JP2016028284A - 光学フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】黒表示時の光漏れ抑制に優れる光学フィルムを提供すること。
【解決手段】第一の位相差層と第二の位相差層とを有する光学フィルムであって、
第二の位相差層が式（３）で表される光学特性を有し、
該光学フィルムが式（１）、（２）及び（３０）で表される光学特性を有する光学フィルムの提供。
Δｎ（４５０）／Δｎ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Δｎ（６５０）／Δｎ（５５０） （２）
ｎx≒ｎy＜ｎz （３）
０．０００＜Ｔ＜０．１ （３０）
【選択図】図１

Description

本発明は、光学フィルムに関する。

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などの、光学フィルムを含む部材が用いられている。このような光学フィルムとしては、重合性液晶を含む組成物を基材に塗布することにより製造される光学フィルムが知られている。例えば、特許文献１には、逆波長分散性を示す該光学フィルムについて記載されている。

特表２０１０−５３７９５５号公報

しかしながら、従来の光学フィルムは、黒表示時の光漏れを抑制するという光学補償特性において十分ではなかった。

本発明は以下の発明を含む。
[１] 第一の位相差層と第二の位相差層とを有する光学フィルムであって、
第二の位相差層が式（３）で表される光学特性を有し、
該光学フィルムが式（１）、（２）及び（３０）で表される光学特性を有する光学フィルム。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
ｎx≒ｎy＜ｎz （３）
０．０００＜Ｔ＜１ （３０）
（式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。Ｔは、吸収軸が直交した偏光板の間に光学フィルムを配置した積層体の透過度を、吸収軸が平行した偏光板の間に該光学フィルムを配置した積層体の透過度で除して１００を掛けた値を表す。ｎｘは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。）
[２] 第一の位相差層が式（４）で表される光学特性を有する[１]に記載の光学フィルム。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
（式中、Ｒｅ（５５０）は前記と同じ意味を表す。）
[３] 第一の位相差層が式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する[１]又は[２]に記載の光学フィルム。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
（式中、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５０）は前記と同じ意味を表す。
）
[４] 第一の位相差層が１以上の重合性液晶を重合させることにより形成されるコーティング層である[１]〜[３]のいずれかに記載の光学フィルム。
[５] 第二の位相差層が１以上の重合性液晶を重合させることにより形成されるコーティング層である[１]〜[４]のいずれかに記載の光学フィルム。
[６] 重合性液晶の重合を１０℃乃至４０℃で行う[４]又は[５]に記載の光学フィルム。
[７] 第一の位相差層の厚さが５μｍ以下である[１]〜[６]のいずれかに記載の光学フィルム。
[８] 第二の位相差層の厚さが５μｍ以下である[１]〜[７]のいずれかに記載の光学フィルム。
[９] 第一の位相差層及び第二の位相差層の厚さがそれぞれ５μｍ以下である[１]〜[８]のいずれかに記載の光学フィルム。
[１０] 第一の位相差層が配向膜上に形成される[１]〜[９]のいずれかに記載の光学フィルム。
[１１] 第二の位相差層が配向膜上に形成される[１]〜[１０]のいずれかに記載の光学フィルム。
[１２] 配向膜が、光照射により配向規制力を生じた配向膜である[１０]に記載の光学フィルム。
[１３] 配向膜が、垂直配向規制力を生じる配向膜である[１１]に記載の光学フィルム。
[１４] 配向膜の厚さが５００ｎｍ以下である[１０]〜[１３]のいずれかに記載の光学フィルム。
[１５] 基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層が形成され、第一の位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層が形成されている[１]〜[１４]のいずれかに記載の光学フィルム。
[１６] 基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層が形成され、第二の位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層が形成されている[１]〜[１４]のいずれかに記載の光学フィルム。
[１７] 第一の位相差層と、第二の位相差層との間に保護層を有する[１]〜[１６]に記載の光学フィルム。
[１８] 基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層が形成され、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層が形成されている[１]〜[１４]のいずれかに記載の光学フィルム。
[１９] [１]〜[１８]のいずれかに記載の光学フィルムと偏光板とを備える円偏光板。
[２０] 光学フィルムと偏光板とが活性エネルギー線硬化型接着剤又は水系接着剤で貼り合わされている[１９]に記載の円偏光板。
[２１] [１９]又は[２０]に記載の円偏光板を備える有機ＥＬ表示装置。
[２２] [１９]又は[２０]に記載の円偏光板を備えるタッチパネル表示装置。

本発明によれば、黒表示時の光漏れ抑制に優れる光学フィルムを提供することができる。

本発明の光学フィルムの断面模式図である。 本発明の光学フィルムを含む円偏光板の断面模式図である。 本発明の光学フィルムを含む有機ＥＬ表示装置の断面模式図である。 本発明の光学フィルムを含む有機ＥＬ表示装置の模式図である。

本発明の光学フィルム（以下、本光学フィルムということがある。）は第一の位相差層と第二の位相差層とを有する。第一の位相差層及び第二の位相差層とは一定の光学特性を有する位相差層である。
本光学フィルムは、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する。本光学フィルムがかかる光学特性を有するためには、第一の位相差層若しくは第二の位相差層が式（１）及び式（２）で表される光学特性を有すればよい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
本明細書において、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。

さらに、本光学フィルムは、式（３０）で表される光学特性を有する。
０．０００＜Ｔ＜１ （３０）
（Ｔは、吸収軸が直交した偏光板の間に光学フィルムを配置した積層体の透過度を、吸収軸が平行した偏光板の間に該光学フィルムを配置した積層体の透過度で除して１００を掛けた値を表す。）
式（３０）で表される透過率Ｔは、一般的な紫外可視分光光度計で測定可能である。偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）の吸収軸を平行に配置した場合の透過率を１００％とし、吸収軸を直交させた偏光板（Ａ）及び（Ｂ）の間に、本光学フィルムを入れて測定することで、光漏れの程度を測定することができる。測定の際、偏光板（Ａ）又は（Ｂ）いずれかの吸収軸と本光学フィルムに含まれる第一の位相差層の遅相軸が平行となるように設置する。
式（３０）で表される透過率Ｔは、本光学フィルムにおいては、位相差層の光学特性に大きく影響される。後述するように、これらの位相差層が重合性液晶を重合させることにより形成される層の場合、液晶配向にばらつきがあると、光漏れが生じＴが大きくなる。
また、位相差層が延伸フィルムにより形成される場合は、延伸フィルムを形成する樹脂の側鎖の配向のばらつきによってＴが大きくなる。つまり、Ｔを式（３０）で表される範囲内にするためには、重合性液晶や樹脂側鎖の配向ゆらぎを調整し、それらの配向性を高めればよい。具体的には、重合性液晶の重合時の温度を低く設定することで重合性液晶の配向性を高める、または、フィルムの延伸時の延伸倍率を大きくして側鎖の配向性を高める等の方法が挙げられる。

Ｔは好ましくは、０．５未満であり、より好ましくは０．１未満であり、さらに好ましくは０．０５未満である。

[位相差層]
位相差層としては、例えば、重合性液晶を重合させることにより形成される層及び延伸フィルムが挙げられる。位相差層の光学特性は重合性液晶の配向状態または延伸フィルムの延伸方法により調節することができる。

＜重合性液晶を重合させることにより形成される層＞
本発明においては、重合性液晶の光軸が基材平面に対して水平に配向したものを水平配向、重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直に配向したものを垂直配向と定義する。光軸とは、重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる方向、すなわち３方向の屈折率がすべて等しくなる方向を意味する。

重合性液晶としては、棒状の重合性液晶および円盤状の重合性液晶が挙げられる。
棒状の重合性液晶が基材に対して水平配向または垂直配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の長軸方向と一致する。
円盤状の重合性液晶が配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の円盤面に対して直交する方向に存在する。

延伸フィルムの遅相軸方向は延伸方法により異なり、一軸、二軸または斜め延伸等、その延伸方法に応じて遅相軸および光軸が決定される。

重合性液晶を重合させることにより形成される層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。重合性液晶が棒状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する、この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶が円盤状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する、この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶の配向状態は、配向膜と重合性液晶との組み合わせにより調整することができる。

位相差層の面内位相差値は、位相差層の厚みによって調整することができる。面内位相差値は式（１０）によって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ））を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （１０）
式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表わす。

複屈折率Δｎ（λ）は、面内位相差値を測定して、位相差層の厚みで除することで得られる。具体的な測定方法は実施例に示すが、この際、ガラス基板のように基材自体に面内位相差が無いような基材上に製膜したものを測定することで、実質的な位相差層の特性を測定することができる。

本発明では、重合性液晶の配向又はフィルムの延伸により形成される屈折率楕円体における３方向の屈折率を、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚとして表す。ｎｘは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。

棒状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、ｎx＞ｎy≒ｎz（ポジティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎｘの方向の軸と遅相軸が一致する。

また、円盤状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、ｎx＜ｎy≒ｎz（ネガティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎｙの方向の軸と遅相軸が一致する。

重合性液晶を重合させることにより形成される層が厚み方向の位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。本発明において、厚み方向の位相差を発現するとは、式（２０）において、Ｒth（厚み方向の位相差値）が負となる特性を示すものと定義する。Ｒthは、面内の進相軸を傾斜軸として４０度傾斜させて測定される位相差値（Ｒ_４０）と、面内の位相差値（Ｒe）とから算出することができる。すなわち、Ｒthは、Ｒe、Ｒ_４０、ｄ（位相差層の厚み）、およびｎ0（位相差層の平均屈折率）から、以下の式(２１)〜（２３）によりｎｘ、ｎｙ及びｎｚを求め、これらを式（２０）に代入することで算出することができる。
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ （２０）
Ｒe ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （２１）
Ｒ_４０＝（ｎｘ−ｎｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （２２）
(ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ)／３＝ｎ０ （２３）
ここで、
φ＝ｓｉｎ^−１〔ｓｉｎ（４０°)／ｎ0〕
ｎｙ'＝ｎｙ×ｎｚ／〔ｎｙ²×ｓｉｎ²(φ)＋ｎｚ²×ｃｏｓ²(φ)〕^1/2
ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは前述の定義と同じである。

重合性液晶が棒状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して垂直に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。重合性液晶が円盤状の場合は、該重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。円盤状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材平面に対して平行であるため、Ｒeを決めると、厚みが固定されるため、一義的にＲthが決定されるが、棒状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材平面に対して垂直であるため、位相差層の厚みを調節することでＲeを変化させることなくＲthを調節することができる。

棒状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して垂直に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、ｎx≒ｎy＜ｎz（ポジティブＣプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎzの方向の軸と遅相軸方向が一致する。

また、円盤状の重合性液晶の光軸が、基材平面に対して平行に配向した場合、得られる位相差層の屈折率関係は、ｎx＜ｎy≒ｎz（ネガティブＡプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎyの方向の軸と遅相軸方向が一致する。

＜重合性液晶＞
重合性液晶とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でも良く、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でも良い。

棒状の重合性液晶としては、例えば、下記式（Ａ）で表される化合物（以下、重合性液晶（Ａ）ということがある。）及び、下記式（Ｘ）で表される基を含む化合物（以下、重合性液晶（Ｂ）ということがある）が挙げられる。

［式（Ａ）中、
Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ^１−を表わす。Ｒ^１は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｙ^１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ^３およびＱ^４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^２Ｒ^３または−ＳＲ^２を表わすか、または、Ｑ^３とＱ^４とが互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに芳香環または芳香族複素環を形成する。Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＲ^６Ｒ^７−、−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−または−ＮＲ^４−ＣＲ^５Ｒ^６−または−ＣＯ−ＮＲ^４−を表わす。
Ｒ+、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子またはＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ^１およびＬ^２のうちの少なくとも一つは、重合性基を有する。］

重合性液晶（Ａ）におけるＬ^１は式（Ａ１）で表される基であると好ましく、また、Ｌ^２は式（Ａ２）で表される基であると好ましい。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１− （Ａ１）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２− （Ａ２）
［式（Ａ１）および式（Ａ２）中、
Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１およびＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ¹−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−Ｓ−ＣＨ_２−または単結合を表わす。
Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子またはＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
ｋおよびｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表わす。
Ｆ１およびＦ２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表わす。
Ｐ１は、重合性基を表わす。
Ｐ２は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。］

好ましい重合性液晶（Ａ）としては、特表２０１１−２０７７６５号公報に記載の化合物が挙げられる。

Ｐ１１−Ｂ１１−Ｅ１１−Ｂ１２−Ａ１１−Ｂ１３− （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ｐ１１は、重合性基を表わす。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１〜６のアルキル基および該炭素数１〜６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−または単結合を表わす。Ｒ１６は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２およびＢ１３は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］

Ａ１１の芳香族炭化水素基および脂環式炭化水素基の炭素数は、３〜１８の範囲であることが好ましく、５〜１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、１，４−フェニレン基が好ましい。

Ｅ１１としては、直鎖状の炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、へキサン−１，６−ジイル基、へプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基およびドデカン−１，１２−ジイル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルカンジイル基；−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−等が挙げられる。
Ｂ１１としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−が好ましく、中でも、−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。
Ｂ１２およびＢ１３としては、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−が好ましく、中でも、−Ｏ−または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−がより好ましい。

