JP7400224B2 - 光学用転写シート及びそれを用いた位相差板の製造方法 - Google Patents
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Description
しかし、所望の基材が配向膜の塗布適性に劣るものであったり、耐熱性に劣るものであったりする場合がある。このような場合には、転写用の基材上に配向膜及び位相差層を順次形成してなる光学用の転写シートを作製し、該転写シートの転写層(位相差層及び配向膜)を所望の基材に転写する手段が採用されている(特許文献1)。
[1]基材上に配向膜及び位相差層をこの順に有してなり、前記配向膜が下記(1)又は(2)を含む、光学用転写シート。
(1)チオール系化合物
(2)芳香環又は下記式(a)に示す単位を分子中に含む単官能(メタ)アクリル系化合物
[2]前記配向膜が、さらに、多官能(メタ)アクリレート系化合物の硬化物を含む、[1]に記載の光学用転写シート。
[3]前記配向膜が前記(1)を含み、前記(1)の含有量が、前記配向膜の全固形分の10~35質量%である、[1]又は[2]に記載の光学用転写シート。
[4]前記配向膜が前記(2)を含み、前記(2)の含有量が、前記配向膜の全固形分の20~50質量%である、[1]又は[2]に記載の光学用転写シート。
[5]前記位相差層がポジティブC層である、[1]~[4]の何れかに記載の光学用転写シート。
[6]前記基材が延伸プラスチックフィルムである、[1]~[5]の何れかに記載の光学用転写シート。
[7]下記(A1)~(A2)の工程を有する、位相差板の製造方法。
(A1)請求項1~6の何れか1項に記載の光学用転写シートの位相差層側の面と、被着体とを、接着剤層を介して積層してなる積層体Aを得る工程。
(A2)積層体Aから基材を剥離し、被着体、接着剤層、位相差層及び配向膜をこの順に有する位相差板を得る工程。
[光学用転写シート]
本発明の光学用転写シートは、基材上に配向膜及び位相差層をこの順に有してなり、前記配向膜が下記(1)又は(2)を含むものである。
(1)チオール系化合物
(2)芳香環又は下記式(a)に示す単位を分子中に含む単官能(メタ)アクリル系化合物
基材は転写時の作業性の観点からプラスチックフィルムが好ましい。
プラスチックフィルムを構成するポリマーとしては、セルロースアシレート、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー及びエポキシ系ポリマー等が挙げられる。
延伸プラスチックフィルムの中でも、物理的強度、作業適性及びコスト等に優れる二軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。
配向膜は下記(1)又は(2)を含むことを要する。
(1)チオール系化合物
(2)芳香環又は下記式(a)に示す単位を分子中に含む単官能(メタ)アクリル系化合物
チオール化合物は、R-SHで表される単位(Rは有機基)を一つ以上有する化合物である。本明細書において、R-SHで表される単位を一つ有する化合物を単官能チオール化合物、該単位を二つ以上有する化合物を多官能チオール化合物と称する。
チオール化合物は、単官能チオール化合物でもよいが、配向膜の強度を良好にする観点から、多官能チオール化合物が好ましい。また、多官能チオール化合物の中でも、3官能チオール化合物又は4官能チオール化合物がより好ましい。
また、上記の効果を発揮しやすくする観点から、配向膜中に含まれる(1)は、チオール系化合物の反応物の形態であることが好ましい。
チオール化合物は、ラジカル重合開始剤の存在下で、ラジカル重合性官能基を有する化合物と下記式(b)の反応(チオール-エン反応)を起こす。チオール-エン反応は重合収縮を抑制できるため、配向膜の歪みを抑制しやすくでき、その結果、基材と配向膜との密着性をより向上しやすくでき、さらには、光学特性を均一化しやすい点で好ましい。
なお、下記の反応は単官能チオール化合物と、一つのラジカル重合性官能基を有する化合物との反応例である。多官能チオール化合物と、二以上のラジカル重合性官能基を有する化合物との反応物はデンドリマー構造を形成しやすいと考えられる。そして、デンドリマー構造を形成した場合、配向膜に柔軟性を付与しやすくなると考えられる。ラジカル重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合含有基が挙げられる。
[式中、R1及びR2は有機基である。]
なお、配向膜中において、チオール系化合物が反応物の形態で含まれる場合、チオール系化合物の含有量は、チオール系化合物に由来する単位のみをカウントするものとする。例えば、上記に例示する反応式によって得られたチオール系化合物の反応物の場合、ラジカル重合性官能基を有する化合物に由来する単位を除外してチオール系化合物の含有量をカウントするものとする。
