びに択一的な担体は、粉末として又は成形体として存在していてもよい。適切な成形体は、球、押出物、タブレット、顆粒及びペレットである。貴金属の担体が成形体として存在することが好ましい。触媒系の金属酸化物が担体として機能しない場合に成形体として存在することも同様に好ましい。
この触媒系は、従って、相互に無関係に次の系の形態の一つとして存在することができる：
Ｉ） 貴金属は担持されておらず；触媒系の金属酸化物としては、少なくとも二酸化チタン又は二酸化ジルコニウムが含まれている；
ＩＩ） 貴金属は担持されていて、この担体は、二酸化チタン及び／又は二酸化ジルコニウムを含まないか又はこれらからなっていない。この系は、更に、二酸化チタン又は二酸化ジルコニウムから選択される少なくとも１種の金属酸化物を含む；
ＩＩＩ） 貴金属は、二酸化チタン及びに酸化ジルコニウムから選択される金属酸化物に担持されていて、その際、好ましくは二酸化チタンは含まれていない。
系の形態ＩＩ及びＩＩＩが好ましく、系の形態ＩＩＩが特に好ましい。
この触媒系の金属酸化物として適切な二酸化チタンは、硫酸塩法、塩化物法又は四塩化チタンの火炎加水分解（熱分解法）によって得ることができる。全ての方法は、当業者に公知である。適切な変態はルチル及びアナターゼであり、この場合、使用される二酸化チタンは上記変態の混合物を含むこともできる。
硫酸塩法又は塩化物法により製造された二酸化チタンは水中で酸性に反応することができ、これらの化合物は通常では３以下のｐＨ値を有する（酸性二酸化チタン）。同様に、酸性二酸化チタンは、二酸化チタン担体の質量を基準として、大抵は５質量％より多くの、硫酸チタニル及び水酸化チタニルのような物質を有する。酸性二酸化チタンを基礎とする二酸化チタンは、Aerolyst 7750（Evonik, ドイツ国）として市場で入手可能である。酸性二酸化チタンは、この方法のためにはあまり好ましくない。換言すると、酸性でない二酸化チタンを使用するのが好ましい。好ましい適切な非酸性二酸化チタンは、水中で５以上のｐＨ値を示す。
特に好ましい二酸化チタンは、例えばDE-A-830786に記載されているような火炎熱分解により得られる。
適切な二酸化チタンは、Evonik社（ドイツ国）のAeroxid P25二酸化チタン（粉末）又はAerolyst 7711（成形体）の商品名で並びにSachtleben社（ドイツ国）のHombikat M234（成形体）の商品名で入手可能である。
二酸化ジルコニウム（酸化ジルコニウム（ＩＶ））は、例えば水酸化ジルコニウムから得られ、この場合、２００℃を越えて、例えば３５０℃でか焼される。この二酸化ジルコニウムは、例えば酸化イットリウムでドープされていてもよい。
適切な二酸化ジルコニウムは、単斜晶であるか又は正方晶である。これらの変態の混合形も可能である。
この触媒系の金属酸化物は、０．５〜２ｇ／ｃｍ3の平均嵩密度を示すことができる。
この触媒系の金属酸化物は、少なくとも５ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を示すことができる。
貴金属と担体との合計の質量を基準として、貴金属の割合は、０．０１〜５質量％、好ましくは０．０５〜１．２質量％、好ましくは０．１〜０．６質量％であることができる。
貴金属は担体上に又は担体中に分配されていてもよい。
ＣＤＡＮエポキシドの物質量を基準とした貴金属の物質量の割合は、０．００００１〜０．１、好ましくは０．０００１〜０．０１であることができる。