Ｐ１１で示される重合性基としては、重合反応性、特に光重合反応性が高いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１５）で表わされる基であることが好ましい。

［式（Ｐ−１１）〜（Ｐ−１５）中、
Ｒ^１７〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基または水素原子を表わす。］

式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１５）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ−１６）〜式（Ｐ−２０）で表わされる基が挙げられる。

Ｐ１１は、式（Ｐ−１４）〜式（Ｐ−２０）で表わされる基であることが好ましく、ビニル基、ｐ−スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ１１−Ｂ１１−で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。

重合性液晶（Ｂ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 （ＶＩ）
（式中、
Ａ１２〜Ａ１４はそれぞれ独立に、Ａ１１と同義であり、Ｂ１４〜Ｂ１６はそれぞれ独立に、Ｂ１２と同義であり、Ｂ１７は、Ｂ１１と同義であり、Ｅ１２は、Ｅ１１と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。）

重合性液晶（Ｂ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報および特開２０１１−２０７７６５号公報記載の重合性液晶が挙げられる。

重合性液晶（Ｂ）の具体例としては、下記式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−２６）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−２）および式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表わされる化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ1およびｋ2は、それぞれ独立して、２〜１２の整数を表わす。これらの重合性液晶（Ｂ）は、その合成の容易さ、または、入手の容易さの点で、好ましい。

円盤状の重合性液晶としては、例えば、式（Ｗ）で表される基を含む化合物（以下、重合性液晶（Ｃ）ということがある）が挙げられる。

［式（Ｗ）中、Ｒ^４０は、下記式（Ｗ−１）〜（Ｗ−５）を表わす。

Ｘ^４０およびＺ^４０は、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。

重合性液晶（Ｃ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料 図６．２１」に記載された化合物、特開平７−２５８１７０号公報、特開平７−３０６３７号公報、特開平７−３０９８０７号公報、特開平８−２３１４７０号公報記載の重合性液晶が挙げられる。

式（１）および式（２）で表される光学特性を有する位相差層は、特定の構造を有する重合性液晶を重合させた場合、特定の構造を有する高分子フィルムを延伸した場合に得られる。

位相差層が式（１）および式（２）で表される光学特性を有することで、式（１）および式（２）で表される光学特性を有する本光学フィルムを得ることができる。本光学フィルムが式（１）および式（２）で表される光学特性を有すると、可視光域における各波長の光に対して、一様な偏光変換の特性が得られ、有機ＥＬ表示装置等の表示装置の黒表示時の光漏れを抑制することができる。

前記特定の構造を有する重合性液晶としては、例えば、前記重合性液晶（Ａ）が挙げられる。重合性液晶（Ａ）を、基材平面に対して光軸が水平となるように配向することで、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する位相差層が得られ、さらに、前記式（１０）に従って膜厚を調節することで、例えば、式（４）で表される光学特性等の所望の面内位相差値を有する位相差層を得ることができる。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を表す。

＜延伸フィルム＞
延伸フィルムは通常、基材を延伸することで得られる。基材を延伸する方法としては、例えば、基材がロールに巻き取られているロール（巻き取り体）を準備し、かかる巻き取り体から、基材を連続的に巻き出し、巻き出された基材を加熱炉へと搬送する。加熱炉の設定温度は、基材のガラス転移温度近傍（℃）〜［ガラス転移温度＋１００］（℃）の範囲、好ましくは、ガラス転移温度近傍（℃）〜［ガラス転移温度＋５０］（℃）の範囲とする。当該加熱炉においては、基材の進行方向へ、又は進行方向と直交する方向へ延伸する際に、搬送方向や張力を調整し任意の角度に傾斜をつけて一軸又は二軸の熱延伸処理を行う。延伸の倍率は、通常１.１〜６倍であり、好ましくは１.１〜３.５倍である。
また、斜め方向に延伸する方法としては、連続的に配向軸を所望の角度に傾斜させることができるものであれば、特に限定されず、公知の延伸方法が採用できる。このような延伸方法は例えば、特開昭５０−８３４８２号公報や特開平２−１１３９２０号公報に記載された方法を挙げることができる。延伸することでフィルムに位相差性を付与する場合、延伸後の厚みは、延伸前の厚みや延伸倍率によって決定される。

厚み方向の位相差を有する延伸フィルムとしては、例えば、特開２００８−１２９４６５号公報に記載のｎｘ＜ｎｙ＜ｎｚの屈折率関係を有する延伸フィルムや、公知の多層押出フィルムを挙げることができる。ｎｘ＜ｎｙ＜ｎｚの屈折率関係を有するフィルムであっても、相対的にｎｚが大きくなるため、ｎx≒ｎy＜ｎzと同等の効果を得ることができる。

延伸フィルムの面内位相差値及び、厚み方向の位相差値は、重合性液晶を重合させることにより形成される層と同様に、Δｎ（λ）及び膜厚ｄによって調整することができる。

前記、式（１）および式（２）で表される光学特性を有する、特定の構造を有する高分子フィルムを延伸した延伸フィルムとしては、例えば、ポリカーネート系樹脂からなる市販の延伸フィルムが挙げられ、具体的には、「ピュアエース（登録商標）ＷＲ」（帝人株式会社製）等が挙げられる。

前記基材は通常透明基材である。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、波長３８０〜７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。具体的な透明基材としては、透光性樹脂基材が挙げられる。透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマーなどの環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂またはポリカーボネートが好ましい。

セルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の一部または全部が、エステル化されたものであり、市場から容易に入手することができる。また、セルロースエステル基材も市場から容易に入手することができる。市販のセルロースエステル基材としては、例えば、“フジタック（登録商標）フィルム”（富士写真フイルム（株））；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（コニカミノルタオプト（株））などが挙げられる。

ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステル（以下、ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステルをまとめて（メタ）アクリル系樹脂ということがある。
）は、市場から容易に入手できる。

（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、メタクリル酸アルキルエステル又はアクリル酸アルキルエステルの単独重合体や、メタクリル酸アルキルエステルとアクリル酸アルキルエステルとの共重合体などが挙げられる。メタクリル酸アルキルエステルとして具体的には、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレートなどが、またアクリル酸アルキルエステルとして具体的には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレートなどがそれぞれ挙げられる。かかる（メタ）アクリル系樹脂には、汎用の（メタ）アクリル系樹脂として市販されているものが使用できる。（メタ）アクリル系樹脂として、耐衝撃（メタ）アクリル樹脂と呼ばれるものを使用してもよい。

さらなる機械的強度向上のために、（メタ）アクリル系樹脂にゴム粒子を含有させることも好ましい。ゴム粒子は、アクリル系のものが好ましい。ここで、アクリル系ゴム粒子とは、ブチルアクリレートや２−エチルヘキシルアクリレートのようなアクリル酸アルキルエステルを主成分とするアクリル系モノマーを、多官能モノマーの存在下に重合させて得られるゴム弾性を有する粒子である。アクリル系ゴム粒子は、このようなゴム弾性を有する粒子が単層で形成されたものであってもよいし、ゴム弾性層を少なくとも一層有する多層構造体であってもよい。多層構造のアクリル系ゴム粒子としては、上記のようなゴム弾性を有する粒子を核とし、その周りを硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体で覆ったもの、硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体を核とし、その周りを上記のようなゴム弾性を有するアクリル系重合体で覆ったもの、また硬質の核の周りをゴム弾性のアクリル系重合体で覆い、さらにその周りを硬質のメタクリル酸アルキルエステル系重合体で覆ったものなどが挙げられる。弾性層で形成されるゴム粒子は、その平均直径が通常５０〜４００ｎｍ程度の範囲にある。

（メタ）アクリル系樹脂におけるゴム粒子の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部あたり、通常５〜５０質量部程度である。（メタ）アクリル系樹脂及びアクリル系ゴム粒子は、それらを混合した状態で市販されているので、その市販品を用いることができる。アクリル系ゴム粒子が配合された（メタ）アクリル系樹脂の市販品の例として、住友化学（株）から販売されている“ＨＴ５５Ｘ”や“テクノロイ Ｓ００１”などが挙げられる。“テクノロイ Ｓ００１”は、フィルムの形で販売されている。

環状オレフィン系樹脂は、市場から容易に入手できる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）［Ｔｉｃｏｎａ社（独）］、“アートン”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］および“アペル”（登録商標）［三井化学（株）］が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、例えば、溶剤キャスト法、溶融押出法などの公知の手段により製膜して、基材とすることができる。また、市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ＳＣＡ４０”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ゼオノアフィルム”（登録商標）［オプテス（株）］および“アートンフィルム”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］が挙げられる。

環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル基を有する芳香族化合物との共重合体である場合、環状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５０モル％以下、好ましくは１５〜５０モル％の範囲である。鎖状オレフィンとしては、エチレンおよびプロピレンが挙げられ、ビニル基を有する芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレンおよびアルキル置換スチレンが挙げられる。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル基を有する芳香族化合物との三元共重合体である場合、鎖状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％であり、ビニル基を有する芳香族化合物に由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％である。このような三元共重合体は、その製造において、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。

[第一の位相差層]
第一の位相差層は、好ましくは式（４）で表される光学特性を有し、より好ましくは式（４−１）で表される光学特性を有する。面内位相差値Ｒｅ（５５０）は、上記位相差層の面内位相差値の調整方法と同じ方法で調整することができる。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
１３０ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１５０ｎｍ （４−１）

さらに、第一の位相差層は、好ましくは、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する。かかる光学特性は、上記位相差層と同様の方法で得ることができる。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）

第一の位相差層は、好ましくは１以上の重合性液晶を重合させることにより形成されるコーティング層である。第一の位相差層が１つの位相差層からなり、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する場合、かかる位相差層は重合性液晶（Ａ）を重合させることにより形成されるコーティング層であると好ましい。

第一の位相差層が延伸フィルムの場合、その厚さは、通常３００μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下である。第一の位相差層が重合性液晶を重合させることにより形成される層の場合、その厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。第一の位相差層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定によって求めることができる。

[第二の位相差層]
第二の位相差層は、式（３）で表される光学特性を有する。
ｎx≒ｎy＜ｎz （３）

第二の位相差層の面内位相差値Ｒｅ（５５０）は通常０〜１０ｎｍの範囲であり、好ましくは０〜５ｎｍの範囲である。厚み方向の位相差値Ｒthは、通常−１０〜−３００ｎｍの範囲であり、好ましくは−２０〜−２００ｎｍの範囲である。かかる面内位相差値Ｒｅ（５５０）及び厚み方向の位相差値Ｒｔｈは、上記位相差層と同じ方法で調整することができる。

第二の位相差層は、好ましくは１以上の重合性液晶を重合することで形成されるコーティング層である。より好ましくは重合性液晶（Ｂ）を重合することで形成されるコーティング層である。

第二の位相差層が延伸フィルムの場合、その厚さは、通常３００μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下である。第二の位相差層が重合性液晶を重合させることにより形成される層の場合、その厚さは、通常１０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．３μｍ以上３μｍ以下である。第二の位相差層の厚さは、第一の位相差層と同じ方法で求めることができる。また、第一の位相差層及び第二の位相差層の厚さは、それぞれ５μｍ以下であると好ましい。

＜基材＞
本発明の光学フィルムは、好ましくは基材を有する。基材としては前記したものと同じものが挙げられる。

配向膜、第一の位相差層及び第二の位相差層が形成される側の基材の面には、配向膜又は位相差層を形成する前に、表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、真空下又は大気圧下、コロナ又はプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法又は基材表面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布するプライマー処理する方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プラズマ又は紫外線を照射して反応させるグラフト重合法等が挙げられる。中でも、真空下や大気圧下で、基材表面をコロナ又はプラズマ処理する方法が好ましい。

コロナ又はプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、
大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、
対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法、及び、
低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法が挙げられる。

中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、又は、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かかるコロナ又はプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行われる

基材は、位相差が小さい基材が好ましい。位相差が小さい基材としては、ゼロタック（登録商標）（コニカミノルタオプト（株））、Ｚタック（富士フィルム（株））などの位相差を有しないセルロースエステルフィルムが挙げられる。また、未延伸の環状オレフィン系樹脂基材も好ましい。

また、配向膜、第一の位相差層及び第二の位相差層が形成されていない基材の面には、ハードコート処理、帯電防止処理等がなされてもよい。また、性能に影響しない範囲で、紫外線吸収剤などの添加剤を含んでいてもよい。

基材の厚みは、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向があるため、通常５〜３００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。

＜重合性液晶組成物＞
重合性液晶を重合させることにより形成される層（位相差層）は、通常、１以上の重合性液晶を含有する組成物（以下、重合性液晶組成物ということがある。）を、基材、配向膜、保護層又は位相差層の上に塗布し、得られた塗膜中の重合性液晶を重合させることにより形成される。

重合性液晶組成物は、通常溶剤を含み、溶剤としては、重合性液晶を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。
具体的な溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる。これら他の溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。