芳香環又は上記式(a)に示す単位を分子中に含む単官能(メタ)アクリル系化合物は、芳香環のπ電子の作用又は-CON-単位の分極による作用によって分子間力が向上し、基材と配向膜との密着性を向上し得ると考えられる。また、上記(2)の化合物は単官能化合物であり、配向膜中に歪みを生じさせにくいため、前述した分子間力による密着向上の作用を生じさせやすいと考えられる。
また、芳香環は単官能(メタ)アクリレート系化合物の分子末端に位置することが好ましい。
なお、配向膜中において、単官能(メタ)アクリル系化合物が反応物の形態で含まれる場合、単官能(メタ)アクリル系化合物の含有量は、単官能(メタ)アクリル系化合物に由来する単位のみをカウントするものとする。例えば、配向膜中に、単官能(メタ)アクリル系化合物と多官能(メタ)アクリレート系化合物との反応物を含む場合、多官能(メタ)アクリレート系化合物に由来する単位を除外して単官能(メタ)アクリル系化合物の含有量をカウントするものとする。なお、本明細書において、多官能(メタ)アクリレート系化合物とは、(メタ)アクリレート単位を2つ以上有する化合物のことをいう。
配向膜は、上記(1)及び(2)の他に配向剤を含むことが好ましい。配向剤は位相差層の種類に応じて、汎用の材料を選択して用いることができる。
配向剤は、配向膜形成用インキの塗布適性を良好にする観点から、硬化性樹脂組成物の硬化物に加えてレベリング剤を含むことがより好ましい。
配向剤としての硬化性樹脂組成物の硬化物を含む配向膜(好ましくは、配向剤としての硬化性樹脂組成物の硬化物及びレベリング剤を含む配向膜)は、位相差層がポジティブC層である場合に特に好適である。
配向剤として、硬化性樹脂組成物の硬化物及びレベリング剤を含む場合、硬化性樹脂組成物の硬化物100質量%に対するレベリング剤の含有量は、0.01~1質量%であることが好ましく、0.02~0.7質量%であることがより好ましく、0.03~0.5質量%であることがさらに好ましい。
硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物及び電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられ、耐擦傷性の観点から電離放射線硬化性樹脂組成物が好ましい。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、(メタ)アクリレート単位を2つ以上有する、多官能(メタ)アクリレート系化合物が更に好ましい。すなわち、配向膜は、多官能(メタ)アクリレート系化合物の硬化物を含むことが好ましい。
多官能(メタ)アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
3官能以上の(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、上記(メタ)アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ(メタ)アクリレートは、3官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、及び2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレートである。
レベリング剤は、基材に対して配向膜形成用インキの塗布適性を良好にする役割を有する。また、位相差層の中でもポジティブC層等のように分子が垂直配向する位相差層は、配向膜の表面エネルギーが低い方が位相差層の配向性を良好にしやすい。このため、配向膜がレベリング剤を含むことにより、ポジティブC層等のように分子が垂直配向する位相差層の配向性を良好にしやすい点で好ましい。
配向膜の厚みは、好ましくは100nm~5μmであり、より好ましくは500nm~4μm、さらに好ましくは1.5μm~3.0μmである。
位相差層は、ポジティブA層及びポジティブC層等が挙げられる。
本明細書において、「ポジティブA層」とは、面内における遅相軸方向の屈折率をNx、面内において遅相軸方向と直交する方向の屈折率をNy、厚さ方向の屈折率をNzとしたとき、Nx>Ny≒Nzの関係であるものである。
ポジティブA層は、面内位相差(Re)が、λ/4位相差層又はλ/2位相差層の特性を示すことが好ましい。λ/4位相差層の面内位相差は、好ましくは100~180nm、より好ましくは110~160nm、更に好ましくは110~150nmである。λ/2位相差層の面内位相差は、好ましくは200~300nm、より好ましくは220~280nm、更に好ましくは220~270nmである。
ポジティブC層は、面内位相差(Re)が小さいことが好ましく、好ましくは20nm以下、より好ましくは10nm以下、更に好ましくは5nm以下、より更に好ましくは1nm以下である。
また、ポジティブC層は、厚さ方向の位相差(Rth)が、好ましくは30~150nm、より好ましくは50~100nmである。
面内位相差(Re)=(Nx-Ny)×d
厚さ方向の位相差(Rth)=((Nx+Ny)/2-Nz)×d