ＣＤＡＮエポキシドの物質量を基準とした触媒の金属酸化物の物質量の割合は、０．０１〜１００，好ましくは０．０１〜１０であることができる。
ＣＤＥＮは、反応混合物から分離され、エポキシ化に供給される。ＣＤＥＮは、反応混合物から分離され、エポキシ化に供給される。ＣＤＡＮが含まれている場合に、これは、通常ではＣＤＥＮとの混合物としてエポキシ化に供給される。
ＣＤＯＮ及び、ＣＤＯＬを含めた高沸点物を有する残りの混合物を、不飽和の副生成物の除去のために、水素及び触媒の存在で水素化することができる。引き続き、純粋な生成物のＣＤＯＮを、ＣＤＯＬを含めた高沸点物フラクションから、例えば蒸留によって分離する。
この高沸点物フラクションから、引き続きＣＤＯＬを留去し、このＣＤＯＬを、反応経路Ｉ内で脱水素触媒を用いてＣＤＯＮに反応させることができる。しかしながら、この分離されたＣＤＯＬは、この脱水素の前に、ＣＤＯＮの製造のために反応経路ＩＩに供給することが好ましい。
この反応経路ＩＩは、次の工程を有する：
ａ． ＣＤＴからＣＤＡＮへの水素化、
ｂ． ＣＤＡＮから、ＣＤＯＬ及びＣＤＯＮを有する混合物への酸化及び
ｃ． ＣＤＯＬからＣＤＯＮへの脱水素。
ＣＤＯＬの脱水素のために適した触媒は、銅又は銅化合物、例えば酸化銅（ＩＩ）を有する。
経路ＩからのＣＤＯＬは、好ましくは経路ＩＩの工程ｃの脱水素の前に供給される。
同様に、経路Ｉから分離されたＣＤＡＮは、反応経路ＩＩの酸化の実施の前に供給することができる。この場合、ＣＤＡＮは好ましくは、経路ＩＩの工程ｂの酸化の前に供給される。ＣＤＡＮは、例えば、経路Ｉのエポキシ化の後に分離することができる。
この点で、反応経路Ｉ及びＩＩは、生じるＣＤＡＮ又はＣＤＯＬを経路Ｉから分離しかつ除去し、経路ＩＩに供給するように組み合わせることができる。この場合、この２つの経路は連続して実施するのが好ましい。本発明のこの特別な実施態様は、経路Ｉの副生成物を、経路ＩＩ中の継続処理のために利用する。これは、特に経済的でありかつ環境的である。経路Ｉの副生成物の廃棄は省かれる。
ＣＤＥＮ、ＣＤＡＮ又はＣＤＯＬ並びに他の高沸点物の分離は、当業者に慣用の方法によって行うことができる。この場合、蒸留が好ましい。特に、全体の分離を蒸留により行うのが好ましい。複数の蒸留を連続して実施することが好ましい（多段階蒸留）。
ＣＤＡＮは、エポキシ化の後に留去することができる。
転位の後に、まずＣＤＡＮとＣＤＥＮとの混合物（低沸点物フラクション）を留去し、かつＣＤＯＮ、ＣＤＯＬ及び他の高沸点物を含む残留物を新たに蒸留することが好ましい。この場合、ＣＤＯＮを得ることができ、これはＣＤＯＬを含む高沸点物フラクションから分離される。ＣＤＯＬはまた、残った高沸点物生成物から留去することができる。
低沸点物とは、ＣＤＯＮの沸点よりも低い沸点を有する物質である。
相応する反応による物質の経過を示す。イタリック体で示した化合物は、それぞれの反応の副生成物である。
ＣＤＴから出発して、経路Ｉを介して水素化（選択的水素化）によってＣＤＥＮが得られ、このＣＤＥＮはＣＤＡＮエポキシドにエポキシ化される。引き続き、ＣＤＯＮへの転位を行い、その際、存在するＣＤＥＮは、例えば蒸留によって、分離され、エポキシ化の前のＣＤＥＮに供給される。このエポキシ化の後に含まれるＣＤＥＮは、同様に返送することができる。この返送されたＣＤＥＮは、ＣＤＡＮを含んでいてもよい。
この残りのＣＤＯＮはＣＤＯＬを含むことができ、このＣＤＯＬは分離され、経路ＩＩに供給することもできる。これとは別に、このＣＤＯＬは、経路Ｉ内で、ＣＤＯＮに脱水素することもできる。
