KR102111554B1 - 전해액 순환을 이용한 아노다이징 자동화 공정 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전해액 순환을 이용한 아노다이징 자동화 공정 시스템에 관한 것으로, 유출구, 유입구 및 배출구를 갖는 챔버; 챔버에 설치되는 음극과 양극; 음극과 양극에 연결되는 전원; 챔버의 외부에서 유출구와 유입구를 연결하는 순환라인; 순환라인에 설치되는 순환장치; 순환라인에 설치되는 냉각장치; 순환라인과 연결되는 공급라인; 공급라인과 연결되는 제1분기라인; 제1분기라인과 독립적으로 연결되는 복수의 공급용액 탱크; 배출구와 연결되는 배출라인; 배출라인과 연결되는 제2분기라인; 및 제2분기라인과 독립적으로 연결되는 복수의 배출용액 탱크를 구비하는 아노다이징 장치를 제공한다.

Description

전해액 순환을 이용한 아노다이징 자동화 공정 시스템{Anodizing automatic process system using electrolyte circulation}
본 발명은 아노다이징 시스템에 관한 것으로, 특히 전해액 순환을 이용한 아노다이징 자동화 공정 시스템에 관한 것이다.
일반적으로 아노다이징(Anodizing; 양극 산화)은, 금속이나 부품 등을 양극에 걸고 희석-산의 전해액에서 전해하면, 양극에서 발생하는 산소에 의해서 소지 금속과 대단한 밀착력을 가진 산화 피막(산화 알루미늄 등)이 형성되는 공정을 말한다. 양극 산화라고 하는 것은 양극(Anode)과 산화(Oxidizing)의 합성어(Ano-dizing)이다. 또한, 전기도금에서 금속 부품을 음극에 걸고 도금하는 것과는 차이가 있다. 양극 산화의 가장 대표적인 소재는 알루미늄(Al)이고, 그 외에 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 하프늄(Hf), 니오븀(Nb) 등의 금속 소재에도 아노다이징 처리를 하고 있다. 최근에는 마그네슘과 티타늄 소재의 아노다이징 처리도 점차 그 용도가 늘어나는 추세이다.
예를 들어, 알루미늄 소재의 피도물 표면에 산화 피막을 처리하는 아노다이징에서 알루미늄을 양극에서 전해하면, 알루미늄 표면의 반은 침식되고, 반은 산화 알루미늄 피막을 형성한다. 알루미늄 아노다이징(양극 산화)은 다양한 전해(처리)액의 조성과 농도, 첨가제, 전해액의 온도, 전압, 전류 등에 따라 성질이 다른 피막을 형성시킬 수 있다.
양극 산화 피막의 특성으로서, 피막은 치밀한 산화물로 내식성이 우수하고, 장식성 외관을 개선하며, 양극 피막은 상당히 단단하여 내마모성이 우수하고, 도장 밀착력을 향상시키며, 본딩 성능을 개선하고, 윤활성을 향상시키며, 장식 목적의 특유한 색상을 발휘하고, 도금의 전처리가 가능하며, 표면 손상을 탐색할 수 있다.
통상 전해액은 아노다이징 처리과정에서 고온으로 가열되고, 이를 냉각시켜 주지 않게 되면, 산화 피막이 변색 또는 탈색되어 원하는 품질의 산화 피막을 형성하기 어렵기 때문에 이를 해소하기 위해 전해액을 냉각시킨다. 예를 들어, 경질 아노다이징의 전해액은 0~5℃를 유지해야 하고, 연질 아노다이징의 전해액은 25±1℃를 유지해야 하지만, 양극 산화를 진행하면 전해액에서 발열반응이 일어나므로, 전해액을 냉각시키는 냉각 장치가 필수적으로 사용된다.
그러나, 기존 아노다이징 장치의 경우, 외부에서 냉각 장치를 이용하는 방법을 사용하기 때문에, 전해질 내부에서 위치에 따라 온도 차이가 심하였다.
또한, 기존에는 전해연마(Electropolishing) 처리 이후 알루미늄 기판을 꺼내서 수세(흐르는 물에 닦는 공정)한 후, 전해질을 바꾸고 다시 기판을 로딩하여 아노다이징 공정을 수행함으로써, 공정 간에 오염이 발생할 수 있고, 시간이 오래 걸리며, 재현성도 떨어질 수 있다.