重合性液晶組成物における溶剤の含有量は、通常、固形分１００質量部に対して、１０質量部〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは５０質量部〜５０００質量部である。固形分とは、重合性液晶組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。

重合性液晶組成物の塗布は、通常、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法によって行われる。塗布後、通常、得られた塗布膜中に含まれる重合性液晶が重合しない条件で溶剤を除去することにより、乾燥被膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法が挙げられる。

＜配向膜＞
本発明における配向膜とは、重合性液晶を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布などにより溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。かかる配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させるグルブ配向膜等が挙げられる。

配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせて用いてもよい。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、配向性ポリマー組成物ということがある。）を基材に塗布し、溶剤を除去する、又は、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする（ラビング法）ことで得られる。

前記溶剤としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、および、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１〜２０％が好ましく、０．１から１０％程度がさらに好ましい。

配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。本光学フィルムを、後述するＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法には通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法などの印刷法が採用される。

配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビングを行うことができる（ラビング法）。

ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じて光配向を行うことができる（光配向法）。

光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ということがある。）を基材に塗布し、光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、上述の配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコ−ルやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、例えば、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、基板上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光ＵＶを照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ−ザ−などが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテ−ラ−などの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。

なお、ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ配向膜は、膜表面の凹凸パターンまたは複数の溝によって、液晶配向が得られる膜である。Ｈ．Ｖ．ケネルらによって、複数の等間隔に並んだ直線状のグルブ（溝）を有する基材に液晶分子を置いた場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向するという事実が報告されている（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗ Ａ２４（５）、２７１３ページ、１９８１年）。

グルブ配向膜を得る具体的な例としては、感光性ポリイミド表面に周期的なパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って不要なポリイミド膜を除去し凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤にＵＶ硬化樹脂層を形成し、樹脂層を基材フィルムへ移してから硬化する方法、ＵＶ硬化樹脂層を形成した基材フィルムを搬送し、複数の溝を有するロール状の原盤をＵＶ硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成後硬化する方法等が挙げられ、特開平６−３４９７６号公報、特開２０１１−２４２７４３号公報記載の方法等を用いることができる。

上記方法の中でも、複数の溝を有するロール状の原盤をＵＶ硬化樹脂層表面に押し当てて凹凸を形成後硬化する方法が好ましい。ロール状原盤としては、耐久性の観点からステンレス（ＳＵＳ）鋼を用いることができる。

ＵＶ硬化樹脂としては、単官能アクリレートの重合体、多官能アクリレートの重合体またはこれらの混合物の重合体を用いることができる。
単官能アクリレートとは、アクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−）及びメタクリロイルオキシ基（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−）からなる群より選ばれる基（以下、（メタ）アクリロイルオキシ基と記すこともある。）を分子内に１個有する化合物である。

（メタ）アクリロイルオキシ基を１個有する単官能アクリレートとしては、炭素数４から１６のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のβカルボキシアルキル（メタ）アクリレート、炭素数２から１４のアルキル化フェニル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート及びイソボニル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

多官能アクリレートとは、通常、（メタ）アクリロイルオキシ基を分子内に２個乃至６個有する化合物である。

（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する２官能アクリレートとしては、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート；１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジアクリレート；ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート；プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート；エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート及び３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレートなどが例示される。

（メタ）アクリロイルオキシ基を３個乃至６個有する多官能アクリレートとしては、
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；
カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物；カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、及びカプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物などが挙げられる。なお、ここに示した多官能アクリレートの具体例において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。また、カプロラクトン変性とは、（メタ）アクリレート化合物のアルコール由来部位と（メタ）アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体、又は、開環重合体が導入されていることを意味する。

かかる多官能アクリレートには市販品を用いることもできる。
かかる市販品としては、Ａ−ＤＯＤ−Ｎ、Ａ−ＨＤ−Ｎ、Ａ−ＮＯＤ−Ｎ、ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＰＴ、ＡＤ−ＴＭＰ、ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−９５５０、Ａ−ＤＰＨ、ＨＤ−Ｎ、ＮＯＤ−Ｎ、ＮＰＧ、ＴＭＰＴ（新中村化学株式会社製）、”ＡＲＯＮＩＸ Ｍ−２２０”、同”Ｍ−３２５”、同”Ｍ−２４０”、同”Ｍ−２７０”同”Ｍ−３０９”同”Ｍ−３１０”、同”Ｍ−３２１”、同”Ｍ−３５０” 、同”Ｍ−３６０” 、同”Ｍ−３０５” 、同”Ｍ−３０６” 、同”Ｍ−４５０” 、同”Ｍ−４５１” 、同”Ｍ−４０８” 、同”Ｍ−４００” 、同”Ｍ−４０２” 、同”Ｍ−４０３” 、同”Ｍ−４０４” 、同”Ｍ−４０５” 、同”Ｍ−４０６”（東亜合成株式会社製）、”ＥＢＥＣＲＹＬ１１”、同”１４５” 、同”１５０” 、同”４０” 、同”１４０” 、同”１８０” 、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＨＰＮＤＡ、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＤＰＨＡ、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ（ダイセル・サイテック株式会社製）などを挙げることができる。

グルブ配向膜の凹凸としては、凸部の幅は０．０５〜５μｍであることが好ましく、凹部の幅は０．１〜５μｍであることが好ましく、凹凸の段差の深さは２μｍ以下、好ましくは０．０１〜１μｍ以下であることが好ましい。この範囲であれば、配向乱れの小さな液晶配向を得ることができる。

配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である。

重合性液晶の液晶配向は、配向膜及び重合性液晶の性質によって制御される。
例えば、配向膜が配向規制力として水平配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶は水平配向またはハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶は垂直配向または傾斜配向を形成することができる。
配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。

重合性液晶の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させる公知の方法により行うことができる。具体的には、熱重合および光重合が挙げられ、重合の容易さの観点から、光重合が好ましい。光重合により重合性液晶を重合させる場合、光重合開始剤を含有した重合性液晶組成物を塗布し、乾燥して得られる乾燥被膜中の重合性液晶を液晶相状態にした後、該液晶状態を保持したまま、光重合させることが好ましい。

光重合は、通常、乾燥被膜に光を照射することにより実施される。照射する光としては、乾燥被膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶の種類（特に、重合性液晶が有する光重合基の種類）およびその量に応じて、適宜選択され、具体的には、可視光、紫外光およびレーザー光からなる群より選択される光、活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶と光重合開始剤との種類を選択することが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥被膜を冷却しながら、光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に位相差層を形成できる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた位相差層を得ることもできる。

重合性液晶組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。
反応性添加剤としては、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する、炭素−炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ１〜２０個であり、好ましくはそれぞれ１〜１０個である。

反応性添加剤において、活性水素反応性基は少なくとも２つ存在すると好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。

反応性添加剤が有する炭素−炭素不飽和結合とは、炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合、あるいはそれらの組み合わせであってよいが、炭素−炭素二重結合であると好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素−炭素不飽和結合を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ましく、アクリル基と、イソシアネート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。

反応性添加剤の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び２０イソシアナトエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナトエチルアクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。

具体的には、下記式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｙ）中、
ｎは１〜１０までの整数を表わし、Ｒ１’は、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方が＞Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３’で示される基である。Ｒ３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｙ）中のＲ３’のうち、少なくとも１つのＲ３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］

前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、化合物（ＹＹ）という場合がある。）が特に好ましいものである（なお、ｎは前記と同じ意味である）。

化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることができる。市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。

重合性液晶組成物が反応性添加剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、通常０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．１質量部〜５質量部である。

重合性液晶組成物は、１種以上のレベリング剤を含有することが好ましい。レベリング剤は、重合性液晶組成物の流動性を調整し、重合性液晶組成物を塗布することにより得られる塗布膜をより平坦にする機能を有し、具体的には、界面活性剤が挙げられる。レベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤およびフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、”ＢＹＫ−３５０”、”ＢＹＫ−３５２”、”ＢＹＫ−３５３”、”ＢＹＫ−３５４”、”ＢＹＫ−３５５”、”ＢＹＫ−３５８Ｎ”、”ＢＹＫ−３６１Ｎ”、”ＢＹＫ−３８０”、”ＢＹＫ−３８１”および”ＢＹＫ−３９２”［ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社］が挙げられる。

フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、”メガファック（登録商標）Ｒ−０８”、同”Ｒ−３０”、同”Ｒ−９０”、同”Ｆ−４１０”、同”Ｆ−４１１”、同”Ｆ−４４３”、同”Ｆ−４４５”、同”Ｆ−４７０”、同”Ｆ−４７１”、同”Ｆ−４７７”、同”Ｆ−４７９”、同”Ｆ−４８２”および同”Ｆ−４８３”［ＤＩＣ（株）］；”サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１”、同”Ｓ−３８２”、同”Ｓ−３８３”、同”Ｓ−３９３”、同”ＳＣ−１０１”、同”ＳＣ−１０５”、”ＫＨ−４０”および”ＳＡ−１００”［ＡＧＣセイミケミカル（株）］；”Ｅ１８３０”、”Ｅ５８４４”［（株）ダイキンファインケミカル研究所］；”エフトップＥＦ３０１”、”エフトップＥＦ３０３”、”エフトップＥＦ３５１”および”エフトップＥＦ３５２”［三菱マテリアル電子化成（株）］が挙げられる。

重合性液晶組成物がレベリング剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶１００質量部に対して、０．０１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．０５質量部以上５質量部以下がより好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、重合性液晶を水平配向させることが容易であり、かつ、得られる偏光層がより平滑となる傾向がある。重合性液晶に対するレベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、得られる位相差層にムラが生じにくい傾向がある。

重合性液晶組成物は、１種以上の重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、重合性液晶の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカルまたは酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。

重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。

ベンゾイン化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテルが挙げられる。

ベンゾフェノン化合物としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンおよび２，４，６−トリメチルベンゾフェノンが挙げられる。

アルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマーが挙げられる。

アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドおよびビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。

トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンおよび２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンが挙げられる。

重合開始剤には、市販のものを用いることができる。市販の重合開始剤としては、”イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７”、”イルガキュア（登録商標）１８４”、”イルガキュア（登録商標）６５１”、”イルガキュア（登録商標）８１９”、”イルガキュア（登録商標）２５０”、”イルガキュア（登録商標）３６９”（チバ・ジャパン（株））；”セイクオール（登録商標）ＢＺ”、”セイクオール（登録商標）Ｚ”、”セイクオール（登録商標）ＢＥＥ”（精工化学（株））；”カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００”（日本化薬（株））；”カヤキュアー（登録商標）ＵＶＩ−６９９２”（ダウ社製）；”アデカオプトマーＳＰ−１５２”、”アデカオプトマーＳＰ−１７０”（（株）ＡＤＥＫＡ）；”ＴＡＺ−Ａ”、”ＴＡＺ−ＰＰ”（日本シイベルヘグナー社）；および”ＴＡＺ−１０４”（三和ケミカル社）が挙げられる。

重合性液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、その含有量は、該組成物に含有される重合性液晶の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。重合性開始剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶の配向を乱すことなく重合させることができる。

重合性液晶組成物が光重合開始剤を含有する場合、該組成物は光増感剤をさらに含有していてもよい。光増感剤としては、キサントン、チオキサントンなどのキサントン化合物（例えば、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなど）；アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセンなど)などのアントラセン化合物；フェノチアジンおよびルブレンが挙げられる。

重合性液晶組成物が光重合開始剤および光増感剤を含有する場合、該組成物に含有される重合性液晶の重合反応をより促進することができる。光増感剤の使用量は、光重合開始剤および重合性液晶の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。

重合性液晶の重合反応をより安定的に進行させるために、重合性液晶組成物は適量の重合禁止剤を含有してもよく、これにより、重合性液晶の重合反応の進行度合いを制御しやすくなる。

重合禁止剤としては、ハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコールなど）、ピロガロール、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。

重合性液晶組成物が重合禁止剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶の種類およびその量、並びに光増感剤の使用量などに応じて適宜調節できるが、重合性液晶１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。重合禁止剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶の配向を乱すことなく重合させることができる。

本光学フィルムを製造する場合、第一の位相差層及び第二の位相差層を形成する順序は任意である。

基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層を形成し、該第一の位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層を形成し、該第二の位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層を形成してもよい。
基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層を形成し、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層を形成してもよい。

第一の位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層が形成される場合、又は、第二の位相差層の上に配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層が形成される場合は、第一の位相差層と第二の位相差層との間に保護層があってもよい。

＜保護層＞
保護層は、通常、多官能アクリレート（メタクリレート）、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶剤とを含有する保護層形成用組成物から形成されることが好ましい。

保護層形成用組成物に含有される溶剤は、前記した溶剤と同様のものが挙げられ、中でも、水、アルコール溶剤およびエーテル溶剤からなる群より選ばれる少なくとも一つの溶剤が、保護層を形成する層を溶解させることがない点で、好ましい。アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。