本発明の他の主題は、ラウリンラクタムを合成する方法（本発明によるラクタム法）であり、この場合、上述のＣＤＯＮを製造するための本発明による方法が用いられる。この場合、ラウリンラクタムがＣＤＯＮから得られ、その際、このＣＤＯＮは、本発明によるＣＤＯＮ法により製造される。
本発明の他の主題は、ポリアミド１２を合成する方法（本発明によるポリアミド法）であり、この場合、上述のＣＤＯＮを製造するための本発明による方法が用いられる。
本発明によるＣＤＯＮ法で製造されたＣＤＯＮは、本発明によるラクタム法又はポリアミド法で、シクロドデカノンオキシム（ＣＤＯＮオキシム）を得ながらオキシム化することができる。次の工程で、ラウリンラクタムへのベックマン転位を行うことができ、この転位は硫酸又は塩化シアヌルによって行うことができる。このラクタムは、重縮合下でポリアミドに継続加工することができる。
このオキシム化、ベックマン転位並びに縮合反応は、当業者に公知である。
更に説明することなく、当業者は上述の記載を最も広い範囲で利用できることが前提とされる。これらの好ましい実施態様及び実施例は、従って、記載されるだけで、決して何らかの限定する開示ではないと解釈される。
次に、本発明を、実施例を用いて詳細に説明する。本発明の択一的な実施態様も同様に得られる。
他に何も記載がない限り、質量に関するパーセントの記載が用いられる。
ＣＤＴの選択的水素化：
ＣＤＴ １０００ｋｇ／ｈを気液接触装置としての飽和塔（Saettigungskolonne）中で、０．７５ｂａｒの圧力及び１５５℃の温度で、主に窒素からなる循環ガス流１０ｍ3／ｈで連続的に蒸発させた。生じるガス流を、Ａｌ2Ｏ3上のＰｄ触媒を備えた固定床反応器に供給し、その間に１３０℃の温度で水素との反応を行った。このために、水素２５ｋｇ／ｈをこの反応器の入口で循環ガスに計量供給した。反応器の出口で循環ガス流から生成物を３５℃で凝縮させた。この凝縮した液体は、ＣＤＥＮ ８４．８％及びＣＤＡＮ １５％の組成を有していた。ＣＤＤＩＥＮ（シクロドデカジエン）異性体及びＣＤＴ異性体は、０．２％未満の濃度で存在する。
残りの循環ガス流を、コンプレッサを介して再び飽和塔に供給した（上記参照）。
ＣＤＥＮのエポキシ化：
選択的水素化からのＣＤＥＮ（８４．８％）とＣＤＡＮ（１５％）との混合物を、２ｋｇ／ｈの供給速度で、三段階の反応器カスケード中でＨ2Ｏ2でエポキシ化した。この反応器カスケード中に、更に、ＣＤＥＮ（７６％）及びＣＤＡＮ（２４％）の混合物を、転位工程の低沸点物蒸留（蒸留１）から、８０ｇ／ｈの供給速度で返送した。
このＣＤＡＮ／ＣＤＥＮ混合物を、まず第１の８Ｌ反応器中へ連続的に２．０８ｋｇ／ｈの供給速度で計量供給した。更に、５０％のＨ2Ｏ2溶液（５６０ｇ／ｈ）、３０質量％のＮａ2ＷＯ4及び１８質量％のＨ3ＰＯ4の水溶液（１３０ｇ／ｈ）、ＣＤＥＮ中のトリオクチルアミンの５０％の溶液（７０ｇ／ｈ）及び水（１５０ｇ／ｈ）を、５．５Ｌの二相反応混合物中へ８０℃の温度で計量供給した。
この二相混合物が第１の反応器からＣＤＥＮの７９％の転化率で生じ、第２の８Ｌ反応器中へオーバーフローした。このために５０％のＨ2Ｏ2溶液（１３５ｇ／ｈ）を５．５Ｌ二相反応混合物中へ７８℃の温度で計量供給した。
この第２の反応器から二相混合物がＣＤＥＮの９６％の転化率で生じ、反応器中へ２５Ｌの充填レベルで導入した。この二相反応混合物を、この反応器中で７６℃の温度で撹拌した。