본 발명의 목적은 전해액의 온도 조절이 용이하고, 자동화 공정이 가능한 아노다이징 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은 상술한 목적을 달성하기 위해, 유출구, 유입구 및 배출구를 갖는 챔버; 챔버에 설치되는 음극과 양극; 음극과 양극에 연결되는 전원; 챔버의 외부에서 유출구와 유입구를 연결하는 순환라인; 순환라인에 설치되는 순환장치; 순환라인에 설치되는 냉각장치; 순환라인과 연결되는 공급라인; 공급라인과 연결되는 제1분기라인; 제1분기라인과 독립적으로 연결되는 복수의 공급용액 탱크; 배출구와 연결되는 배출라인; 배출라인과 연결되는 제2분기라인; 및 제2분기라인과 독립적으로 연결되는 복수의 배출용액 탱크를 구비하는 아노다이징 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 아노다이징 장치는 순환라인, 공급라인, 제1분기라인, 배출라인 및 제2분기라인 각각에 설치되는 밸브를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에서 공급용액 탱크는 각각 독립적으로 아노다이징 공정용 용액 탱크, 전해연마(Electropolishing) 공정용 용액 탱크, 수세 공정용 용액 탱크를 포함할 수 있다.
본 발명에서 양극은 구리로 구성되고, 음극은 스테인리스 스틸로 구성될 수 있다.
본 발명에서 양극에 배치되는 아노다이징 대상물은 알루미늄 또는 이의 합금일 수 있다.
본 발명에서 챔버의 측면에 중앙이 뚫린 프레임, 판 형태의 아노다이징 대상물, 판 형태의 양극이 순차적으로 장착될 수 있다.
본 발명에서 챔버 측면과 프레임 사이 및 프레임과 아노다이징 대상물 사이에 각각 오링이 설치될 수 있다.
본 발명에서 프레임과 양극은 나사 결합 방식으로 챔버의 측면에 장착될 수 있다.
본 발명에서 프레임 또는 양극은 챔버의 측면에 힌지 결합하여 도어 방식으로 챔버에 장착될 수 있다.
본 발명에 따른 아노다이징 장치는 전해액을 순환시켜 온도 조절에 유리하고, 자동화 공정의 방식으로 전해연마(Electropolishing) 공정과 아노다이징 공정, 수세(Cleaning) 공정을 한번에 처리할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 전해액 순환을 이용한 아노다이징 장치의 전체 구성을 나타낸 것이다.
도 2는 프레임과 아노다이징 대상물 및 양극이 나사 고정방식으로 챔버의 측면에 장착되는 것을 나타낸 것이다.
도 3은 프레임과 아노다이징 대상물 및 양극이 도어 고정방식으로 챔버의 측면에 장착되는 것을 나타낸 것이다.
도 4는 공정 자동화를 이용한 실시예로서, 황산 아노다이징 후 코팅 표면을 나타낸 것이다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태를 상세하게 설명한다.
도 1 내지 3을 참고하면, 본 발명에 따른 아노다이징 장치는 챔버(1), 유출구(1a), 유입구(1b), 배출구(1c), 아노다이징 대상물(2), 양극(3), 음극(4), 순환/냉각장치(5), 공급용액 탱크(6), 배출용액 탱크(7), 전원(8), 순환라인(9), 공급라인(10), 제1분기라인(11), 배출라인(12), 제2분기라인(13), 밸브(14), 프레임(15), 오링(16), 나사(17), 힌지(18) 등을 구비할 수 있다.
챔버(Anodizing Chamber)(1)는 전해액 등을 수용하고 아노다이징이 수행되는 곳으로, 다면체(육면체 등) 또는 원통형 등으로 구성될 수 있다. 챔버(1)의 상부에는 유출구(1a)가 형성되고, 챔버(1)의 하부에는 유입구(1b) 및 배출구(1c)가 형성될 수 있다. 전해액은 챔버(1)의 유출구(1a)를 통해 유출된 후, 순환라인(9)을 통해 순환되고, 또한 온도 조절(냉각)된 후 유입구(1b)를 통해 다시 챔버(1)로 유입될 수 있다. 배출구(1c)로부터는 폐용액 등이 배출될 수 있다.
아노다이징 대상물(2)은 챔버(1)의 측면에 장착될 수 있고, 양극(3)과 접촉하도록 배치될 수 있다. 아노다이징 대상물(2)은 금속, 예를 들어 알루미늄 또는 이의 합금(Aluminum Alloy)으로 구성될 수 있다. 아노다이징 대상물(2)은 평판 형태로 구성될 수 있다.
