JP2016032806A - 液体処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本開示の一態様に係る液体処理装置10は、相互への液体の移動が抑制された第1の空間22と第2の空間23とに分割され、第1の空間22及び第2の空間23のそれぞれに液体を入れることができる反応槽20と、第1の空間22に少なくとも一部が配置される第1の電極110と、第2の空間23に少なくとも一部が配置される第2の電極120と、第1の電極110と第2の電極120との間に交流電圧又はパルス電圧を印加する電源130と、を含み、液体中にプラズマを発生させるプラズマ生成器100と、を備え、反応槽20は、第1の空間22と第2の空間23との間でイオン又は電子を伝導する隔壁30を含む。
【選択図】図1
Description
本発明者は、「背景技術」の欄において記載した従来のイオン水生成装置に関し、以下の問題が生じることを見出した。
[1.液体処理装置]
まず、実施の形態1に係る液体処理装置の構成について、図1を用いて説明する。図1は、本実施の形態に係る液体処理装置10の構成を示す図である。
反応槽20は、水40が入れられる空間21を形成する容器である。つまり、空間21は、反応槽20の内面によって囲まれた空間である。
隔壁30は、水40が入れられる空間21を、第1の空間22と第2の空間23とに仕切る仕切り部材である。隔壁30は、第1の空間22と第2の空間23との間で、イオン又は電子の伝導を可能とし、かつ、水分子の移動を抑制する。
プラズマ生成器100は、第1の電極110と、第2の電極120と、電源130と、気体供給器140とを備える。図1に示すように、第1の電極110は、少なくとも一部が第1の空間22に配置されている。第2の電極120は、少なくとも一部が第2の空間23に配置されている。
続いて、本実施の形態に係るプラズマ生成器100が備える電極の詳細な構成について、図2〜図3Bを用いて説明する。
第2の電極120は、中空部121を有する筒状の電極である。具体的には、図3Aに示すように、第2の電極120は、円筒体である。第2の電極120の外径(図3Bのr1)は、例えば2mm以下であり、一例として2mmである。
絶縁体122は、第2の電極120を囲むように配置され、第2の電極120との間に空隙123を形成する。空隙123は、中空部121と連通している。さらに、絶縁体122は、第2の空間23と空隙123とを連通する開口部124を有する。このように、絶縁体122は、第2の水42から電気的に第2の電極120を絶縁する。
保持ブロック125は、第2の電極120及び絶縁体122を保持するための部材である。保持ブロック125は、例えば、反応槽20に固定されている。なお、保持ブロック125は、反応槽20と一体に形成されてもよく、あるいは、別体で設けられてもよい。
続いて、本実施の形態に係る液体処理装置10の動作について、図4を用いて説明する。図4は、本実施の形態に係る液体処理装置10の動作を示すフローチャートである。
続いて、本実施の形態に係る液体処理装置10を用いて水を処理した結果について、図5〜図6Bを用いて説明する。
図7及び図8を用いて、本実施の形態に係る液体処理装置10を用いた汚れ除去方法を説明する。図7は、本実施の形態に係る液体処理装置10を用いた汚れ除去の様子を、模式的に示す図である。図8は、本実施の形態に係る液体処理装置10を用いた汚れ除去方法を示すフローチャートである。
以上のように、本実施の形態に係る液体処理装置10は、水40が入れられる空間21を第1の空間22と第2の空間23とに仕切る隔壁30であって、第1の空間22と第2の空間23との間で、イオン又は電子の伝導を可能とし、かつ、水分子の移動を実質的に遮断する隔壁30と、水40の中でプラズマを生成するプラズマ生成器100とを備え、プラズマ生成器100は、第1の空間22に少なくとも一部が配置される第1の電極110と、第2の空間23に少なくとも一部が配置される第2の電極120と、第1の電極110と第2の電極120との間に、所定の交流電圧又はパルス電圧を印加する電源130とを有する。
続いて、実施の形態1に係る液体処理装置10の変形例について説明する。
続いて、実施の形態2について説明する。
図11を用いて、本実施の形態に係る液体処理装置の構成を説明する。図11は、本実施の形態に係る液体処理装置300の構成を示す図である。
本実施の形態に係る液体処理装置300では、反応槽20内に水340が入れられる。実施の形態1では、水を流した状態でプラズマを生成したのに対して、本実施の形態では、水を流さない状態でプラズマを生成する。すなわち、静水中でプラズマを生成する。
隔壁330は、水340が入れられる空間21を、第1の空間22と第2の空間23とに仕切る。隔壁330は、第1の空間22と第2の空間23との間で、イオン又は電子の伝導を可能とし、かつ、水分子の移動を抑制する。具体的には、隔壁330は、水分子の移動は可能であるものの、水分子の自由な移動を制限している。
続いて、本実施の形態に係る液体処理装置300の動作について、図12を用いて説明する。図12は、本実施の形態に係る液体処理装置300の動作を示すフローチャートである。
