JP2017516916A - 陽極酸化処理の実装を意図したデバイスおよび陽極酸化処理 - Google Patents
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Abstract
Description
処理される部品、および処理される部品に面して位置する対極を備える処理チャンバであって、処理される部品は、処理チャンバの第1の壁を構成する、処理チャンバと;
発電機であって、発電機の第1の端子は、処理される部品に電気的に接続され、発電機の第2の端子は、対極に電気的に接続されている、発電機と;
電解質を貯蔵および循環させるためのシステムであって、
電解質を格納するための、処理チャンバとは異なる貯蔵槽と;
電解質が貯蔵槽と処理チャンバとの間で流動するのを可能にするために、電解質を循環させるための回路と
を備えるシステムと
を備えるデバイスを提供する。
貯蔵槽から来る電解質が処理チャンバに流動することを可能にするための第1のチャネルと、
電解質が処理チャンバから貯蔵槽に流動することを可能にするための第2のチャネルと
を備えるようなデバイスであってもよい。
上で定義されたようなデバイスを使用した陽極酸化により、部品の表面上にコーティングを形成するステップを含み、陽極酸化処理の間、処理チャンバ内には電解質が存在し、電解質は、陽極酸化処理の間、電解質循環回路内を流動する、方法を提供する。
貯蔵槽から来る電解質は、第1のチャネルを通して処理チャンバに流動してもよく;
電解質は、第2のチャネルを通して処理チャンバから貯蔵槽に流動してもよい。
第1のチャネルおよび/または第2のチャネル内を流動する電解質に関連した情報を少なくとも決定するステップと、
陽極酸化処理の少なくとも1つの特性を変更するステップであって、この変更は、電解質について決定された情報に応じて行われる、変更するステップと
をさらに含んでもよい。
電圧:180ボルト(V)から600V;
パルス周波数:10ヘルツ(Hz)から500Hz;
処理期間:10分(min)から90min;
貯蔵槽内の電解質の温度:17℃から30℃。
貯蔵槽内の電解質のpH:6から12;および
貯蔵槽内の電解質の導電率:200ミリジーメンス毎メートル(mS/m)から500mS/m。
5グラム毎リットル(g/L)から50g/Lの範囲内にある濃度の水酸化カリウム(KOH);
5g/Lから50g/Lの範囲内にある濃度のケイ酸ナトリウム(Na2SiO3);および
5g/Lから50g/Lの範囲内にある濃度のリン酸カリウム(K3PO4)。
Claims (12)
- 部品(3)上で陽極酸化処理を行うためのデバイス(1)であって、
処理される部品(3)、および処理される部品に面して位置する対極(7)を備える処理チャンバ(10)であって、処理される部品(3)は、処理チャンバ(10)の第1の壁を構成し、対極(7)は、第1の壁に面して位置する処理チャンバ(10)の壁を構成する、処理チャンバ(10)と;
発電機(5)であって、発電機の第1の端子は、処理される部品(3)に電気的に接続され、発電機の第2の端子は、対極(7)に電気的に接続されている、発電機(5)と;
電解質(11)を貯蔵および循環させるためのシステム(20)であって、
電解質(11)を格納するための、処理チャンバ(10)とは異なる貯蔵槽(21)であって、処理チャンバ(10)は貯蔵槽(21)の容積よりも小さい容積を有する、貯蔵槽(21)と;
電解質が貯蔵槽(21)と処理チャンバ(10)との間で流動するのを可能にするために、電解質を循環させるための回路(23;25)と
を備えるシステム(20)と
を備えるデバイス(1)。 - 処理チャンバ(10)の第2の壁を構成する少なくとも1つのシーリングガスケット(13a;13b)を含み、第2の壁は第1の壁と異なることを特徴とする、請求項1に記載のデバイス(1)。
- 電解質を貯蔵および循環させるためのシステム(20)が、前記システム(20)にわたる電解質(11)の循環を駆動するためのポンプ(27)をさらに含むことを特徴とする、請求項1または2に記載のデバイス(1)。
- (処理チャンバの容積)/(貯蔵槽の容積)の比率が0.2以下であることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載のデバイス(10)。
- 電解質を循環させるための回路(23;25)が、
貯蔵槽(21)から来る電解質(11)が処理チャンバ(10)に流動することを可能にするための第1のチャネル(23)と;
電解質(11)が処理チャンバ(10)から貯蔵槽(21)に流動することを可能にするための第2のチャネル(25)と
を備えることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載のデバイス(10)。 - 部品(3)を陽極酸化する方法であって、
請求項1から5のいずれか一項に記載のデバイス(1)を使用した陽極酸化処理により、部品(3)の表面(S)上にコーティングを形成するステップを含み、陽極酸化処理の間、処理チャンバ(10)内には電解質(11)が存在し、電解質は、陽極酸化処理の間、電解質循環回路(23;25)内を流動する、方法。 - 陽極酸化処理が、マイクロアーク酸化処理であることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 陽極酸化処理の間、
貯蔵槽(21)から来る電解質(11)が、第1のチャネル(23)を通して処理チャンバ(10)に流動すること;および
電解質(11)が、第2のチャネル(25)を通して処理チャンバ(10)から貯蔵槽(21)に流動すること
を特徴とする、請求項6または7に記載の方法。 - 処理チャンバ(10)内に存在する電解質(11)が、陽極酸化処理の間継続的に取り替えられることを特徴とする、請求項6から8のいずれか一項に記載の方法。
- 電解質(11)が、1分当たり処理チャンバ(10)の容積の0.1倍から10倍の範囲内にある流量で、電解質循環回路(23;25)内を流動することを特徴とする、請求項6から9のいずれか一項に記載の方法。
- 貯蔵槽(21)に戻る前に、第2のチャネル(25)内を流動する電解質(11)を濾過するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項8から10のいずれか一項に記載の方法。
- 第1のチャネル(23)および/または第2のチャネル(25)内を流動する電解質(11)に関連した情報を少なくとも決定するステップと;
陽極酸化処理の少なくとも1つの特性を変更するステップであって、この変更は、電解質について決定された情報に応じて行われる、変更するステップと
をさらに含むことを特徴とする、請求項8から11のいずれか一項に記載の方法。
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