양극(Anode)(3)은 챔버(1)의 측면에 장착될 수 있고, 아노다이징 대상물(2)과 접촉하도록 배치될 수 있다. 양극(3)은 금속, 바람직하게는 구리(Copper)판으로 구성될 수 있다. 아노다이징 대상물(2)을 직접 양극으로 활용하지 않고, 별도의 양극(3)을 설치하며, 또한 양극(3)을 구리판으로 구성할 경우, 구리판이 방열판으로도 작용하여 방열효과를 극대화할 수 있다.
음극(Cathode)(4)은 챔버(1)의 내부에 설치될 수 있다. 음극(4)은 금속, 바람직하게는 스테인리스 스틸(Stainless steel)로 구성될 수 있다. 아노다이징 챔버 내부에서 음극 장착부의 거리를 조절할 수 있다. 구체적으로, 음극 장착부의 거리 조절 방법은 볼트와 너트를 통해 이루어질 수 있고, 이에 따라 다양한 조건에서의 양극산화 피막의 특성 제어 효과를 얻을 수 있다.
순환/냉각장치(Cooling & Circulator)(5)는 순환라인(9)에 설치되어 전해액 등을 순환 및 냉각하는 역할을 한다. 순환장치 및 냉각장치는 모듈식으로 함께 설치될 수 있고, 독립적으로 분리되어 설치될 수 있다. 순환장치는 예를 들어 순환펌프로 구성될 수 있다. 냉각장치는 예를 들어 냉매(냉각수 등)를 이용하여 전해액 등과의 열 교환을 통해 전해액 등을 냉각시킬 수 있다. 이와 같이, 순환/냉각장치(5) 및 순환라인(9)을 이용한 전해액의 냉각 및 순환을 통해 온도 제어를 용이하게 할 수 있다.
공급용액 탱크(Storage box for process acid)(6)는 복수 개, 예를 들어 2 내지 10개로 구성될 수 있다. 공급용액 탱크(6)는 각각 독립적으로 아노다이징 공정용 용액 탱크, 전해연마 공정(Electropolishing process)용 용액 탱크, 수세 공정(Cleaning process)용 용액 탱크를 포함할 수 있다. 예를 들어 첫 번째 탱크에는 아노다이징 공정용 황산(H2SO4) 용액이 수용될 수 있고, 두 번째 탱크에는 아노다이징 공정용 옥살산(C2H2O4) 용액이 수용될 수 있으며, 세 번째 탱크에는 전해연마 공정용 용액이 수용될 수 있고, 네 번째 탱크에는 수세 공정용 수세 용액이 수용될 수 있다. 각각의 탱크(6)는 제1분기라인(11)과 독립적으로 연결될 수 있고, 각각의 제1분기라인(11)에는 각 탱크(6)의 개폐 및 유량 조절을 위한 밸브(14)가 각각 설치될 수 있다. 이와 같이, 밸브(14)가 설치된 분기라인(11)을 통해 복수의 탱크(6)를 설치하고, 각 탱크(6)에 복수의 공정 용액을 배치함으로써, 자동화 공정의 방식으로 복수의 공정(예를 들어, 전해연마 공정, 아노다이징 공정, 수세 공정)을 한번에 처리할 수 있다.
배출용액 탱크(Storage box for waste acid)(7)는 복수 개, 예를 들어 2 내지 10개로 구성될 수 있다. 예를 들어 첫 번째 탱크에는 유기산(Organic acid)이 수용될 수 있고, 두 번째 탱크에는 무기산(Inorganic acid)이 수용될 수 있으며, 세 번째 탱크에는 오염물질(Pollutant)이 수세 용액이 수용될 수 있다. 각각의 탱크(7)는 제2분기라인(13)과 독립적으로 연결될 수 있고, 각각의 제2분기라인(13)에는 각 탱크(7)의 개폐 및 유량 조절을 위한 밸브(14)가 각각 설치될 수 있다.
전원(8)은 양극(3) 및 음극(4)과 각각 연결되어 전류를 인가할 수 있고, 예를 들어 직류 전원일 수 있다.
순환라인(9)은 챔버(1)의 외부에서 한쪽으로는 유출구(1a)와 다른 한쪽으로는 유입구(1b)를 연결하는 라인이다. 전해액 등은 챔버(1)의 상부로부터 유출된 후, 순환라인(9)을 거쳐 냉각된 다음, 챔버(1)의 하부로 다시 유입될 수 있다. 순환라인(9)의 유출구(1a)와 유입구(1b) 측에는 각각 개폐 및 유량 조절을 위한 밸브(14)가 각각 설치될 수 있다.
