JP2016024913A - 導電性フィルム、タッチパネル付き表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】波長550nmにおける面内レタデーションRe(550)が10nm以下であり、波長550nmにおける厚み方向のレタデーションRth(550)が−60〜60nmである支持体20と、支持体の少なくとも片面上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含み、厚みが10μm未満である導電層18A、18Bと、導電層上に隣接して配置されたハードコート層16A、16Bと、を有する導電性フィルム26。支持体20が、セルロースアシレート系樹脂、(メタ)アクリル樹脂及びシクロオレフィン系樹脂から選択される少なくとも一種を含み、厚みが10〜60μmである導電フィルム26。シート抵抗値が10〜150Ω/□である導電性フィルム26。
【選択図】図1
Description
タッチパネル用の導電性フィルムの支持体としては、透明性の高さおよび価格などの点から、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムが汎用されており、かつ、導電層としては、真空蒸着やスパッタリング等のドライプロセスによって形成されるITO(インジウムスズオキサイド)層が汎用されている(特許文献1)。
昨今、タッチパネルを含む表示装置の薄型化の点から、使用される部材の厚みが薄くなっており、薄い支持体の上部にハードコート層を配置する場合、上述した硬化収縮によって、導電性フィルム全体にシワが発生しやすく、平坦性が損なわれるという問題もあった。
また、本発明は、上記導電性フィルムを含むタッチパネル付き表示装置を提供することも課題とする。
つまり、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
支持体の少なくとも片面上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含み、厚みが10μm未満である導電層と、
導電層上に隣接して配置されたハードコート層と、を有する導電性フィルム。
(2) シート抵抗値が10〜150Ω/□である、(1)に記載の導電性フィルム。
(3) 支持体の厚みが10〜60μmである、(1)または(2)に記載の導電性フィルム。
(4) 支持体が、セルロースアシレート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、および、シクロオレフィン系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含む、(1)〜(3)のいずれかに記載の導電性フィルム。
(5) (1)〜(4)のいずれかに記載の導電性フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
(6) タッチパネルに用いられる、(1)〜(4)のいずれかに記載の導電性フィルム。
(7) (6)に記載の導電性フィルムを有する、タッチパネル付き表示装置。
また、本発明によれば、上記導電性フィルムを含むタッチパネル付き表示装置を提供することもできる。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。また、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。
Rth(λ)は、上記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADH、またはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から片側50°まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で6点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADH、またはWRが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式(A)、および式(B)よりRthを算出することもできる。
Rth=((nx+ny)/2−nz)×d・・・・・・・・・・・式(B)
なお、上述したように、導電層として汎用されているITO層は、通常、高温条件を伴うドライプロセスによって製造されるが、上記低位相差フィルムは一般的にPETフィルムと比較して耐熱性や機械的強度に劣るため、ドライプロセス中に分解などが生じやすく、そもそも適用が難しい。
それに対して、本発明の導電性フィルムの他の特徴点として、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を使用している点が挙げられる。後段にて詳述するように、フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、カーボンナノチューブに共有結合した1種または複数種のフラーレンおよび/またはフラーレン系分子を含む。フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、カーボンナノチューブ由来の機械的な柔軟性に加え、フラーレン官能基を加えた効果としてカーボンナノチューブよりも高い導電性を示す材料である。導電層中においては、フラーレン官能基化カーボンナノチューブ同士が絡まりながらネットワーク構造を形成しやすく、更にフラーレン官能基が隣接するフラーレン官能基化カーボンナノチューブと接触し、結果として優れた導電特性を示す導電層となる。また、後述するように、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を作製する際には、高温真空条件を必要としない。そのため、ドライプロセスによりITO膜を作製する場合と比較して、支持体の性能劣化を抑制することができる。