保護層の厚さは、通常２０μｍ以下である。保護層の厚さは、０．５μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上５μｍ以下がより好ましい。保護層の厚さは、通常、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定によって求めることができる。

続いて、連続的に本光学フィルムを製造する方法について説明する。このような連続的に本光学フィルムを製造する好適な方法として、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式による方法が挙げられる。ここでは、重合性液晶を重合させることにより形成される位相差層の製造方法について説明するが、重合性液晶を重合させることにより形成される位相差層にかえて、延伸フィルムからなる位相差層を用いてもよい、この場合、下記製造工程における「重合性液晶組成物を塗布し」を「延伸フィルムを積層し」に読み替えればよい。
また、下記に代表的な構成の製造方法を例示するが、その他の構成は、下記製造方法に準じて実施すればよい。

（１）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３）該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第一の位相差層を形成する工程、
（５）前記（４）で得られた第一の位相差層の上に保護層を連続的に形成する工程、
（６）前記（５）で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
（７）前記（６）で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第二の位相差層を形成する工程、
（８）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程
を順に行う方法が挙げられる。なお、工程（３）、（５）及び（６）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６）における「前記（５）で得られた保護層」は、「該第一の位相差層」に、工程（７）における「前記（６）で得られた配向膜」は、「該第一の位相差層」又は「前記（５）で得られた保護層」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

また、
（１ａ）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２ａ）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３ａ）該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４ａ）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第二の位相差層を形成する工程、
（５ａ）前記（４ａ）で得られた第二の位相差層の上に保護層を連続的に形成する工程、（６ａ）前記（５ａ）で得られた保護層の上に配向膜を連続的に形成する工程、
（７ａ）前記（６ａ）で得られた配向膜の上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第一の位相差層を形成する工程、
（８ａ）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程を順に行う方法も挙げられる。なお、工程（３ａ）、（５ａ）及び（６ａ）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４ａ）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６ａ）における「前記（５ａ）で得られた保護層」は、「該第二の位相差層」に、工程（７ａ）における「前記（６ａ）で得られた配向膜」は、「該第二の位相差層」又は「前記（５ａ）で得られた保護層」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

また、
（１ｂ）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２ｂ）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３ｂ）該基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４ｂ）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第一の位相差層を形成する工程、
（５ｂ）前記（４ｂ）で得られた第一の位相差層と反対の基材面に配向膜を連続的に形成する工程、
（６ｂ）前記（５ｂ）で得られた配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第二の位相差層を形成する工程、
（７ｂ）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程を順に行う方法も挙げられる。なお、工程（３ｂ）、及び（５ｂ）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４ｂ）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６ｂ）における「前記（５ｂ）で得られた配向膜上」は、「前記（４ｂ）で得られた第一の位相差層と反対の基材面」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

また、
（１ｃ）透明基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２ｃ）該ロールから、該透明基材を連続的に送り出す工程、
（３ｃ）該透明基材上に配向膜を連続的に形成する工程、
（４ｃ）該配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第二の位相差層を形成する工程、
（５ｃ）前記（４ｃ）で得られた第二の位相差層と反対の基材面に配向膜を連続的に形成する工程、
（６ｃ）前記（５ｃ）で得られた配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、連続的に第一の位相差層を形成する工程、
（７ｃ）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程を順に行う方法も挙げられる。なお、工程（３ｃ）、及び（５ｃ）は、必要に応じて省略してもよく、この際、工程（４ｃ）における「該配向膜上」は、「該基材上」に、工程（６ｃ）における「前記（５ｃ）で得られた配向膜上」は、「前記（４ｃ）で得られた第二の位相差層と反対の基材面」に読み替える。また、搬送時のシワやカールを抑制するために、各工程におけるフィルム搬送時には、保護フィルムを貼合してもよい。

図１に、本光学フィルムの模式図を示す。図１（ｂ）は、基材、第一の位相差層及び、第二の位相差層が、この順番で積層された本光学フィルム１００である。図１（ｃ）は、基材、第二の位相差層及び、第一の位相差層が、この順番で積層された本光学フィルム１００である。図１（ｄ）は、第一の位相差層、基材及び、第二の位相差層が、この順番で積層された本光学フィルム１００である。

これら本光学フィルムから基材を取り除くことで基材を有さない本光学フィルムを得ることができる。また、第一の位相差層が延伸フィルムである場合は、該延伸フィルムの表面に、コーティング層である第二の位相差層を形成することで本光学フィルムを製造することができ、また、第二の位相差層が延伸フィルムである場合は、該延伸フィルムの表面に、コーティング層である第一の位相差層を形成することで本光学フィルムを製造することができる。基材を有さない本光学フィルムの模式図を図１（ａ）に示す。

また、第一の位相差層を有する基材と、第二の位相差層を有する基材を貼り合せることでも、本光学フィルムを製造することができる。具体例としては、図１（ｅ）、図１（ｆ）及び図１（ｇ）が挙げられる。貼り合せには、後述する接着剤を用いることができる。

＜接着剤＞
接着剤としては、例えば、粘着剤、水系接着剤及び活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。

粘着剤として一般的には、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、官能基を有する（メタ）アクリルモノマーを少量含有するアクリル系モノマー混合物を、重合開始剤の存在下にラジカル重合することにより得られ、ガラス転移温度Ｔｇが０℃以下のアクリル系樹脂と、架橋剤とを含有するアクリル系粘着剤が好ましく用いられる。

（メタ）アクリル酸エステルのなかでは、アクリル酸アルキルエステルが好ましく、中でも、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−メトキシエチルやアクリル酸エトキシメチルが好ましい。

アクリル系樹脂を構成するもう一つのモノマー成分となる官能基を有する（メタ）アクリルモノマーは、オレフィン性二重結合である（メタ）アクリロイル基を分子内に１個有するとともに、水酸基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、又はエポキシ基のような極性官能基を同一分子内に有する化合物である。なかでも、アクリロイル基がオレフィン性二重結合となるアクリルモノマーが好ましい。そのような官能基を有するアクリルモノマーの例を挙げると、水酸基を有するものとして、アクリル酸２−ヒドロキシエチルが好ましく、またカルボキシル基を有するものとして、アクリル酸が好ましい。

アクリル系樹脂の原料となるアクリルモノマー混合物は、上記の（メタ）アクリル酸エステル及び官能基を有する（メタ）アクリルモノマー以外のモノマー（以下、「第三モノマー」と呼ぶことがある）をさらに含有してもよい。その例としては、分子内に１個のオレフィン性二重結合と少なくとも１個の芳香環を有するモノマー、スチレン系モノマー、分子内に脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステル、ビニル系モノマー、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーなどが挙げられる。

とりわけ、分子内に１個のオレフィン性二重結合と少なくとも１個の芳香環を有するモノマーは、好ましいものの一つである。そのなかでも、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−フェノキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ノニルフェノールの（メタ）アクリレート、２−（ｏ−フェニルフェノキシ）エチル（メタ）アクリレートが好ましく。これらのなかでも、２−フェノキシエチルアクリレートがさらに好ましい。

（メタ）アクリル酸エステル及び官能基を有する（メタ）アクリルモノマー以外のモノマー（第三モノマー）は、それぞれ単独で用いてもよいし、異なる複数種を併用してもよい。これら第三モノマーに由来する構造単位は、アクリル系樹脂全体を基準に、通常０〜２０重量％の範囲で存在することができ、好ましくは０〜１０重量％である。

アクリル系粘着剤を構成するアクリル系樹脂は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍw が、１００万〜２００万の範囲にあることが好ましい。この重量平均分子量Ｍw が１００万以上であると、高温高湿下での接着性が向上し、液晶セルを構成するガラス基板と粘着剤層との間に浮きや剥がれの発生する可能性が小さくなる傾向にあり、しかもリワーク性が向上する傾向にあることから好ましい。また、アクリル系樹脂の上記重量平均分子量Ｍw が２００万以下であると、偏光板の寸法が変化しても、その寸法変化に粘着剤層が追随して変動するので、ディスプレイの光抜けや色ムラが抑制される傾向にあることから好ましい。さらに、重量平均分子量Ｍwと数平均分子量Ｍnとの比Ｍw／Ｍnで表される分子量分布は、３〜７の範囲にあることが好ましい。

アクリル系粘着剤に含有されるアクリル系樹脂は、上記のような比較的高分子量のものだけで構成することもできるが、それとは異なるアクリル系樹脂との混合物で構成することもできる。混合して用いることができるアクリル系樹脂の例を挙げると、上記式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位を主成分とし、重量平均分子量が５万〜３０万の範囲にあるものなどがある。

アクリル系粘着剤を構成する上記のアクリル系樹脂は、例えば、溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法、懸濁重合法など、公知の各種方法によって製造することができる。このアクリル系樹脂の製造においては通常、重合開始剤が用いられる。重合開始剤としては、アゾ系化合物、有機過酸化物、無機過酸化物、過酸化物と還元剤を併用したレドックス系開始剤などが挙げられる。なかでも、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル、過硫酸アンモニウムなどが好ましく用いられる。重合開始剤は、アクリル系樹脂の原料となるモノマーの総量１００質量部に対して、通常 ０.００１〜５質量部程度の割合で用いられる。

こうして得られるアクリル系樹脂に、架橋剤を配合して粘着剤とされる。架橋剤は、アクリル系樹脂中の極性官能基を有するモノマーに由来する構造単位と架橋反応し得る官能基を、分子内に少なくとも２個有する化合物であり、例えば、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、金属キレート系化合物、アジリジン系化合物などが挙げられる。

これらの架橋剤のなかでも、イソシアネート系化合物が好ましく用いられる。イソシアネート系化合物は、分子内にイソシアナト基（−ＮＣＯ）を少なくとも２個有する化合物それ自体のほか、それをポリオールに反応させたアダクト体、その二量体、三量体などの形で用いることができる。具体例を挙げると、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートをポリオールと反応させて得られるアダクト体、トリレンジイソシアネートの二量体、トリレンジイソシアネートの三量体、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートをポリオールと反応させて得られるアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートの二量体、ヘキサメチレンジイソシアネートの三量体などがある。

架橋剤は、アクリル系樹脂１００質量部に対して、通常 ０.０１〜５質量部程度の割合で配合され、とりわけ０.１〜５質量部、さらには０.２〜３質量部の割合で配合するのが好ましい。アクリル系樹脂１００質量部に対する架橋剤の配合量を ０.０１質量部以上、とりわけ ０.１質量部以上とすれば、粘着剤層の耐久性が向上する傾向にある。

粘着剤には、必要に応じて、他の成分を配合することもできる。配合しうる他の成分として、金属微粒子、金属酸化物微粒子、又は金属等をコーティングした微粒子のような、導電性の微粒子、イオン導電性組成物、有機のカチオン又はアニオンを有するイオン性化合物、シランカップリング剤、架橋触媒、耐候安定剤、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、染料、顔料、無機フィラー、上記アクリル系樹脂以外の樹脂、有機ビーズ等の光拡散性微粒子などが挙げられる。また、粘着剤に紫外線硬化性化合物を配合し、粘着剤層を形成した後に紫外線を照射して硬化させ、より硬い粘着剤層とすることも有用である。

粘着剤を構成するこれらの各成分は、通常、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶かした状態で粘着剤組成物として使用される。粘着剤組成物を、適当な基材上に塗布し、乾燥させることで、粘着剤層が得られる。一部、溶剤に溶解しない成分もあるが、それらは系中に分散した状態であればよい。

粘着剤層を本光学フィルム上に形成する方法としては、例えば、基材として剥離フィルムを用い、上記の粘着剤組成物を塗布して粘着剤層を形成し、得られる粘着剤層を本光学フィルムの表面に移設する方法、本光学フィルム表面に上記の粘着剤組成物を直接塗布して粘着剤層を形成する方法などが採用される。また、１枚の剥離フィルム上に粘着剤層を形成した後、さらにその粘着剤層の上に別の剥離フィルムを貼合して、両面セパレーター型粘着剤シートとすることもできる。このような両面セパレーター型粘着剤シートは、必要な時期に片側の剥離フィルムを剥がし、本光学フィルム上へ貼合される。両面セパレーター型粘着剤シートの市販品としては、例えば、リンテック株式会社や日東電工株式会社から販売されているノンキャリア粘着剤フィルムやノンキャリア粘着剤シートがある。

剥離フィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリプロピレン又はポリエチレンのような各種の樹脂からなるフィルムを基材とし、この基材の粘着剤層との接合面に、シリコーン処理のような離型処理が施されたものであることができる。このような剥離フィルムは、セパレートフィルム又はセパレーターとも呼ばれる。

粘着剤層の厚さは、５〜５０μmであるのが好ましく、さらには５〜３０μmであるのがより好ましい。粘着剤層の厚さを３０μｍ以下とすることにより、高温高湿下での接着性が向上し、ディスプレイと粘着剤層との間に浮きや剥がれの発生する可能性が低くなる傾向にあり、リワーク性も向上する傾向にある。また、その厚さを５μｍ以上とすることにより、そこに貼合されている偏光板の寸法が変化してもその寸法変化に粘着剤層が追随して変動するので、寸法変化に対する耐久性が向上する。