２５Ｌ反応器の反応混合物の２つの相を、相分離容器中で分離した。引き続き、有機相を５Ｌ容器中で５％のＮａＯＨ溶液（０．５ｋｇ／ｈ）で洗浄し、２つの相を１つの分離装置中で分離した。
この有機相を最後に３段階で連続的に蒸留した。第１の塔（８ｍの織物充填物を備えた塔；表面積５００ｍ2／ｍ3；塔頂圧力３００ｍｂａｒ）中で残りの水を留出物として分離した。第２の塔（６ｍの織物充填物を備えた塔；表面関５００ｍ2／ｍ3；塔頂圧力１０ｍｂａｒ）中でＣＤＡＮ（３２０ｇ／ｈ）を留去し、ＣＤＡＮエポキシドを塔底に集めた。第３の塔（６ｍの織物充填物を備えた塔；表面関５００ｍ2／ｍ3；塔頂圧力１０ｍｂａｒ）中で所望の生成物のＣＤＡＮエポキシド（純度＞９９．５％）が１．７３ｋｇ／ｈの速度で留出物として得られた。これはエポキシ化について９８％の全体の収率に相当した。
ＣＤＡＮエポキシドのＣＤＯＮへの転位：
直前の工程からのＣＤＡＮエポキシドを、０．５％のＰｄ／ＺｒＯ2触媒を用いて、三段階反応器カスケード中でＣＤＯＮに反応させた。
このエポキシ化からのＣＤＡＮエポキシドを、第１の循環型反応器中へ１．７３ｋｇ／ｈの供給速度で計量供給した。この循環型反応器は１２Ｌ撹拌反応器からなり、この反応器は２２０℃の温度で０．５％のＰｄ／ＺｒＯ2固定床触媒１０ｋｇが充填されていて、かつ８Ｌ貯蔵容器から供給された。
第１の循環型反応器から、ＣＤＯＮ ６５％、ＣＤＡＮエポキシド ２１％、ＣＤＡＮ ０．９％、ＣＤＥＮ ２．８％、ＣＤＯＬ ２．５％並びに副生成物及び中間生成物７．８％の混合物が生じた。この混合物を第２の循環型反応器中へ１．７３ｋｇ／ｈの供給速度で計量供給した。この第２の循環型反応器も同様に、８Ｌ貯蔵容器及び１２Ｌ撹拌反応器からなり、この反応器は２２０℃の反応温度で０．５％のＰｄ／ＺｒＯ2固定床触媒１０ｋｇで充填されていた。
この第２の反応循環路から、ＣＤＯＮ ８８％、ＣＤＡＮエポキシド ４％、ＣＤＡＮ １．１％、ＣＤＥＮ ３．４％及びＣＤＯＬ ２．９％を有する混合物が生じた。この混合物を、Ｐｄ／ＺｒＯ2 ２．７ｋｇが充填された固定床触媒中へ、１．７３ｋｇ／ｈの供給速度で計量供給した。この反応器中でこの反応混合物を２３０℃の温度で加熱した。この管から、ＣＤＯＮ ９２％、ＣＤＡＮ １．１％、ＣＤＥＮ ３．５％及びＣＤＯＬ ２．２％を有する粗製混合物が得られた。この混合物の成分を、蒸留によって相互に分離しかつ精製した。
低沸点物フラクションの蒸留：
この転位からの粗製混合物から、第１の連続的蒸留工程で低沸点物フラクション（ＣＤＯＮよりも低い沸点を有する成分）を除去した。使用される塔は、５００ｍ2／ｍ3の表面積を有する８ｍの織物充填物を備えかつ１０ｍｂａｒの塔頂圧力で運転された。ＣＤＥＮ ７６％及びＣＤＡＮ ２４％を有する留出物（８０ｇ／ｈ）を、ＣＤＥＮのエポキシ化に返送した（上記参照）。この塔底物を第２の蒸留塔に供給した。
ＣＤＯＮの蒸留：
第１の蒸留からの塔底物を、他の連続的蒸留工程（６ｍの織物充填物を備えた塔；５００ｍ2／ｍ3の表面積）で蒸留し、ＣＤＯＮを１０ｍｂａｒの塔頂圧力で留出物として得た。ＣＤＯＮよりも高い沸点を有する成分（例えばＣＤＯＬ）を、塔底生成物として分離した。得られたＣＤＯＮの純度は＞９９％であり、ＣＤＯＮ収率として蒸留塔中では９８％が達成された。
このシクロドデカノンは、公知の方法で更にラウリンラクタムに反応させることができた。
第２の蒸留の塔底物を付加的な塔中で更に精製した：ＣＤＯＬを付加的な塔中で他の高沸点物から分離し、脱水素によってＣＤＯＮに反応させることができた。
［発明の実施の形態］