以下、導電性フィルムに含まれる部材(支持体、導電層、ハードコート層など)について詳述する。
支持体は、導電層を支持する基材である。
波長550nmにおける支持体の面内レタデーションRe(550)は10nm以下であり、導電性フィルムの光学特性がより優れる点で、7nm以下が好ましく、5nm以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、0nmである。
波長550nmにおける支持体の厚み方向のレタデーションRth(550)は−60〜60nmであり、導電性フィルムの光学特性がより優れる点で、−45〜45nmが好ましく、−35〜35nm以下がより好ましい。
なお、上記厚みは平均値であり、任意の10点の支持体の厚みを測定して、それらを算術平均した値である。
(セルロースエステル)
セルロースエステルフィルムは、セルロースエステルを含んでなる。
本発明においては、たとえば、粉末、粒子状、またはペレット化されたセルロースエステルを用いてフィルムを作製することでセルロースエステルフィルムとすることができる。
セルロースエステルフィルムは、1種類のセルロースエステルから構成してもよいし、2種類以上のセルロースエステルから構成してもよい。
セルロースエステルとしては、セルロースアシレートが好ましい。
全アシル置換度、即ち、DS2+DS3+DS6は1.5〜3.0であることが、好ましく、2.0〜3.0であることがより好ましく、2.5〜3.0であることが更にまた好ましく、2.7〜3.0であることが更に好ましく、2.70〜2.98であることが特に好ましい。また、製膜性の観点からは、場合により、2.80〜2.95であることが好ましく、2.85〜2.90であることが特にまた好ましい。ここで、DS2はグルコース単位の2位の水酸基のアシル基による置換度(以下、「2位のアシル置換度」とも言う)であり、DS3は3位の水酸基のアシル基による置換度(以下、「3位のアシル置換度」とも言う)であり、DS6は6位の水酸基のアシル基による置換度である(以下、「6位のアシル置換度」とも言う)。また、DS6/(DS2+DS3+DS6)は全アシル置換度に対する6位のアシル置換度の割合であり、以下「6位のアシル置換率」とも言う。
本発明において、セルロースアシレート等の平均分子量および分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)を算出し、国際公開WO2008−126535号公報に記載の方法により、その比を計算することができる。
セルロースアシレートフィルムを製造する方法は、特に制限はなく、公知の方法を用いて製膜することができる。例えば、溶液流延製膜法および溶融製膜法のいずれを利用して製膜してもよいが、フィルムの平滑性の観点からは溶液流延製膜法を利用して製造するのが好ましい。以下、溶液流延製膜法を用いる場合を例に説明するが、本発明は溶液流延製膜法に限定されるものではない。なお、溶融製膜法を用いる場合については、公知の方法を用いることができる。
溶液流延製膜方法では、セルロースアシレート、および、必要に応じて各種添加剤を含有するポリマー溶液(セルロースアシレート溶液)を用いてウェブを形成する。以下において、溶液流延製膜方法に用いることができるポリマー溶液(以下、適宜セルロースアシレート溶液と称する場合もある)について説明する。
本発明で用いられるセルロースアシレートは溶媒に溶解させてドープを形成し、これを基材上に流延しフィルムを形成させる。この際に、押し出し、または、流延後に溶媒を蒸発させる必要性があるため、揮発性の溶媒を用いることが好ましい。
さらに、反応性金属化合物や触媒等と反応せず、かつ、流延用基材を溶解しないものである。また、2種以上の溶媒を混合して用いてもよい。
また、セルロースアシレートと加水分解重縮合可能な反応性金属化合物を各々別の溶媒に溶解し後に混合してもよい。
ここで、上記セルロースアシレートに対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主(有機)溶媒または主たる(有機)溶媒という。
これらは、ドープを金属支持体に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることでウェブ(金属支持体上にセルロースアシレートのドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする)をゲル化させ、金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースアシレートの溶解を促進したりする役割もあり、反応性金属化合物のゲル化、析出、粘度上昇を抑える役割もある。
これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、且つ毒性がないこと等からメタノール、エタノールが好ましい。エタノールがもっとも好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロースアシレートに対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。
また、水を少量含有させることも溶液粘度や乾燥時のウェットフィルム状態の膜強度を高めたり、ドラム法流延時のドープ強度を高めたりするのに有効であり、例えば溶液全体に対して0.1〜5質量%含有させてもよく、より好ましくは0.1〜3質量%含有させてもよく、特には0.2〜2質量%含有させてもよい。
また、必要に応じて、非ハロゲン系有機溶媒を主溶媒とすることもでき、詳細な記載は発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)に記載がある。