ポジティブA層の場合、波長450nmの面内リタデーション(Re450)と、波長550nmの面内リタデーション(Re550)との関係が、Re450<Re550を示すものが逆分散性である。ポジティブC層の場合、波長450nmの厚さ方向のリタデーション(Rth450)と、波長550nmの厚さ方向のリタデーション(Rth550)との関係が、Rth450<Rth550を示すものが逆分散性である。
位相層は、位相差層の形成に用いられる汎用の材料(例えば液晶化合物)から形成することができる。
位相差層がポジティブC層の場合、例えば、垂直(ホメオトロピック)配向する液晶化合物を用いればよい。また、該液晶化合物は、スメクチック相またはネマチック相を示すことが好ましく、スメクチック相を示すことがより好ましい。スメクチック相であると液晶分子の重心位置が揃った高秩序のレイヤー構造を取るため、ポジティブC層がホメオトロピック配向を取りやすくすることができる。
重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合するものを挙げることができる。これら重合性官能基としては、ラジカル重合性官能基が挙げられる。ラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも1つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例として、置換基を有する若しくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。
また、重合性官能基として、一般的に知られているカチオン重合性官能基を使用してもよく、具体的には、脂環式エーテル基(エポキシ基、オキセタニル基等)、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状イミノエーテル基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好ましく、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基がより好ましい。
その部分構造の個数は、好ましくは1~6個、より好ましくは1~3個である。重合性棒状液晶化合物としては、Makromol.Chem.,190巻、2255頁(1989年)、Advanced Materials,5巻、107頁(1993年)、米国特許第4683327号明細書、同5622648号明細書、同5770107号明細書、国際公開WO95/22586号公報、同95/24455号公報、同97/00600号公報、同98/23580号公報、同98/52905号公報、特開平1-272551号公報、同6-16616号公報、同7-110469号公報、同11-80081号公報、及び特開2001-328973号公報などに記載の化合物を用いることができる。
棒状液晶化合物の具体例としては、下記式(1)~(19)に示す化合物が挙げられる。
位相差層形成用インキ中における液晶化合物の含有量としては、特に限定されないが、該インキ中に5質量%以上40質量%以下の割合で含まれていることが好ましく、10質量%以上30質量%以下の割合で含まれていることがより好ましい。液晶化合物の量が5質量%未満であると、作製時に多量に付与する必要があり、製造し難いとともに、多量の溶剤除去が必要となるため、溶剤残存に起因する信頼性の悪化が生じやすい。一方で、40質量%を超えると、その重合性液晶組成物の粘度が高くなりすぎるために、層の作製の作業性が悪くなる。
また、位相差層形成用インキの固形分質量(溶剤を除いた質量)に対する液晶化合物の含有量は、好ましくは75~99.9質量%、より好ましくは80~99質量%、更に好ましくは85~98質量%である。
配向させた液晶化合物は、重合反応により配向状態を維持して固定することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。これらの中でも、光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α-カルボニル化合物(米国特許第2367661号、同2367670号の各明細書参照)、アシロインエーテル(米国特許第2448828号明細書参照)、α-炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許第2722512号明細書参照)、多核キノン化合物(米国特許第3046127号、同2951758号の各明細書参照)、トリアリールイミダゾールダイマーとp-アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許第3549367号明細書参照)、アクリジン及びフェナジン化合物(特開昭60-105667号公報、米国特許第4239850号明細書参照)及びオキサジアゾール化合物(米国特許第4212970号明細書参照が含まれる。