続いて、本実施の形態に係る液体処理装置300を用いて、水を処理した結果について、図13を用いて説明する。図13は、本実施の形態に係る液体処理装置300の第1の電極110及び第2の電極120のそれぞれの近傍の水のpHの時間変化を示す図である。横軸は、電圧を印加し始めてからの経過時間を示している。なお、ここでは、実施の形態1と同様に、H型セルを利用した。但し、反応槽20内の水は流動させず、ほぼ静止した状態とした。
続いて、本実施の形態に係る液体処理装置300を用いた汚れ除去方法について、図14及び図8を用いて説明する。図14は、本実施の形態に係る液体処理装置300を用いた汚れ除去の様子を模式的に示す図である。
実施の形態2では、第1の空間22と第2の空間23とを仕切る隔壁として、多孔質の隔壁を用いたが、本実施の形態で示すように、水圧を利用した分離層を用いてもよい。以下では、まず、本実施の形態に係る液体処理装置の構成について、図15を用いて説明する。
図15は、本実施の形態に係る液体処理装置400の構成を示す図である。
反応槽420は、水が入れられる空間421を形成する容器である。具体的には、反応槽420は、H型セルである。
分離層430は、第1の空間422と第2の空間423との境に位置する水であって、第1の空間422内及び第2の空間423内より高い水圧が維持された水である。簡単に言い換えると、分離層430は、水圧の高さを利用した水の壁であり、第1の空間422と第2の空間423との間で水の移動を抑制する。具体的には、分離層430には、圧力制御口428に接続された配管によって、第1の空間422内及び第2の空間423内の水圧より高い水圧がかけられる。
本実施の形態に係る液体処理装置400を用いて、水を処理した結果を、図16を用いて説明する。図16は、本実施の形態に係る液体処理装置400の第1の電極110及び第2の電極120のそれぞれの近傍の水のpHの時間変化を示す図である。なお、ここでは、実施の形態2と同様に、H型セルを利用した。
以上のように、本実施の形態に係る液体処理装置400によれば、所定期間の経過後には、酸性水に変化するアルカリ水を生成することができる。したがって、実施の形態1及び2と同様に、難溶性の汚れを除去する汚れ除去方法などに利用することができる。
以上、1つ又は複数の態様に係る液体処理装置、液体処理方法及び汚れ分解方法について、実施の形態に基づいて説明したが、本開示は、これらの実施の形態に限定されるものではない。本開示の主旨を逸脱しない限り、当業者が思いつく各種変形を本実施の形態に施したもの、及び、異なる実施の形態における構成要素を組み合わせて構築される形態も、本開示の範囲内に含まれる。
20、420 反応槽
21、421 空間
22、422 第1の空間
23、423 第2の空間
24、25、424 供給口
26、27、426 排出口
28、29 支管
30 隔壁
40、340 水
41、341 第1の水
42、342 第2の水
43 アルカリ水
44 酸性水
50、51 バルブ
60 処理対象物
61 汚物
100 プラズマ生成器
110 第1の電極
120、220 第2の電極
121 中空部
122 絶縁体
123 空隙
124 開口部
125 保持ブロック
130 電源
131、132 整流素子
140 気体供給器
141 気泡
142 プラズマ
220a 金属電極部
220b 金属ネジ部
221 貫通孔
330 隔壁
428 圧力制御口
430 分離層
Claims (8)
- 相互への液体の移動が抑制された第1の空間と第2の空間とに分割され、前記第1の空間及び前記第2の空間のそれぞれに液体を入れることができる反応槽と、
前記第1の空間に少なくとも一部が配置される第1の電極と、前記第2の空間に少なくとも一部が配置される第2の電極と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に交流電圧又はパルス電圧を印加する電源と、を含み、前記液体中にプラズマを発生させるプラズマ生成器と、
を備え、
前記反応槽は、前記第1の空間と前記第2の空間との間でイオン又は電子を伝導する内壁を含む、
液体処理装置。 - 前記内壁は、前記第1の空間と前記第2の空間とを分割する隔壁を含み、
前記隔壁が前記第1の空間と前記第2の空間との間でイオン又は電子を伝導する、
請求項1に記載の液体処理装置。 - 前記隔壁は、イオン交換膜又は電子交換膜である、
請求項2に記載の液体処理装置。 - 前記隔壁は、多孔質膜である、
請求項2に記載の液体処理装置。 - 前記反応槽は、さらに、
前記第1の空間へ前記液体を供給するための第1の供給口と、
前記第2の空間へ前記液体を供給するための第2の供給口と、
前記第1の空間から前記液体を排出するための第1の排出口と、
前記第2の空間から前記液体を排出するための第2の排出口と、
を備える、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の液体処理装置。 - 前記プラズマ生成器は、前記第1の空間において前記液体が前記第1の供給口から第1の排出口へ流れ、前記第2の空間において前記液体が前記第2の供給口から第2の排出口へ流れている状態でプラズマを発生させる、