１． ａ． シクロドデセン（ＣＤＥＮ）をエポキシシクロドデカン（ＣＤＡＮエポキシド）にエポキシ化する工程、及び
ｂ． ＣＤＥＮを含む混合物を得ながら、ＣＤＡＮエポキシドをシクロドデカノン（ＣＤＯＮ）へ転位する工程
を有する、反応経路Ｉを用いてＣＤＯＮを製造する方法において、ＣＤＥＮをＣＤＯＮ含有混合物から分離し、ＣＤＡＮエポキシドへのエポキシ化（工程ａ）に供給することを特徴とする、方法。
２． エポキシ化（工程ａ）のためのＣＤＥＮを、シクロドデカトリエン（ＣＤＴ）から得ることを特徴とする、前記１に記載の方法。
３． 前記転位（工程ｂ）を貴金属含有触媒の存在で行うことを特徴とする、前記１又は２に記載の方法。
４． 前記転位（工程ｂ）の触媒は、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム又はこの両方を含むことを特徴とする、前記３に記載の方法。
５． 工程ａからのＣＤＡＮエポキシドはＣＤＥＮを含み、前記ＣＤＥＮを前記転位（工程ｂ）の前で少なくとも部分的に分離することを特徴とする、前記１から４までのいずれか１に記載の方法。
６． 工程ａからのＣＤＡＮエポキシドはシクロドデカン（ＣＤＡＮ）を含み、前記ＣＤＡＮを前記転位（工程ｂ）の前で少なくとも部分的に分離することを特徴とする、前記１から５までのいずれか１に記載の方法。
７． ＣＤＡＮをＣＤＯＮへ酸化することを特徴とする、前記６に記載の方法。
８． 前記ＣＤＯＮ含有混合物はシクロドデカノール（ＣＤＯＬ）を含み、このＣＤＯＬをＣＤＯＮに脱水素することを特徴とする、前記１から７までのいずれか１に記載の方法。
９． 前記ＣＤＯＬを、脱水素の前にＣＤＯＮ含有混合物から分離し、かつＣＤＯＮの製造のために、
ａ． ＣＤＴからＣＤＡＮへの水素化、
ｂ． ＣＤＡＮから、ＣＤＯＬ及びＣＤＯＮを有する混合物への酸化及び
ｃ． ＣＤＯＬからＣＤＯＮへの脱水素
を有する反応経路ＩＩに供給することを特徴とする、前記８に記載の方法。
１０． ＣＤＡＮを、ＣＤＯＮの製造のために、
ａ． ＣＤＴからＣＤＡＮへの水素化、
ｂ． ＣＤＡＮから、ＣＤＯＬ及びＣＤＯＮを有する混合物への酸化及び
ｃ． ＣＤＯＬからＣＤＯＮへの脱水素
を有する反応経路ＩＩに供給することを特徴とする、前記６から９までのいずれか１に記載の方法。
１１． 少なくとも１つの分離、好ましくは全ての分離を、蒸留によって行うことを特徴とする、前記１から１０までのいずれか１に記載の方法。
１２． ＣＤＴを１，３−ブタジエンから得ることを特徴とする、前記１から１１までのいずれか１に記載の方法。
１３． ＣＤＯＮからラウリンラクタムを合成する方法において、前記ＣＤＯＮは前記１から１２までのいずれか１に記載の方法により製造される、ラウリンラクタムを合成する方法。
１４． 前記ＣＤＯＮをシクロドデカノンオキシム（ＣＤＯＮオキシム）に反応させることを特徴とする、前記１３に記載の方法。
１５． ＣＤＯＮからポリアミド１２を製造する方法において、前記ＣＤＯＮは前記１から１２までのいずれか１に記載の方法により製造される、ポリアミド１２を製造する方法。

Claims (15)

  1. ａ． シクロドデセン（ＣＤＥＮ）をエポキシシクロドデカン（ＣＤＡＮエポキシド）にエポキシ化する工程、及び
    ｂ． ＣＤＥＮを含む混合物を得ながら、ＣＤＡＮエポキシドをシクロドデカノン（ＣＤＯＮ）へ転位する工程
    を有する、反応経路Ｉを用いてＣＤＯＮを製造する方法において、ＣＤＥＮをＣＤＯＮ含有混合物から分離し、ＣＤＡＮエポキシドへのエポキシ化（工程ａ）に供給することを特徴とする、方法。