レベリング剤としては、フッ素系レベリング剤及びシリコーン系レベリング剤が挙げられる。レベリング剤の含有量は、位相差層の全固形分に対して0.01~2.0質量%であることが好ましく、0.1~1.0質量%であることがより好ましい。
位相差層は、液晶化合物の分子が均一に配向しやすくする観点から配向促進剤を含むことが好ましい。
特に、位相差層がポジティブC層の場合、液晶化合物の分子を均一に垂直配向しやすくする観点から、垂直配向促進剤を含むことが好ましい。垂直配向促進剤としては、ボロン酸化合物および/またはオニウム塩が挙げられる。垂直配向剤は、ポジティブC層の全固形分に対して0.1~5質量%が好ましく、0.5~3質量%がより好ましい。
光学用転写シートは、上述した基材、配向膜及び位相差層以外の層(その他の層)を有していてもよい。
その他の層としては、帯電防止層、表面保護層、その他の位相差層等が挙げられる。帯電防止層は、基材の配向膜とは反対側に形成することが好ましい。表面保護層、その他の位相差層は、位相差層の配向膜とは反対側に形成することが好ましい。
本発明の光学用転写シートは、被着体に転写し、液晶表示装置、有機EL表示装置の表示装置用の光学部材として用いることができる。被着体は、表示装置に組み込まれる部材が挙げられ、具体的には、表示素子のガラス基板、偏光板、その他の位相差板、表示装置の表面板等が挙げられる。
本発明の位相差板の製造方法は、下記(A1)~(A2)の工程を有するものである。
(A1)上述した本発明の光学用転写シートの位相差層側の面と、被着体とを、接着剤層を介して積層してなる積層体Aを得る工程。
(A2)積層体Aから基材を剥離し、被着体、接着剤層、位相差層及び配向膜をこの順に有する位相差板を得る工程。
実施例及び比較例で得られた光学用転写シートについて以下の測定及び評価を行った。結果を表1に示す。また、各測定及び評価時の雰囲気は、温度は23℃±5℃、湿度40~65%とした。また、各測定及び評価の開始前に、光学用転写シートを前記雰囲気に30分以上晒してから測定及び評価を行った。
光学粘着剤層の両面に剥離フィルムが積層されてなる、リンテック社製の光学粘着シートの一方の剥離フィルムを剥離し、ソーダガラス板に貼り合わせた。次いで、前記光学粘着シートの他方の剥離フィルムを剥離し、光学粘着剤層を露出させた。次いで、実施例及び比較例で得られた光学用転写シートの位相差層側の面を、露出した光学粘着剤層に貼り合わせてなる積層体Aを得た。
積層体Aを剥離強度の試験用のサンプルとして、JIS Z0237:2009の180度はく離試験に準拠して、基材と配向膜との界面の剥離強度を測定した。具体的には、積層体Aのソーダガラス板及び2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムをつかみ具で固定し、ソーダガラス板側のつかみ具を固定し、2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム側のつかみ具を鉛直方向に30mm/minの速度で引っ張り、引張応力の最大値を各サンプルの剥離強度とした。また、10回の測定値の平均値を各実施例及び比較例の剥離強度とした。測定装置は、テンシロン万能試験機(品番:RTG-1210、エー・アンド・ディー社製)を用いた。
剥離強度が0.175N/50mm以上、かつ、0.300N/50mm以下であれば、製造過程において転写層(配向膜及び位相差層)が剥がれず、かつ、転写時に転写層が剥離しにくくならない程度に基材と転写層とが密着し、転写性が合格レベルであるといえる。なお、剥離強度は0.200N/50mm以上、かつ、0.290N/50mm以下であることが好ましく、0.230N/50mm以上、かつ、0.280N/50mm以下であることがより好ましい。
1-1で作製した積層体Aから2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、ソーダガラス板、光学粘着剤層、位相差層及び配向膜をこの順に有する、配向性の評価用サンプルを得た。
次いで、20000cd/m2の輝度のバックライト上に、2枚の偏光板をクロスニコルに配置し、さらに、前記2枚の偏光板の間に前記評価用サンプルを配置した。この状態で前記評価用サンプルを回転させ、黒さの変化を目視で観察した。その結果、黒さに顕著な変化が観察されないものを「A」、黒さに顕著な変化が観察されたものを「C」とした。
[実施例1]
厚み38μmの易接着処理がされていない2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡社製、商品名:コスモシャインA4100)上に、下記処方の配向膜形成用インキ1を塗布、乾燥し、紫外線照射により硬化して、厚み2μmの配向膜を形成した。
次いで、配向膜上に、下記処方の位相差層形成用インキ1を塗布、乾燥し、紫外線照射により硬化して、厚み1μmの位相差層(ポジティブC層)を形成し、実施例1の光学用転写シートを得た。