水系接着剤としては、例えば、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を用い、接着性を向上させるために、イソシアネート系化合物やエポキシ化合物のような架橋剤又は硬化性化合物を配合した組成物とするのが一般的である。

水系接着剤の主成分としてポリビニルアルコール系樹脂を用いる場合、部分ケン化ポリビニルアルコール及び完全ケン化ポリビニルアルコールのほか、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及びアミノ基変性ポリビニルアルコールのような、変性されたポリビニルアルコール系樹脂を用いてもよい。このようなポリビニルアルコール系樹脂の水溶液が水系接着剤として用いられるが、水系接着剤中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、水１００質量部に対して、通常１〜１０質量部であり、好ましくは１〜５質量部である。

ポリビニルアルコール系樹脂の水溶液からなる水系接着剤には、前記したように接着性を向上させるために、多価アルデヒド、水溶性エポキシ樹脂、メラミン系化合物、ジルコニア系化合物、及び亜鉛化合物のような硬化性化合物を配合することができる。水溶性エポキシ樹脂の例を挙げると、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミンのようなポリアルキレンポリアミンとアジピン酸のようなジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られる水溶性のポリアミドエポキシ樹脂がある。このようなポリアミドエポキシ樹脂の市販品として、住化ケムテックス株式会社から販売されている“スミレーズレジン６５０”及び“スミレーズレジン６７５”、日本ＰＭＣ株式会社から販売されている“ＷＳ−５２５”などがある。水溶性エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常１〜１００質量部程度であり、好ましくは１〜５０質量部である。

また、水系接着剤の主成分としてウレタン樹脂を用いる場合、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を水系接着剤の主成分とするのが有効である。ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分（親水成分）が導入されたものである。かかるアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに直接、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合するのが有効である。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を偏光板の接着剤とすることは、例えば、特開 ２００５−７０１４０号公報や特開２００５−２０８４５６号公報に記載されている。

水系接着剤を構成するこれらの各成分は、通常、水に溶かした状態で使用される。水系接着剤を、適当な基材上に塗布し、乾燥させることで、接着剤層が得られる。水に溶解しない成分は、系中に分散した状態であればよい。

前記接着剤層を本光学フィルム上に形成する方法としては、本光学フィルム表面に上記の接着剤組成物を直接塗布して接着剤層を形成する方法などが挙げられる。前記接着剤層の厚さは、通常０.００１〜５μm程度であり、好ましくは０.０１μm以上、また好ましくは２μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下である。接着剤層が厚すぎると、偏光板の外観不良となりやすい。

また、例えば、水系接着剤を偏光板と本光学フィルムの間に注入後、加熱することで水を蒸発させつつ、熱架橋反応を進行させることで両者に十分な接着性を与えることができる。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線の照射を受けて硬化し、偏光板と本光学フィルムとを、実用に足る強度で接着できるものであればよい。例えば、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物のようなカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物のようなラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、そこにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を配合した活性エネルギー線硬化型接着剤、及び開始剤を含まない活性エネルギー線硬化型接着剤に電子ビームを照射することで硬化させる電子線硬化型接着剤等が挙げられる。好ましくは、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤である。また、実質的に無溶剤で使用できる、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。

カチオン重合可能なエポキシ化合物であって、それ自身が室温において液体であり、溶剤を存在させなくても適度な流動性を有し、適切な硬化接着強度を与えるものを選択し、それに適したカチオン重合開始剤を配合した活性エネルギー線硬化型接着剤は、偏光板の製造設備において、偏光子と透明保護フィルムとを接着する工程で通常必要となる乾燥設備を省くことができる。また、適切な活性エネルギー線量を照射することで硬化速度を促進させ、生産速度を向上させることもできる。

このような接着剤に用いられるエポキシ化合物は、例えば、水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物、アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物、Ｃ−Ｃ二重結合を有する鎖状化合物のエポキシ化物、飽和炭素環に直接若しくはアルキレンを介してグリシジルオキシ基若しくはエポキシエチル基が結合しているか、又は飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物などであることができる。これらのエポキシ化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、異なる複数種を併用してもよい。なかでも脂環式エポキシ化合物は、カチオン重合性に優れることから、好ましく用いられる。

水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物は、例えば、これら芳香族化合物又は鎖状化合物の水酸基にエピクロロヒドリンを塩基性条件下で付加縮合させる方法によって製造できる。このような、水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物には、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル、多芳香環型エポキシ樹脂、アルキレングリコール又はポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテルなどが包含される。

ビスフェノール類のジグリシジルエーテルとして、例えば、ビスフェノールＡのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体、ビスフェノールＦのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体、３，３′，５，５′−テトラメチル−４，４′−ビフェノールのグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体などが挙げられる。

多芳香環型エポキシ樹脂として、例えば、フェノールノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、クレゾールノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、フェノールアラルキル樹脂のグリシジルエーテル化物、ナフトールアラルキル樹脂のグリシジルエーテル化物、フェノールジシクロペンタジエン樹脂のグリシジルエーテル化物などが挙げられる。さらに、トリスフェノール類のグリシジルエーテル化物及びそのオリゴマー体なども多芳香環型エポキシ樹脂に属する。

アルキレングリコール又はポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテルとして、例えば、エチレングリコールのグリシジルエーテル化物、ジエチレングリコールのグリシジルエーテル化物、１，４−ブタンジオールのグリシジルエーテル化物、１，６−ヘキサンジオールのグリシジルエーテル化物などが挙げられる。

アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物は、例えば、当該化合物のアミノ基にエピクロロヒドリンを塩基性条件下で付加縮合させる方法によって製造できる。アミノ基を有する化合物は、同時に水酸基を有していてもよい。このような、アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物には、１，３−フェニレンジアミンのグリシジルアミノ化物及びそのオリゴマー体、１，４−フェニレンジアミンのグリシジルアミノ化物及びそのオリゴマー体、３−アミノフェノールのグリシジルアミノ化及びグリジシジルエーテル化物並びにそのオリゴマー体、４−アミノフェノールのグリシジルアミノ化及びグリジシジルエーテル化物並びにそのオリゴマー体などが包含される。

Ｃ−Ｃ二重結合を有する鎖状化合物のエポキシ化物は、その鎖状化合物のＣ−Ｃ二重結合を、塩基性条件下で過酸化物を用いてエポキシ化する方法によって製造できる。Ｃ−Ｃ二重結合を有する鎖状化合物には、ブタジエン、ポリブタジエン、イソプレン、ペンタジエン、ヘキサジエンなどが包含される。また、二重結合を有するテルペン類もエポキシ化原料として用いることができ、非環式モノテルペンとして、リナロールなどがある。エポキシ化に用いられる過酸化物は、例えば、過酸化水素、過酢酸、tert−ブチルヒドロペルオキシドなどであることができる。

飽和炭素環に直接若しくはアルキレンを介してグリシジルオキシ基又はエポキシエチル基が結合している脂環式エポキシ化合物は、先に掲げたビスフェノール類を代表例とする水酸基を有する芳香族化合物の芳香環を水素化して得られる水素化ポリヒドロキシ化合物のグリシジルエーテル化物、水酸基を有するシクロアルカン化合物のグリシジルエーテル化物、ビニル基を有するシクロアルカン化合物のエポキシ化物などであることができる。

以上説明したエポキシ化合物は、市販品を容易に入手することが可能であり、例えばそれぞれ商品名で、三菱化学株式会社から販売されている“ｊＥＲ”シリーズ、ＤＩＣ株式会社から販売されている“エピクロン”、東都化成株式会社から販売されている“エポトート（登録商標）”、株式会社ＡＤＥＫＡから販売されている“アデカレジン（登録商標）”、ナガセケムテックス株式会社から販売されている“デナコール（登録商標）”、ダウケミカル社から販売されている“ダウエポキシ”、日産化学工業株式会社から販売されている“テピック（登録商標）”などが挙げられる。

一方、飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物は、例えば、Ｃ−Ｃ二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物のＣ−Ｃ二重結合を、塩基性条件下で過酸化物を用いてエポキシ化する方法によって製造できる。Ｃ−Ｃ二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物としては、例えば、シクロペンテン環を有する化合物、シクロヘキセン環を有する化合物、シクロペンテン環又はシクロヘキセン環にさらに少なくとも２個の炭素原子が結合して追加の環を形成している多環式化合物などが挙げられる。Ｃ−Ｃ二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物は、環外に別のＣ−Ｃ二重結合を有していてもよい。Ｃ−Ｃ二重結合を環内に有する非芳香族環状化合物の例を挙げると、シクロヘキセン、４−ビニルシクロヘキセン、単環式モノテルペンであるリモネン及びα−ピネンなどがある。

飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物は、上で述べたような環に直接結合したエポキシ基を有する脂環式構造が、適当な連結基を介して分子内に少なくとも２個形成された化合物であってもよい。ここでいう連結基には、例えば、エステル結合、エーテル結合、アルキレン結合などが包含される。

飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物の具体的な例を挙げると、次のようなものがある。
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、
１，２−エポキシ−４−エポキシエチルシクロヘキサン、
１，２−エポキシ−１−メチル−４−（１−メチルエポキシエチル）シクロヘキサン、 ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル （メタ）アクリレート、
２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールと４−エポキシエチル−１，２−エポキシシクロヘキサンとの付加物、
エチレン ビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、
オキシジエチレン ビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、
１，４−シクロヘキサンジメチル ビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、
３−（３，４−エポキシシクロヘキシルメトキシカルボニル）プロピル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートなど。

以上説明した飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物も、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、株式会社ダイセルから販売されている“セロキサイド”シリーズ及び“サイクロマー”、ダウケミカル社から販売されている“サイラキュア UVR”シリーズなどが挙げられる。

エポキシ化合物を含有する硬化性接着剤は、さらにエポキシ化合物以外の活性エネルギー線硬化性化合物を含有してもよい。エポキシ化合物以外の活性エネルギー線硬化性化合物としては、例えば、オキセタン化合物やアクリル化合物などが挙げられる。なかでも、カチオン重合において硬化速度を促進できる可能性があることから、オキセタン化合物を併用することが好ましい。

オキセタン化合物は、分子内に４員環エーテルを有する化合物であり、例えば、次のようなものを挙げることができる。
１，４−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシメチル〕ベンゼン、
３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン、
ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、
３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、
３−エチル−３−（シクロヘキシルオキシメチル）オキセタン、
フェノールノボラックオキセタン、
１，３−ビス〔（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ〕ベンゼンなど。

オキセタン化合物も、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、東亞合成株式会社から販売されている“アロンオキセタン（登録商標）”シリーズ、宇部興産株式会社から販売されている“ETERNACOLL（登録商標）”シリーズなどが挙げられる。

エポキシ化合物やオキセタン化合物を包含する硬化性化合物は、これらが配合された接着剤を無溶剤とするために、有機溶剤などで希釈されていないものを用いることが好ましい。また、接着剤を構成する他の成分であって、後述するカチオン重合開始剤や増感剤を包含する少量成分も、有機溶剤に溶解されたものよりも、有機溶剤が除去・乾燥されたその化合物単独の粉体又は液体を用いることが好ましい。

カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線、例えば紫外線の照射を受けてカチオン種を発生する化合物である。それが配合された接着剤に求められる接着強度及び硬化速度を与えるものであればよいが、例えば、芳香族ジアゾニウム塩；芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩；鉄−アレーン錯体などが挙げられる。これらのカチオン重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよいし、異なる複数種を併用してもよい。

芳香族ジアゾニウム塩としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、
ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロボレートなど。

芳香族ヨードニウム塩としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、
ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ノニルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロホスフェートなど。

芳香族スルホニウム塩としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、
トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
トリフェニルスルホニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
ジフェニル（４−フェニルチオフェニル）スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
４，４′−ビス（ジフェニルスルホニオ）ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、
４，４′−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシフェニル）スルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、
４，４′−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシフェニル）スルホニオ〕ジフェニルスルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、
７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントン ヘキサフルオロアンチモネート、
７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントン テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
４−フェニルカルボニル−４′−ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロホスフェート、
４−（ｐ−tert−ブチルフェニルカルボニル）−４′−ジフェニルスルホニオジフェニルスルフィド ヘキサフルオロアンチモネート、
４−（ｐ−tert−ブチルフェニルカルボニル）−４′−ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ−ジフェニルスルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなど。

鉄−アレーン錯体としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
キシレン−シクロペンタジエニル鉄（II） ヘキサフルオロアンチモネート、
クメン−シクロペンタジエニル鉄（II） ヘキサフルオロホスフェート、
キシレン−シクロペンタジエニル鉄（II） トリス（トリフルオロメチルスルホニル）メタナイドなど。

カチオン重合開始剤のなかでも、芳香族スルホニウム塩は、３００nm以上の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械強度や接着強度を有する接着剤層を与えることができるため、好ましく用いられる。