請求項5に記載の液体処理装置。 - 前記プラズマ生成器は、前記第1の空間及び前記第2の空間に前記液体を滞留させた状態でプラズマを発生させる、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の液体処理装置。 - 前記プラズマ生成器は、前記反応槽内の前記液体中に気体を供給する気体供給器をさらに備え、
前記気体供給器は、前記第1の電極又は前記第2の電極が前記気体で覆われるように前記気体を供給する、
請求項1〜7のいずれか1項に記載の液体処理装置。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5630915A (en) * | 1994-01-11 | 1997-05-20 | Greene; Hugh W. | Liquid decontamination system using electrical discharge with gas injection |
JPH1177050A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-23 | Japan Carlit Co Ltd:The | 電解イオン水生成装置、電解イオン水生成方法及び洗浄方法 |
JP2012075973A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Daikin Industries Ltd | イオン水を生成する方法及びイオン水生成装置 |
WO2012157248A1 (ja) * | 2011-05-17 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP2013138981A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-18 | Daikin Industries Ltd | イオン水生成装置 |
JP2013211204A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Osaka City Univ | 液中プラズマ発生方法、液中プラズマ発生装置、被処理液浄化装置及びイオン含有液体生成装置 |
Family Cites Families (8)
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---|---|---|---|---|
JPH01177050A (ja) * | 1987-12-29 | 1989-07-13 | Minolta Camera Co Ltd | データ入力装置 |
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JP3864891B2 (ja) * | 2002-07-01 | 2007-01-10 | 栗田工業株式会社 | 電気式脱イオン装置 |
US6749759B2 (en) * | 2002-07-12 | 2004-06-15 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method for disinfecting a dense fluid medium in a dense medium plasma reactor |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5630915A (en) * | 1994-01-11 | 1997-05-20 | Greene; Hugh W. | Liquid decontamination system using electrical discharge with gas injection |
JPH1177050A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-23 | Japan Carlit Co Ltd:The | 電解イオン水生成装置、電解イオン水生成方法及び洗浄方法 |
JP2012075973A (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Daikin Industries Ltd | イオン水を生成する方法及びイオン水生成装置 |
WO2012157248A1 (ja) * | 2011-05-17 | 2012-11-22 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP2013138981A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-18 | Daikin Industries Ltd | イオン水生成装置 |
JP2013211204A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Osaka City Univ | 液中プラズマ発生方法、液中プラズマ発生装置、被処理液浄化装置及びイオン含有液体生成装置 |
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