セルロースアシレート濃度は、セルロースアシレートを溶媒に溶解する段階で所定の濃度になるように調整することができる。また予め低濃度(例えば4〜14質量%)の溶液を調製した後に、溶媒を蒸発させる等によって濃縮してもよい。さらに、予め高濃度の溶液を調製後に、希釈してもよい。また、添加剤を添加することで、セルロースアシレートの濃度を低下させることもできる。
セルロースアシレートに対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中でセルロースアシレート、添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程、あるいはセルロースアシレート溶液に添加剤溶液を混合してドープを形成する工程である。
セルロースアシレートの溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−95544号公報、特開平9−95557号公報、または特開平9−95538号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11−21379号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。
ドープ中のセルロースアシレートの濃度は10〜35質量%が好ましい。溶解中または後のドープに添加剤を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送ることが好ましい。
ドープを、送液ポンプ(例えば、加圧型定量ギヤポンプ)を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
ダイの口金部分のスリット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやTダイ等があり、何れも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に2基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。
ウェブ(セルロースアシレートフィルムの完成品となる前の状態であって、まだ溶媒を多く含むものをこう呼ぶ)を金属支持体上で加熱し、金属支持体からウェブが剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び/または金属支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が、乾燥効率がよく好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合は、ドープ使用有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。なお、剥離する時点でのウェブの残留溶媒量(下記式)があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に金属支持体上で充分に乾燥させ過ぎてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。
ここで、製膜速度を上げる方法(残留溶媒量ができるだけ多いうちに剥離することで製膜速度を上げることができる)としてゲル流延法(ゲルキャスティング)がある。例えば、ドープ中にセルロースアシレートに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、金属支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。金属支持体上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げておくことによって、剥離を早め、製膜速度を上げることができる。
金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により5〜150質量%の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。本発明においては、該金属支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃とするのが好ましく、10〜40℃がより好ましく、15〜30℃とするのが最も好ましい。
残留溶媒量は下記の式で表すことができる。
残留溶媒量(質量%)=[(M−N)/N]×100
ここで、Mはウェブの任意時点での質量、Nは質量Mのものを110℃で3時間乾燥させた時の質量である。
上記剥離工程後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、および/またはクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いて、ウェブを乾燥することが好ましい。
また、熱処理温度は、30分以下であることが好ましく、20分以下であることがより好ましく、10分程度であることが特に好ましい。
なお、ここでいう「延伸倍率(%)」とは、以下の式により求められるものを意味する。
延伸倍率(%)=100×{(延伸後の長さ)−(延伸前の長さ)}/延伸前の長さ
なお、本発明においては、フィルム搬送方向に直交する方向TDに延伸する方法として、テンター装置を用いて延伸することが好ましい。
以上のようにして得られた、フィルムの長さは、1ロール当たり100〜10000mで巻き取るのが好ましく、より好ましくは500〜7000mであり、さらに好ましくは1000〜6000mである。フィルムの幅は、0.5〜5.0mが好ましく、より好ましくは1.0〜3.0mであり、さらに好ましくは1.0〜2.5mである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は3〜50mmが好ましく、より好ましくは5〜30mm、高さは0.5〜500μmが好ましく、より好ましくは1〜200μmである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