공급라인(10)은 한쪽으로는 순환라인(9)과 연결되고, 다른 한쪽으로는 제1분기라인(11)과 연결될 수 있다. 또한, 공급라인(10)은 순환/냉각장치(5)와 직접 연결될 수 있다. 공급라인(10)에는 개폐 및 유량 조절을 위한 밸브(14)가 설치될 수 있다.
제1분기라인(11)은 한쪽으로는 공급라인(10)과 연결되고, 다른 한쪽으로는 복수의 공급용액 탱크(6)와 연결될 수 있다. 분기되는 라인의 수는 공급용액 탱크(6)의 수와 일치할 수 있다. 제1분기라인(11)의 각 라인에는 각 탱크(6)의 개폐 및 유량 조절을 위한 밸브(14)가 각각 설치될 수 있다.
배출라인(12)은 한쪽으로는 챔버(1)의 배출구(1c)와 연결되고, 다른 한쪽으로는 제2분기라인(13)과 연결될 수 있다. 배출라인(12)에는 개폐 및 유량 조절을 위한 밸브(14)가 설치될 수 있다. 또한, 배출라인(12)은 배출구(1c)와 연결되지 않고, 순환라인(9)과 직접 연결될 수도 있다.
제2분기라인(13)은 한쪽으로는 배출라인(12)과 연결되고, 다른 한쪽으로는 복수의 배출용액 탱크(7)와 연결될 수 있다. 분기되는 라인의 수는 배출용액 탱크(7)의 수와 일치할 수 있다. 제2분기라인(13)의 각 라인에는 각 탱크(7)의 개폐 및 유량 조절을 위한 밸브(14)가 각각 설치될 수 있다.
밸브(14)는 순환라인(9), 공급라인(10), 제1분기라인(11), 배출라인(12) 및 제2분기라인(13) 각각에 설치되어 개폐 및 유량을 조절할 수 있다.
도 2 및 3은 아노다이징 챔버 내부 금속 모재(Anode) 장착부의 구조를 나타낸 것으로, 도 2는 알루미늄 기판과 같은 아노다이징 대상물(2)의 첫 번째 로딩 방법으로서, 나사(Screw) 고정방식을 나타낸다. 구체적으로, 챔버(1)의 측면에 중앙이 뚫린 프레임(15), 판 형태의 아노다이징 대상물(2), 판 형태의 양극(3)이 순차적으로 장착될 수 있다.
챔버(1)의 측면은 대부분 개방되고, 챔버(1)의 개방되지 않은 측면 테두리 부위에는 전해액 등의 누출 방지를 위한 밀봉용 오링(16)이 설치될 수 있다.
프레임(15)은 아노다이징 대상물(2)을 장착하기 위한 틀 부재로서, 아노다이징 대상물(2)이 노출되어 전해액 등과 접촉하도록 중앙 부위가 뚫려 있다. 프레임(15)의 개방되지 않은 측면 테두리 부위에는 전해액 등의 누출 방지를 위한 밀봉용 오링(16)이 설치될 수 있다.
오링(16)은 전해액 등의 누출 방지를 위한 밀봉 부재로서, 챔버(1) 측면과 프레임(15) 사이 및 프레임(15)과 아노다이징 대상물(2) 사이에 각각 설치될 수 있다.
프레임(15)과 양극(3)은 각각 나사(17)를 통해 챔버(1)의 측면에 장착될 수 있다. 이를 위해, 챔버(1) 측면과 프레임(15) 및 양극(3) 각각에는 복수의 나사 홀이 형성될 수 있다.
도 3은 아노다이징 대상물(2)의 두 번째 로딩 방법으로서, 도어(Door) 고정방식을 나타낸다. 구체적으로, 프레임(15) 또는 양극(3)은 챔버(1)의 측면에 힌지(18)를 통해 결합하여 도어 방식으로 챔버(1)에 장착될 수 있다.
도 4는 공정 자동화를 이용한 실시예로서, 황산 아노다이징 후 코팅 표면을 나타낸 사진이다. 알루미늄 아노다이징을 통해 산화 알루미늄이 피막이 표면에 형성된 것을 확인할 수 있다.