カチオン重合開始剤も、市販品を容易に入手することが可能であり、例えば、それぞれ商品名で、日本化薬株式会社から販売されている“カヤラッド（登録商標）”シリーズ、ダウケミカル社から販売されている“サイラキュア UVI”シリーズ、サンアプロ株式会社から販売されている光酸発生剤“ＣＰＩ”シリーズ、みどり化学株式会社から販売されている光酸発生剤“ＴＡＺ”、“ＢＢＩ”及び“ＤＴＳ”、株式会社ＡＤＥＫＡから販売されている“アデカオプトマー”シリーズ、ローディア社から販売されている“RHODORSIL（登録商標）” などが挙げられる。

活性エネルギー線硬化型接着剤において、カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量１００質量部に対して、通常 ０.５〜２０質量部の割合で配合され、好ましくは１〜１５質量部である。その量があまり少ないと、硬化が不十分になり、接着剤層の機械強度や接着強度を低下させることがある。また、その量が多すぎると、接着剤層中のイオン性物質が増加することで接着剤層の吸湿性が高くなり、得られる偏光板の耐久性能を低下させることがある。

活性エネルギー線硬化型接着剤を電子線硬化型で用いる場合、組成物中に光重合開始剤を含有させることは特に必要ではないが、紫外線硬化型で用いる場合には、光ラジカル発生剤を用いることが好ましい。光ラジカル発生剤としては、水素引き抜き型光ラジカル発生剤と開裂型光ラジカル発生剤とが挙げられる。

水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、例えば１−メチルナフタレン、２−メチルナフタレン、１−フルオロナフタレン、１−クロロナフタレン、２−クロロナフタレン、１−ブロモナフタレン、２−ブロモナフタレン、１−ヨードナフタレン、２−ヨードナフタレン、１−ナフトール、２−ナフトール、１−メトキシナフタレン、２−メトキシナフタレン、１，４−ジシアノナフタレンなどのナフタレン誘導体、アントラセン、１，２−ベンズアントラセン、９，１０−ジクロロアントラセン、９，１０−ジブロモアントラセン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９−シアノアントラセン、９，１０−ジシアノアントラセン、２，６，９，１０−テトラシアノアントラセンなどのアントラセン誘導体、ピレン誘導体、カルバゾール、９−メチルカルバゾール、９−フェニルカルバゾール、９−プロペ−２−イニル−９Ｈ−カルバゾール、９−プロピル−９Ｈ−カルバゾール、９−ビニルカルバゾール、９Ｈ−カルバゾール−９−エタノール、９−メチル−３−ニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−メチル−３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−オクタノイルカルバゾール、９−カルバゾールメタノール、９−カルバゾールプロピオン酸、９−カルバゾールプロピオニトリル、９−エチル−３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、９−エチル−３−ニトロカルバゾール、９−エチルカルバゾール、９−イソプロピルカルバゾール、９−（エトキシカルボニルメチル）カルバゾール、９−（モルホリノメチル）カルバゾール、９−アセチルカルバゾール、９−アリルカルバゾール、９−ベンジル−９Ｈ−カルバゾール、９−カルバゾール酢酸、９−（２−ニトロフェニル）カルバゾール、９−（４−メトキシフェニル）カルバゾール、９−（１−エトキシ−２−メチル−プロピル）−９Ｈ−カルバゾール、３−ニトロカルバゾール、４−ヒドロキシカルバゾール、３，６−ジニトロ−９Ｈ−カルバゾール、３，６−ジフェニル−９Ｈ−カルバゾール、２−ヒドロキシカルバゾール、３，６−ジアセチル−９−エチルカルバゾールなどのカルバゾール誘導体、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメトキシ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸メチルエステル、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘導体、芳香族カルボニル化合物、［４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル］−フェニルメタノン、キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントンなどのチオキサントン誘導体やクマリン誘導体などが挙げられる。

開裂型光ラジカル発生剤は、活性エネルギー線を照射することにより当該化合物が開裂してラジカルを発生するタイプの光ラジカル発生剤であり、その具体例として、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体などのアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸Ｓ−フェニル類、チタノセン類、およびそれらを高分子量化した誘導体が挙げられるがこれに限定されるものではない。市販されている開裂型光ラジカル発生剤としては、１−（４−ドデシルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−（４−イソプロピルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−ベンゾイル−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−［４−（アクリロイルオキシエトキシ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、ジフェニルケトン、フェニル−１−ヒドロキシ−シクロヘキシルケトン、ベンジルジメチルケタール、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−ピリル−フェニル）チタン、（η６−イソプロピルベンゼン）−（η５−シクロペンタジエニル）−鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシ−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）−ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシドまたはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニル−ホスフィンオキシド、（４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン、４−（メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタンなどが挙げられるがこれに限定されるものではない。

本発明で使用される活性エネルギー硬化型接着剤の中で、電子線硬化型に含まれる光ラジカル発生剤、すなわち水素引き抜き型または開裂型光ラジカル発生剤は、いずれもそれぞれ単独で用いることができる他、複数を組み合わせて用いても良いが、光ラジカル発生剤単体の安定性や、硬化性の面でより好ましいものは開裂型光ラジカル発生剤の１種以上の組み合わせである。開裂型光ラジカル発生剤の中でもアシルホスフィンオキシド類が好ましく、より具体的には、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（商品名「ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ」；チバ・ジャパン（株））、ビス（２，６−ジメトキシ−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）−ホスフィンオキシド（商品名「ＣＧＩ ４０３」；チバ・ジャパン（株））、またはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド（商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９」；チバ・ジャパン（株））が好ましい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、必要に応じて増感剤を含有することができる。増感剤を使用することにより、反応性が向上し、接着剤層の機械強度や接着強度をさらに向上させることができる。増感剤としては、前述したものを適宜適用できる。

増感剤を配合する場合、その配合量は、活性エネルギー線硬化型接着剤の総量１００質量部に対し、０.１〜２０質量部の範囲とすることが好ましい。

活性エネルギー線硬化型接着剤には、その効果を損なわない範囲で各種の添加剤を配合することができる。配合しうる添加剤として、例えば、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤などが挙げられる。

活性エネルギー線硬化型接着剤を構成するこれらの各成分は、通常、溶剤に溶かした状態で使用される。活性エネルギー線硬化型接着剤が溶剤を含む場合、活性エネルギー線硬化型接着剤を適当な基材上に塗布し、乾燥させることで、接着剤層が得られる。溶剤に溶解しない成分は、系中に分散した状態であればよい。

前記接着剤層を本光学フィルム上に形成する方法としては、本光学フィルム表面に上記の接着剤組成物を直接塗布して接着剤層を形成する方法などが挙げられる。前記接着剤層の厚さは、通常０.００１〜５μm程度であり、好ましくは０.０１μm以上、また好ましくは４μｍ以下、さらに好ましくは３μｍ以下である。接着剤層が厚すぎると、偏光板の外観不良となりやすい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、前述した塗布方法によりフィルムに塗工することができる。この際、活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度としては、種々方法で塗工できる粘度を有するものであればよいが、その温度２５℃における粘度は、１０〜３０,０００mPa・sec の範囲にあることが好ましく、５０〜６,０００mPa・sec の範囲にあることがより好ましい。その粘度があまり小さいと、ムラのない均質な塗膜が得られにくくなる傾向にある。一方、その粘度があまり大きいと、流動しにくくなって、同じくムラのない均質な塗膜が得られにくくなる傾向にある。ここでいう粘度は、Ｂ型粘度計を用いてその接着剤を２５℃に調温した後、６０rpm で測定される値である。

上記活性エネルギー線硬化型接着剤は、電子線硬化型、紫外線硬化型の態様で用いることができる。本発明の活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられる。

電子線硬化型において、電子線の照射条件は、上記活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５ｋＶ〜３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０ｋＶ〜２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、透明保護フィルムや偏光子に損傷を与えるおそれがある。照射線量としては、５〜１００ｋＧｙ、さらに好ましくは１０〜７５ｋＧｙである。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、透明保護フィルムや偏光子に損傷を与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所望の光学特性を得ることができない。

電子線照射は、通常、不活性ガス中で照射を行うが、必要であれば大気中や酸素を少し導入した条件で行ってもよい。透明保護フィルムの材料によるが、酸素を適宜導入することによって、最初に電子線があたる透明保護フィルム面にあえて酸素阻害を生じさせ、透明保護フィルムへのダメージを防ぐことができ、接着剤にのみ効率的に電子線を照射させることができる。

紫外線硬化型において、活性エネルギー線硬化型接着剤の光照射強度は、接着剤の組成ごとに決定されるものであって特に限定されないが、１０〜５０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましい。樹脂組成物への光照射強度が１０ｍＷ／ｃｍ²未満であると、反応時間が長くなりすぎ、５０００ｍＷ／ｃｍ²を超えると、光源から輻射される熱および組成物の重合時の発熱により、接着剤の構成材料の黄変や偏光子の劣化を生じる可能性がある。
なお、照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度であり、より好ましくは波長４００ｎｍ以下の波長領域における強度であり、さらに好ましくは波長２８０〜３２０ｎｍの波長領域における強度である。このような光照射強度で１回あるいは複数回照射して、その積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ²以上、好ましくは１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ²となるように設定されることが好ましい。上記接着剤への積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ²未満であると、重合開始剤由来の活性種の発生が十分でなく、接着剤の硬化が不十分となる。一方でその積算光量が５，０００ｍＪ／ｃｍ²を超えると、照射時間が非常に長くなり、生産性向上には不利なものとなる。この際、使用するフィルムや接着剤種の組み合わせなどによって、どの波長領域（ＵＶＡ（３２０〜３９０ｎｍ）やＵＶＢ（２８０〜３２０ｎｍ）など）での積算光量が必要かは異なる。

本発明における活性エネルギー線の照射により接着剤の重合硬化を行うために用いる光源は、特に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。エネルギーの安定性や装置の簡便さという観点から、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する紫外光源であることが好ましい。

[円偏光板]
本光学フィルムは偏光板と組み合わせることで、本光学フィルムと偏光板とを備える円偏光板（以下、本円偏光板ということがある。）を得ることができる。本光学フィルムと偏光板とは、通常、接着剤で貼り合わされる。好ましくは活性エネルギー線硬化型接着剤で貼り合わされる。
本円偏光板は、本光学フィルムの第一の位相差層の遅相軸（光軸）に対して、偏光板の透過軸が実質的に４５°となるように設定されるのが好ましい。実質的に４５°とは、通常４５±５°の範囲である。図３に、本円偏光板１１０の模式図を示す。

図２で示す本円偏光板で用いる偏光板は、偏光子の片面に保護フィルムを有するものでもよく、偏光子の両面に保護フィルムを有するものであってもよい。図２（ｃ）〜図２（ｈ）は基材上に第一及び第二の位相差層を形成した本光学フィルムからなる円偏光板であり、これらの基材は、偏光子の片面に保護フィルムを有する偏光板を用いた場合の他方の面の保護フィルムとしての機能も果たすことができる。図２（ａ）及び図２（ｂ）で示す構成は基材を有さない本光学フィルムを積層してなるが、偏光板上に重合性液晶組成物を直接塗布して位相差層を形成してもよく、偏光子面に接着剤を用いて位相差層を貼合してもよく、偏光板上に接着剤を用いて位相差層を貼合してもよい。

偏光子面又は偏光板等のその他の基材へ、基材を有さない本光学フィルムを貼合する方法としては、基材を取り除いた本光学フィルムを、接着剤を用いてその他の基材へ貼合する方法、及び、本光学フィルムを、接着剤を用いてその他の基材へ貼合した後に基材を取り除く方法等が挙げられる。この際、接着剤は、本光学フィルムが有する位相差層側に塗布されてもよく、また、その他の基材側へ塗布されてもよい。基材と、位相差層との間に配向膜がある場合は、基材と共に配向膜も取り除いてもよい。

位相差層又は配向膜等と化学結合を形成する官能基を表面に有する基材は、位相差層又は配向膜等と化学結合を形成し、取り除き難くなる傾向がある。よって基材を剥離して取り除く場合は、表面の官能基が少ない基材が好ましく、また、表面に官能基を形成する表面処理を施していない基材が好ましい。
また、基材と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、基材と配向膜との密着力が大きくなる傾向があるため、基材を剥離して取り除く場合は、基材と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。また、基材と配向膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましく、さらに、配向性ポリマー組成物及び光配向膜形成用組成物等の溶液には基材を溶解する、溶剤等の成分が含まれないことが好ましい。
また、位相差層と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、位相差層と配向膜との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材と共に配向膜を取り除く場合は、位相差層と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。また、位相差層及び配向膜には、位相差層と配向膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましい。
また、配向膜と化学結合を形成する官能基を有する位相差層は、配向膜と位相差層との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材を取り除く場合又は、基材と共に配向膜を取り除く場合は、基材又は配向膜と化学結合を形成する官能基が少ない位相差層が好ましい。また、重合性液晶組成物は、好ましくは基材又は配向膜と位相差層とを架橋する試薬を含まない。