・多官能(メタ)アクリレート系化合物の混合物 75質量部
(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート:トリメチロールプロパントリアクリレート:1,6-ヘキサンジオールジアクリレート:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート=30:30:25:15)
・4官能チオール化合物 25質量部
(ペンタエリスリトールの3-メルカプトブタン酸エステル)
(CAS番号:31775-89-0)
・開始剤 5質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Irgacure907)
・フッ素系レベリング剤 0.1質量部
(ネオス社製、商品名:フタージェント602A)
・MEK:MIBK=4:1の混合溶剤 適量
・棒状液晶化合物の混合物 100質量部
(上記式(1)に示す棒状液晶化合物:上記式(18)に示す棒状液晶化合物:上記式(19)に示す棒状液晶化合物=30:25:40)
・開始剤 5質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad 907)
・フッ素系レベリング剤 0.3質量部
(DIC社製、商品名:メガファックF554)
・MEK:シクロヘキサノン=6:4の混合溶剤 適量
配向膜形成用インキ1を下記の配向膜形成用インキ2に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の光学用転写シートを得た。
(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート:トリメチロールプロパントリアクリレート:1,6-ヘキサンジオールジアクリレート:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート=30:30:25:15)
・式(a)に示す単位を分子中に含む単官能(メタ)アクリル系化合物 35質量部
(ジエチルアクリルアミド)
・開始剤 5質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad 907)
・フッ素系レベリング剤 0.1質量部
(ネオス社製、商品名:フタージェント602A)
・MEK:MIBK=4:1の混合溶剤 適量
配向膜形成用インキ1を下記の配向膜形成用インキ3に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例3の光学用転写シートを得た。
・多官能(メタ)アクリレート系化合物の混合物 65質量部
(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート:トリメチロールプロパントリアクリレート:1,6-ヘキサンジオールジアクリレート:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート=30:30:25:15)
・芳香環を分子中に含む単官能(メタ)アクリル系化合物 35質量部
(ベンジルメタクリレート)
・開始剤 5質量部
(IGM Resins B.V.社、商品名:Omnirad 907)
・フッ素系レベリング剤 0.1質量部
(ネオス社製、商品名:フタージェント602A)
・MEK:MIBK=4:1の混合溶剤 適量
配向膜形成用インキ1に代えて、配向膜形成用インキ1から4官能チオール化合物を除いてなる配向膜形成用インキ4を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例1の光学用転写シートを得た。
20:転写層
21:配向膜
22:位相差層
100:光学用転写シート
Claims (5)
- 基材上にラビング処理されない配向膜及び位相差層をこの順に有してなり、前記配向膜が、下記(2)の含有量が、前記配向膜の全固形分の20~50質量%である配向膜用インキを硬化してなるものである、光学用転写シート。
(2)下記式(a1)又は(a2)に示す単位を分子中に含む単官能(メタ)アクリル系化合物
- 前記配向膜が、さらに、多官能(メタ)アクリレート系化合物の硬化物を含む、請求項1に記載の光学用転写シート。
- 前記位相差層がポジティブC層である、請求項1又は2に記載の光学用転写シート。
- 前記基材が延伸プラスチックフィルムである、請求項1~3の何れか1項に記載の光学用転写シート。
- 下記(A1)~(A2)の工程を有する、位相差板の製造方法。
(A1)請求項1~4の何れか1項に記載の光学用転写シートの位相差層側の面と、被着体とを、接着剤層を介して積層してなる積層体Aを得る工程。
(A2)積層体Aから基材を剥離し、被着体、接着剤層、位相差層及び配向膜をこの順に有する位相差板を得る工程。
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