이상과 같은 본 발명에 따른 아노다이징 장치는 아노다이징 공정 시 사용되는 전해액의 냉각 및 순환을 통해 전해액의 온도 제어를 용이하게 할 수 있다. 아노다이징 공정은 많은 열을 수반하는 공정으로, 전해액의 온도 제어를 효율적으로 하기 위해 전해액 냉각과 순환을 동시에 한다.
또한, 본 발명에 따른 아노다이징 장치는 자동화 공정(Auto process)을 위한 공정별 용액 공급장치 및 폐용액 회수장치를 구비함으로써, 공정을 자동화하여 공정 간 발생할 수 있는 오염을 최소화할 수 있고, 아노다이징 각 단계별 공정으로 전환함에 따라 발생할 수 있는 오염물질 유입을 방지할 수 있다. 자동화 공정을 통해 오염 방지뿐만 아니라, 시간을 절약할 수 있고, 재현성도 확보할 수 있다.
1: 챔버, 1a: 유출구, 1b: 유입구, 1c: 배출구, 2: 아노다이징 대상물, 3: 양극, 4: 음극, 5: 순환/냉각장치, 6: 공급용액 탱크, 7: 배출용액 탱크, 8: 전원, 9: 순환라인, 10: 공급라인, 11: 제1분기라인, 12: 배출라인, 13: 제2분기라인, 14: 밸브, 15: 프레임, 16: 오링, 17: 나사, 18: 힌지

Claims (9)

  1. 유출구, 유입구 및 배출구를 갖는 챔버;
    챔버에 설치되는 음극과 양극;
    음극과 양극에 연결되는 전원;
    챔버의 외부에서 유출구와 유입구를 연결하는 순환라인;
    순환라인에 설치되는 순환장치;
    순환라인에 설치되는 냉각장치;
    순환라인과 연결되는 공급라인;
    공급라인과 연결되는 제1분기라인;
    제1분기라인과 독립적으로 연결되는 복수의 공급용액 탱크;
    배출구와 연결되는 배출라인;
    배출라인과 연결되는 제2분기라인; 및
    제2분기라인과 독립적으로 연결되는 복수의 배출용액 탱크를 구비하고,
    챔버의 측면에 중앙이 뚫린 프레임, 판 형태의 아노다이징 대상물, 판 형태의 양극이 순차적으로 장착되는 아노다이징 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    순환라인, 공급라인, 제1분기라인, 배출라인 및 제2분기라인 각각에 설치되는 밸브를 추가로 포함하는 아노다이징 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    공급용액 탱크는 각각 독립적으로 아노다이징 공정용 용액 탱크, 전해연마 공정용 용액 탱크, 수세 공정용 용액 탱크를 포함하는 아노다이징 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    양극은 구리로 구성되고, 음극은 스테인리스 스틸로 구성되는 아노다이징 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    양극에 배치되는 아노다이징 대상물은 알루미늄 또는 이의 합금인 아노다이징 장치.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    챔버 측면과 프레임 사이 및 프레임과 아노다이징 대상물 사이에 각각 오링이 설치되는 아노다이징 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    프레임과 양극은 나사 결합 방식으로 챔버의 측면에 장착되는 아노다이징 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    프레임 또는 양극은 챔버의 측면에 힌지 결합하여 도어 방식으로 챔버에 장착되는 아노다이징 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115613095B (zh) * 2022-11-05 2024-05-24 江西铭强新材料科技有限公司 一种铝基板阳极氧化处理系统及其处理方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003321798A (ja) * 2000-12-28 2003-11-14 Hideo Yoshida 電気メッキ等の電気化学的処理方法およびその電気化学的反応装置
KR100958368B1 (ko) * 2009-12-16 2010-05-17 주식회사 삼원알텍 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치
JP2015059521A (ja) * 2013-09-19 2015-03-30 三菱重工オートモーティブサーマルシステムズ株式会社 陽極酸化処理装置および陽極酸化処理方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3020642B1 (fr) * 2014-04-30 2021-07-02 Turbomeca Dispositif destine a la mise en oeuvre d'un traitement d'anodisation

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003321798A (ja) * 2000-12-28 2003-11-14 Hideo Yoshida 電気メッキ等の電気化学的処理方法およびその電気化学的反応装置
KR100958368B1 (ko) * 2009-12-16 2010-05-17 주식회사 삼원알텍 탈지장치가 일체로 구비된 금속의 아노다이징 처리 장치
JP2015059521A (ja) * 2013-09-19 2015-03-30 三菱重工オートモーティブサーマルシステムズ株式会社 陽極酸化処理装置および陽極酸化処理方法

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