例えば、基材、第二の位相差層及び、第一の位相差層がこの順番で積層された本光学フィルムの第一の位相差層の表面に接着剤を塗布し、そこへ偏光板を貼合し、その後、本光学フィルムの基材を取り除くことで、偏光板、第一の位相差層及び、第二の位相差層がこの順番で積層された、図２（ａ）で示される構成の円偏光板を製造することができる。また、基材、第一の位相差層及び、第二の位相差層がこの順番で積層された本光学フィルムの第二の位相差層の表面に接着剤を塗布し、そこへ偏光板を貼合し、その後、本光学フィルムの基材を取り除くことで、偏光板、第二の位相差祖及び、第一の位相差層がこの順番で積層された、図２（ｂ）で示される構成の円偏光板を製造することができる。
図２（ｉ）〜図２（ｎ）で示す構成は、基材を２枚有する本光学フィルムを積層してなるものである。

本円偏光板は、さまざまな表示装置に用いることができるが、特に、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、およびタッチパネルを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置に有効に用いることができる。

＜偏光板＞
偏光板は、偏光機能を有するフィルムであればよい。当該フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として含むフィルムは通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造された偏光子の少なくとも一方の面に接着剤を介して透明保護フィルムで挟み込むことで作製される。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１,０００〜１０,０００程度であり、好ましくは１,５００〜５,０００の範囲である。

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光板の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、例えば、１０〜１５０μｍ程度とすることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後で行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常３〜８倍程度である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法によって行われる。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性有機染料には、 C.I. DIRECT RED 39 などのジスアゾ化合物からなる二色性直接染料、トリスアゾ、テトラキスアゾなどの化合物からなる二色性直接染料が包含される。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に、水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水１００質量部あたり、通常 ０.０１〜１質量部程度である。またヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常 ０.５〜２０質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常２０〜４０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常２０〜１,８００秒程度である。

一方、二色性色素として二色性の有機染料を用いる場合は通常、水溶性二色性染料を含む水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。
この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水１００質量部あたり、通常１×１０^-4〜１０質量部程度であり、好ましくは１×１０^-3〜１質量部であり、さらに好ましくは１×１０^-3〜１×１０^-2質量部である。この水溶液は、硫酸ナトリウムのような無機塩を染色助剤として含んでいてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常２０〜８０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常１０〜１,８００秒程度である。

二色性色素による染色後のホウ酸処理は通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬する方法により行うことができる。このホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水１００質量部あたり、通常２〜１５質量部程度であり、好ましくは５〜１２質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いた場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましく、その場合のヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常 ０.１〜１５質量部程度であり、好ましくは５〜１２質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常 ６０〜１,２００秒程度であり、好ましくは１５０〜６００秒、さらに好ましくは２００〜４００秒である。ホウ酸処理の温度は、通常５０℃以上であり、好ましくは５０〜８５℃、さらに好ましくは６０〜８０℃である。

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬する方法により行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常５〜４０℃程度である。
また浸漬時間は、通常１〜１２０秒程度である。

水洗後に乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は例えば、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常３０〜１００℃程度であり、好ましくは５０〜８０℃である。乾燥処理の時間は、通常６０〜６００秒程度であり、好ましくは１２０〜６００秒である。乾燥処理により、偏光子の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常５〜２０重量％程度であり、好ましくは８〜１５重量％である。水分率が５重量％を下回ると、偏光子の可撓性が失われ、偏光子がその乾燥後に損傷したり、破断したりすることがある。また、水分率が２０重量％を上回ると、偏光子の熱安定性が悪くなる可能性がある。

こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚は好ましくは５〜４０μｍである。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は、二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、好ましくは、その片面又は両面に保護フィルムを有する。
当該保護フィルムとしては、上記した基材と同一のものが挙げられる。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。

前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開２０１２−３３２４９号公報等に記載のフィルムが挙げられる。

このようにして得られた偏光子の少なくとも一方の面に、接着剤を介して透明保護フィルムを積層することにより偏光板が得られる。透明保護フィルムとしては、前述した基材と同様の透明フィルムを好ましく用いることができるし、本発明の光学フィルムを用いることもできる。

本光学フィルム及び本円偏光板は、さまざまな表示装置に用いることができる。
表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）および圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置および投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に本円偏光板は有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に有効に用いることができ、本光学補償偏光板は液晶表示装置及びタッチパネル表示装置に有効に用いることができる。

図３は、本円偏光板を備えた有機ＥＬ表示装置２００の概略図である。
図３（ａ）は、偏光板６、第一の位相差層１、第二の位相差層２及び有機ＥＬパネル７が、この順番で積層された有機ＥＬ表示装置２００である。図３（ｃ）は、偏光板６、基材３、第一の位相差層１、第二の位相差層２及び有機ＥＬパネル７が、この順番で積層された有機ＥＬ表示装置２００である。図３（ｂ）、（ｄ）〜（ｈ）は、図５（ａ）及び（ｃ）とは積層順が異なる。
偏光板と、本光学フィルムと、有機ＥＬパネルとを積層する方法としては、偏光板と本光学フィルムとを積層した本円偏光板を、有機ＥＬパネルに貼合する方法、及び、有機ＥＬパネルに本光学フィルムを貼合し、さらに該本光学フィルムの表面に偏光板を貼合する方法等が挙げられる。貼合には、通常、接着剤が用いられる。
例えば、図３（ａ）で示される有機ＥＬ表示装置２００は、図２（ａ）で示される本円偏光板の第二の位相差層２の表面に接着剤を塗布し、そこへ有機ＥＬパネル７を貼合することで製造することができる。また、図３（ａ）で示される有機ＥＬ表示装置２００は、図１（ｂ）で示される本光学フィルムの第二の位相差層２の表面に接着剤を塗布し、そこへ有機ＥＬパネル７を貼合し、本光学フィルムの基材３を取り除き、基材を取り除くことで現れた第一の位相差層１の表面に接着剤を塗布し、そこへ偏光板６を貼合することでも製造することができる。

図４は、有機ＥＬ表示装置３０を表わす概略図である。図４（ａ）で示した有機ＥＬ表示装置３０は、本円偏光板３１を備えており、層間絶縁膜３３を介して、画素電極３４が形成された基板３２上に、発光層３５、およびカソード電極３６が積層されたものである。基板３２を挟んで発光層３５と反対側に、本円偏光板３１が配置される。画素電極３４にプラスの電圧、カソード電極３６にマイナスの電圧を加え、画素電極３４およびカソード電極３６間に直流電流を印加することにより、発光層３５が発光する。発光層３５は、電子輸送層、発光層および正孔輸送層などからなる。発光層３５から出射した光は、画素電極３４、層間絶縁膜３３、基板３２、本円偏光板３１を通過する。

有機ＥＬ表示装置３０を製造するには、まず、基板３２上に薄膜トランジスタ３８を所望の形状に形成する。そして層間絶縁膜３３を成膜し、次いで画素電極３４をスパッタ法で成膜し、パターニングする。その後、発光層３５を積層する。

次いで、基板３２の薄膜トランジスタ３８が設けられている面の反対の面に、本円偏光板３１を設ける。その場合には、本円偏光板３１における偏光板が、外側（基板３２の反対側）になるように配置される。

基板３２としては、サファイアガラス基板、石英ガラス基板、ソーダガラス基板およびアルミナなどのセラミック基板；銅などの金属基板；プラスチック基板などが挙げられる。図示はしないが、基板３２上に熱伝導性膜を形成してもよい。熱伝導性膜としては、ダイヤモンド薄膜（ＤＬＣなど）などが挙げられる。画素電極３４を反射型とする場合は、基板３２とは反対方向へ光が出射する。したがって、透明材料だけでなく、ステンレスなどの非透過材料を用いることができる。基板は単一で形成されていてもよく、複数の基板を接着剤で貼り合わせて積層基板として形成されていていてもよい。また、これらの基板は、板状のものに限定するものではなく、フィルムであってもよい。

薄膜トランジスタ３８としては、例えば、多結晶シリコントランジスタなどを用いればよい。薄膜トランジスタ３８は、画素電極３４の端部に設けられ、その大きさは１０〜３０μｍ程度である。なお、画素電極３４の大きさは２０μｍ×２０μｍ〜３００μｍ×３００μｍ程度である。

基板３２上には、薄膜トランジスタ３８の配線電極が設けられている。配線電極は抵抗が低く、画素電極３４と電気的に接続して抵抗値を低く抑える機能があり、一般的にはその配線電極は、Ａｌ、Ａｌおよび遷移金属（ただしＴｉを除く）、Ｔｉまたは窒化チタン（ＴｉＮ）のいずれか１種または２種以上を含有するものが使われる。

薄膜トランジスタ３８と画素電極３４との間には層間絶縁膜３３が設けられる。層間絶縁膜３３は、ＳｉＯ_２などの酸化ケイ素、窒化ケイ素などの無機系材料をスパッタや真空蒸着で成膜したもの、ＳＯＧ（スピン・オン・グラス）で形成した酸化ケイ素層、フォトレジスト、ポリイミドおよびアクリル樹脂などの樹脂系材料の塗膜など、絶縁性を有するものであればいずれであってもよい。

層間絶縁膜３３上に、リブ３９を形成する。リブ３９は、画素電極３４の周辺部（隣接画素間）に配置されている。リブ３９の材料としては、アクリル樹脂およびポリイミド樹脂などが挙げられる。リブ３９の厚みは、好ましくは１．０μｍ以上３．５μｍであり、より好ましくは１．５μｍ以上２．５μｍ以下である。

次に、画素電極３４と、発光層３５と、カソード電極３６とからなるＥＬ素子について説明する。発光層３５は、それぞれ少なくとも１層のホール輸送層および発光層を有し、例えば、電子注入輸送層、発光層、正孔輸送層および正孔注入層を順次有する。

画素電極３４としては、例えば、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）、ＩＧＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２およびＩｎ_２Ｏ_３などが挙げられるが、特にＩＴＯやＩＺＯが好ましい。画素電極３５の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すればよく、１０〜５００ｎｍ程度とすることが好ましい。

画素電極３４は、蒸着法（好ましくはスパッタ法）により形成することができる。スパッタガスとしては、特に制限するものではなく、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、ＫｒおよびＸｅなどの不活性ガス、あるいはこれらの混合ガスを用いればよい。

カソード電極３６の構成材料としては例えば、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、ＺｎおよびＺｒなどの金属元素が用いられればよいが、電極の作動安定性を向上させるためには、例示した金属元素から選ばれる２成分または３成分の合金系を用いることが好ましい。合金系としては、例えばＡｇ・Ｍｇ（Ａｇ：１〜２０ａｔ％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．３〜１４ａｔ％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０〜８０ａｔ％）およびＡｌ・Ｃａ（Ｃａ：５〜２０ａｔ％）などが好ましい。

カソード電極３６は、蒸着法およびスパッタ法などにより形成される。カソード電極３７の厚さは、０．１ｎｍ以上、好ましくは１〜５００ｎｍ以上であることが好ましい。

正孔注入層は、画素電極３４からの正孔の注入を容易にする機能を有し、正孔輸送層は、正孔を輸送する機能および電子を妨げる機能を有し、電荷注入層や電荷輸送層とも称される。

発光層の厚さ、正孔注入層と正孔輸送層とを併せた厚さ、および電子注入輸送層の厚さは特に限定されず、形成方法によっても異なるが、５〜１００ｎｍ程度とすることが好ましい。正孔注入層や正孔輸送層には、各種有機化合物を用いることができる。正孔注入輸送層、発光層および電子注入輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できる点で真空蒸着法を用いることができる。

発光層３５としては、１重項励起子からの発光（蛍光）を利用するもの、３重項励起子からの発光（燐光）を利用するもの、１重項励起子からの発光（蛍光）を利用するものと３重項励起子からの発光（燐光）を利用するものとを含むもの、有機物によって形成されたもの、有機物によって形成されたものと無機物によって形成されたものとを含むもの、高分子の材料、低分子の材料、高分子の材料と低分子の材料とを含むものなどを用いることができる。ただし、これに限定されず、ＥＬ素子用として公知の様々なものを用いた発光層３５を、有機ＥＬ表示装置３０に用いることができる。

カソード電極３６と封止層３７との空間には、乾燥剤（図示しない）を配置する。これは、発光層３５は湿度に弱いためである。乾燥剤により水分を吸収し発光層３５の劣化を防止する。

図４（ｂ）で示した本発明の有機ＥＬ表示装置３０は、本円偏光板３１を備えており、層間絶縁膜３３を介して、画素電極３４が形成された基板３２上に、発光層３５、およびカソード電極３６が積層されたものである。カソード電極上に封止層３７が形成され、基板３２と反対側に、本円偏光板３１が配置される。発光層３５から出射した光は、カソード電極３６、封止層３７、本円偏光板３１を通過する。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」および「部」は、特記ない限り、質量％および質量部である。
シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）には、日本ゼオン株式会社製のＺＦ−１４を用いた。
ケン化済みトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）には、コニカミノルタ株式会社製のＫＣ４ＵＹを用いた。
コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ−Ｂ１０を用いた。
コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。
偏光ＵＶ照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光子ユニット付ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７を用いた。
レーザー顕微鏡には、オリンパス株式会社製のＬＥＸＴを用いた。
高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａを用いた。
位相差値は、王子計測機器社製のＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて測定した。