  2. エポキシ化（工程ａ）のためのＣＤＥＮを、シクロドデカトリエン（ＣＤＴ）から得ることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
  3. 前記転位（工程ｂ）を貴金属含有触媒の存在で行うことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
  4. 前記転位（工程ｂ）の触媒は、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム又はこの両方を含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
  5. 工程ａからのＣＤＡＮエポキシドはＣＤＥＮを含み、前記ＣＤＥＮを前記転位（工程ｂ）の前で少なくとも部分的に分離することを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
  6. 工程ａからのＣＤＡＮエポキシドはシクロドデカン（ＣＤＡＮ）を含み、前記ＣＤＡＮを前記転位（工程ｂ）の前で少なくとも部分的に分離することを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
  7. ＣＤＡＮをＣＤＯＮへ酸化することを特徴とする、請求項６に記載の方法。
  8. 前記ＣＤＯＮ含有混合物はシクロドデカノール（ＣＤＯＬ）を含み、このＣＤＯＬをＣＤＯＮに脱水素することを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
  9. 前記ＣＤＯＬを、脱水素の前にＣＤＯＮ含有混合物から分離し、かつＣＤＯＮの製造のために、
    ａ． ＣＤＴからＣＤＡＮへの水素化、
    ｂ． ＣＤＡＮから、ＣＤＯＬ及びＣＤＯＮを有する混合物への酸化及び
    ｃ． ＣＤＯＬからＣＤＯＮへの脱水素
    を有する反応経路ＩＩに供給することを特徴とする、請求項８に記載の方法。
  10. ＣＤＡＮを、ＣＤＯＮの製造のために、
    ａ． ＣＤＴからＣＤＡＮへの水素化、
    ｂ． ＣＤＡＮから、ＣＤＯＬ及びＣＤＯＮを有する混合物への酸化及び
    ｃ． ＣＤＯＬからＣＤＯＮへの脱水素
    を有する反応経路ＩＩに供給することを特徴とする、請求項６から９までのいずれか１項に記載の方法。
  11. 少なくとも１つの分離、好ましくは全ての分離を、蒸留によって行うことを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の方法。
  12. ＣＤＴを１，３−ブタジエンから得ることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項に記載の方法。
  13. ＣＤＯＮからラウリンラクタムを合成する方法において、前記ＣＤＯＮは請求項１から１２までのいずれか１項に記載の方法により製造される、ラウリンラクタムを合成する方法。
  14. 前記ＣＤＯＮをシクロドデカノンオキシム（ＣＤＯＮオキシム）に反応させることを特徴とする、請求項１３に記載の方法。
  15. ＣＤＯＮからポリアミド１２を製造する方法において、前記ＣＤＯＮは請求項１から１２までのいずれか１項に記載の方法により製造される、ポリアミド１２を製造する方法。
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