実施例１
［光配向膜形成用組成物の調製］
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物（１）を得た。
光配向性材料（５部）：

溶剤（９５部）：シクロペンタノン

［配向性ポリマー組成物（１）の調製］
配向性ポリマー組成物（１）の組成を、表１に示す、市販の配向性ポリマーであるサンエバーＳＥ−６１０（日産化学工業株式会社製）に２−ブトキシエタノールを加えて配向性ポリマー組成物（１）を得た。

［配向性ポリマー組成物（２）の調製］
配向性ポリマー組成物（２）の組成を、表１に示す、市販のポリビニルアルコール (ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)に水を加えて１００℃で１時間加熱し、配向性ポリマー組成物（２）を得た。

表１における値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。ＳＥ−６１０については、固形分量を納品仕様書に記載の濃度から換算した。

［組成物（Ａ−１）の調製］
下記の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、組成物（Ａ−１）を得た。

重合性液晶Ａ１および重合性液晶Ａ２は、特開２０１０−３１２２３号公報記載の方法で合成した。
重合性液晶Ａ１（８０部）：

重合性液晶Ａ２（２０部）：

重合開始剤（６部）：
２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製）
レベリング剤（０．１部）：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）
溶剤：シクロペンタノン（４００部）

［組成物（Ｂ−１）の調製］
組成物（Ｂ−１）の組成を表２に示す。各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却し、組成物（Ｂ−１）を得た。

表２における括弧内の値は、調製した組成物の全量に対する各成分の含有割合を表す。表２におけるＬＲ９０００は、ＢＡＳＦジャパン社製のＬａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００を、Ｉｒｇ９０７は、ＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア（登録商標）９０７を、ＢＹＫ３６１Ｎは、ビックケミージャパン製のレベリング剤を、ＬＣ２４２は、下記式で示されるＢＡＳＦ社製の重合性液晶を、ＰＧＭＥＡは、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタートを表す。

［第一の位相差層（１−１）の製造］
シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ−１４、日本ゼオン株式会社製）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、光配向膜形成用組成物（１）をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。続いて、配向膜上に組成物（Ａ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより第一の位相差層（１−１）を形成し、位相差フィルム（１）を得た。得られた位相差フィルム（１）の位相差値を測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝７２ｎｍであった。また、波長４５０ｎｍならびに波長６５０ｎｍの位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４１ｎｍであった。各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８７
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０２
すなわち、第一の位相差層（１−１）は下記式（１）、（２）及び（４）で表される光学特性を有した。なお、ＣＯＰの波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、当該複屈折率の関係には影響しない。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）

［第二の位相差層（２−１）の製造］
ＣＯＰの表面を、コロナ処理装置を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、配向性ポリマー組成物（１）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥し、配向膜を得た。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、３４ｎｍであった。続いて、配向膜上に組成物（Ｂ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、温度：２５℃、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより第二の位相差層（２−１）を形成し、位相差フィルム（２）を得た。得られた第二の位相差層（２−１）の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は４５０ｎｍであった。また、得られた位相差フィルム（２）の波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したところＲｅ（５５０）＝１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝−７０ｎｍであった。であった。すなわち、第二の位相差層（２−１）は下記式（３）で表される光学特性を有した。なお、ＣＯＰの波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、当該光学特性には影響しない。
ｎ_x≒ｎ_y＜ｎ_z （３）

［光学フィルム（１）の製造］
第一の位相差層（１−１）の製造と同様の方法で、ＣＯＰ上に第一の位相差層（１−２）を形成した。次に、第一の位相差層（１−２）面をコロナ処理した後、その上に第二の位相差層（２−１）の製造と同様の方法で、第二の位相差層（２−２）を形成した。すなわち、ＣＯＰ、第一の位相差層（１−２）及び第二の位相差層（２−２）がこの順番で積層された光学フィルム（１）を得た。得られた光学フィルム（１）の波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したところＲｅ（５５０）＝１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１．４ｎｍであった。また、波長４５０ｎｍならびに波長６５０ｎｍの位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１２２ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４１ｎｍであった。厚みｄは一定であるので、各波長での複屈折率の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８８
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０２
すなわち、光学フィルム（１）は下記式（１）及び（２）で表される光学特性を有した。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）

実施例２
[偏光子の製造]
平均重合度約２,４００、ケン化度９９.９モル％以上で厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０.０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１２／５／１００の水溶液に、５６.５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子（延伸後の厚さ２７μｍ）を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は５.３倍であった。得られた偏光子と、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ製 ＫＣ４ＵＹＴＡＣ ４０μｍ）とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍの保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光板（１）を得た。尚、前記水系接着剤は水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレ製 クラレポバール KL318）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（住化ケムテックス製 スミレーズレジン６５０ 固形分濃度３０％の水溶液〕１.５部を添加して調製した。

[紫外線硬化性接着剤組成物の製造]
以下の各成分を混合して、紫外線硬化性接着剤組成物を調製した。
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル
３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート ４０部
ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル ６０部
ジフェニル（４−フェニルチオフェニル）スルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート（光カチオン重合開始剤） ４部

[円偏光板（１）の製造]
実施例１で製造した光学フィルム（１）の第二の相差層面に、コロナ処理を施し、その上に紫外線硬化性接着剤組成物を塗布し、その上に偏光板（１）の偏光子面と重ねて、２本の貼合ロールの間に通して一体化した。この際、該偏光板（１）の吸収軸と第一の位相差層（１−２）の遅相軸のなす角度は４５°となるようにした。また、２本の貼合ロールのうち、第一の貼合ロールには、表面がゴムになっているゴムロールを使用し、第二の貼合ロールには、表面にクロムメッキが施された金属ロールを使用した。一体化後、メタルハライドランプを光源とする紫外線照射装置を用い、３２０〜４００ｎｍの波長における積算光量が２０ｍＪ／ｃｍ^２となるように前期光学フィルム（１）のＣＯＰ側から紫外線照射して接着剤を硬化させ、偏光子（１）と接着し、円偏光板（１）を得た。

比較例
［第二の位相差層（２−３）の製造］
ＣＯＰの表面を、コロナ処理装置を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理が施された表面に、配向性ポリマー組成物（１）を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で１分間乾燥し、配向膜を得た。得られた配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、３４ｎｍであった。得られた配向膜上に組成物（Ｂ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、１５０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、温度：１１５℃、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより第二の位相差層（２−３）を形成した。得られた第二の位相差層（２−３）の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、４５０ｎｍであった。また、第二の位相差層（２−３）の波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したところＲｅ（５５０）＝４ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝−３２ｎｍであった。であった。

［比較用光学フィルムの製造］
実施例１の光学フィルム（１）の製造と同様に、ＣＯＰ上に第一の位相差層（１−１）を形成し、得られた第一の位相差層（１−１）をコロナ処理した後、第二の位相差層（２−３）の製造と同様の方法で、第一の位相差層（１−１）上に第二の位相差層（２−３）を形成し、比較用光学フィルムを得た。得られた比較用光学フィルム波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したところＲｅ（５５０）＝１３４ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝４０ｎｍであった。また、波長４５０ｎｍならびに波長６５０ｎｍの位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１１９ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１３７ｎｍであった。厚みｄは一定であるので、各波長での複屈折率の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８９
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０２
すなわち、比較用光学フィルムは下記式（１）及び（２）で表される光学特性を有した。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）

［比較用円偏光板の製造］
実施例２の円偏光板（１）の製造と同様の方法で、前記比較用光学フィルムの第二の位相差層（２−３）と、偏光板（１）とを貼合し、比較用円偏光板を得た。

［光漏れの測定］
実施例１で得た光学フィルム（１）、及び、比較例で得た比較用光学フィルムの両面に、偏光板（住友化学社製沃素系通常偏光板ＴＲＷ８４２ＡＰ７）を、粘着剤を用いて貼合した。この際、該光学フィルムの両面に貼合される２枚の偏光板同士の吸収軸は直交するようにし、さらに、該光学フィルムが有する第一の位相差層の遅相軸と、２枚の偏光板いずれかの吸収軸とは平行となるようにした。得られた偏光板付光学フィルムの透過率を積分球付き分光光度計（島津製作所（株）製、ＵＶ３１５０）で測定した。結果を表３に示す。

参考例１
位相差フィルム（１）のＣＯＰ面と、偏光板（１）とを貼り合せ、円偏光板（参考１）を得た。この際、偏光板（１）の吸収軸と位相差フィルム（１）の遅相軸のなす角度は４５°となるように貼合した。

実施例２で得られた円偏光板（１）、比較例で得た比較用円偏光板、及び参考例１で得た円偏光板（参考１）それぞれの、偏光板（１）とは反対側の面を、感圧式粘着剤を用いて鏡に貼合した。貼合された円偏光板を、正面鉛直方向から仰角６０°の位置で方位角全方向から観察した。色相変化が特に大きかった方向２点から見たときの色を表４に示す。
円偏光板（１）は、どの方向から観察しても光漏れが無く、良好な黒表示が得られた。

上記の測定結果からも、実施例の円偏光板はあらゆる方向から観察した際にも明所での反射防止特性に優れており有用である。

本発明の光学フィルムは、黒表示時の光漏れ抑制に優れる光学フィルムとして有用である。

１ 第一の位相差層
２ 第二の位相差層
３、３’ 基材
１００ 本光学フィルム
６ 偏光板
７ 有機ＥＬパネル
１１０ 本円偏光板
２００ 有機ＥＬ表示装置
３０ 有機ＥＬ表示装置
３１ 本円偏光板
３２ 基板
３３ 層間絶縁膜
３４ 画素電極
３５ 発光層
３６ カソード電極
３７ 封止層
３８ 薄膜トランジスタ
３９ リブ

Claims (22)

1. 第一の位相差層と第二の位相差層とを有する光学フィルムであって、
   第二の位相差層が式（３）で表される光学特性を有し、
   該光学フィルムが式（１）、（２）及び（３０）で表される光学特性を有する光学フィルム。
   Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
   １．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
   ｎx≒ｎy＜ｎz （３）
   ０．０００＜Ｔ＜１ （３０）
   （式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。Ｔは、吸収軸が直交した偏光板の間に光学フィルムを配置した積層体の透過度を、吸収軸が平行した偏光板の間に該光学フィルムを配置した積層体の透過度で除して１００を掛けた値を表す。ｎｘは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、位相差層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。）
2. 第一の位相差層が式（４）で表される光学特性を有する請求項１に記載の光学フィルム。
   １００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
   （式中、Ｒｅ（５５０）は前記と同じ意味を表す。）
3. 第一の位相差層が式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する請求項１又は２に記載の光学フィルム。
   Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
   １．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
   （式中、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５０）は前記と同じ意味を表す。
   ）
4. 第一の位相差層が１以上の重合性液晶を重合させることにより形成されるコーティング層である請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
5. 第二の位相差層が１以上の重合性液晶を重合させることにより形成されるコーティング層である請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
6. 重合性液晶の重合を１０℃乃至４０℃で行う請求項４又は５に記載の光学フィルム。
7. 第一の位相差層の厚さが５μｍ以下である請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
8. 第二の位相差層の厚さが５μｍ以下である請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
9. 第一の位相差層及び第二の位相差層の厚さがそれぞれ５μｍ以下である請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルム。
10. 第一の位相差層が配向膜上に形成される請求項１〜９のいずれかに記載の光学フィルム。
11. 第二の位相差層が配向膜上に形成される請求項１〜１０のいずれかに記載の光学フィルム。
12. 配向膜が、光照射により配向規制力を生じた配向膜である請求項１０に記載の光学フィルム。
13. 配向膜が、垂直配向規制力を生じる配向膜である請求項１１に記載の光学フィルム。
14. 配向膜の厚さが５００ｎｍ以下である請求項１０〜１３のいずれかに記載の光学フィルム。
15. 基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層が形成され、第一の位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層が形成されている請求項１〜１４のいずれかに記載の光学フィルム。
16. 基材上に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層が形成され、第二の位相差層の上に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層が形成されている請求項１〜１４のいずれかに記載の光学フィルム。
17. 第一の位相差層と、第二の位相差層との間に保護層を有する請求項１〜１６に記載の光学フィルム。
18. 基材の一方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第一の位相差層が形成され、基材の他方の面に、配向膜を介するかまたは介さずに第二の位相差層が形成されている請求項１〜１４のいずれかに記載の光学フィルム。
19. 請求項１〜１８のいずれかに記載の光学フィルムと偏光板とを備える円偏光板。
20. 光学フィルムと偏光板とが活性エネルギー線硬化型接着剤又は水系接着剤で貼り合わされている請求項１９に記載の円偏光板。
21. 請求項１９又は２０に記載の円偏光板を備える有機ＥＬ表示装置。
22. 請求項１９又は２０に記載の円偏光板を備えるタッチパネル表示装置。

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