セルロースアシレートフィルムとしては、長尺状のセルロースアシレートフィルムをロール状に巻いてなるロール状セルロースアシレートフィルムを用いてもよい。ロール状のフィルムの長さや幅に制約はないが、長さは1300m〜10400mが望ましく、2600m〜10400mが更に望ましく、3900m〜9800mが最も望ましい。生産効率の観点からは長尺の方が望ましいが、長すぎるとフィルムの重量による変形やハンドリングの懸念がある。幅は1000mm〜3000mmが望ましく、1150mm〜2800mmが更に望ましく、1300mm〜2500mmが最も望ましい。
セルロースアシレートフィルムは単層フィルムであっても、2層以上の積層構造を有していてもよい。例えば、コア層と外層(表層、スキン層と呼ばれることもある)の2層からなる積層構造であることや、外層、コア層、外層の3層からなる積層構造であることも好ましく、これらの積層構造を共流延によって製膜された態様であることも好ましい。
セルロースアシレートフィルムが2層以上の積層構造を有している場合、外層には、さらにマット剤を添加することが好ましい。マット剤としては、例えば特開2011−127045号公報に記載のものなどを用いることができ、例えば平均粒子サイズ20nmのシリカ粒子などを用いることができる。
導電層には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。フラーレン官能基化カーボンナノチューブに関しては、後段で詳述する。
導電層の厚みは10μm未満であり、導電性フィルムの光透過性がより優れる点で、9μm以下が好ましく、8μm以下がより好ましく、7μm以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、導電性フィルムの導電性の点で、1μm以上が好ましく、2μm以上がより好ましく、3μm以上がさらに好ましい。
導電層の厚みを10μm未満に調整することにより、フラーレン官能基化カーボンナノチューブによる光吸収の程度を小さくできる。
なお、上記厚みは平均値であり、任意の10点の導電層の厚みを測定して、それらを算術平均した値である。
なお、導電層中にはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ以外の添加剤が含まれていてもよく、その含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点、および/または、導電層の導電性がより優れる点で、導電層全質量に対して、0.01〜40質量%が好ましく、0.1〜20質量%がより好ましく、0.1〜10質量%以上がさらに好ましい。
導電層は、支持体表面(主面)の全面に配置されていても、支持体表面の一部の領域に配置されていてもよい。特に、後述するように、タッチパネルに適用する場合は、導電層は所定のパターン状に配置されることが好ましい。
なお、支持体上に直接導電層を作製する以外にも、一旦、仮支持体上でフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を作製して、支持体上に転写する方法も挙げられる。
導電層を所定のパターンに形成する方法としては特に制限されないが、例えば、支持体上に所定のパターンにマスクしたものに対して、支持体上にフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を堆積させた後、マスクを除去することにより所定パターンの導電層を得る方法、導電層上に所定のパターンのレジストを用意し、強酸、酸化性または腐食性の大きな薬剤、強アルカリ等のウェットプロセスでエッチングを行う方法、スクリーン印刷によるパターニング方法などが挙げられるが、本発明においては、ドライエッチングプロセスでパターニングを行うことが好ましい。
以下にその例を示すが、本発明はこれに限定されない。
導電層上に、マスクとなるアルミニウム膜を形成し、続いて、アルミニウム膜上にパターン形成するためにレジストを塗布する。続いて、上記レジストをパターンと合わせて露光・現像を行なう。続いて上記パターニングされたレジストをマスクに、アルミニウム膜をエッチングする。続いてレジストを剥離する。続いてドライエッチング装置、たとえば、O2プラズマアッシング装置を用いて、表面に露出している導電層を燃焼させることによって除去する。ここで燃焼とは、試料温度を上げる場合ばかりでなく、基板温度を上げずに活性化したO2プラズマおよびラジカルで酸化させる方法、つまり、アッシングも含む。最後に、導電層上のアルミニウム膜を燐酸、特に加熱した燐酸によりウェットエッチングにより除去することで、導電層をパターニングできる。
なお、上記ではO2プラズマアッシングを用いて説明したが、他のドライエッチング方法、たとえば、スパッタエッチング、化学エッチング、反応性エッチング、反応性スパッタエッチング、イオンビームエッチング、反応性イオンビームエッチングによるエッチングが可能である。
従って、カーボンナノパーティクル、触媒金属表面を被うアモルファスカーボンを含むフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層をパターンニングする場合には、ガスエッチングまたはラジカルを含むエッチングがより効果的である。さらに、ガスエッチングまたはラジカルを含むエッチングでは等方性のエッチングであることより、パターニングするナノチューブの表面ばかりでなく、反応性ガスが表面近傍のナノチューブ、ナノパーティクルの側壁や裏面にも回りこみ、選択的に炭素と反応し、触媒金属以外をすばやく除去できる。さらに、触媒金属のみを除去する工程を追加することにより、ナノパーティクルを含有するフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層をパターニングすることができる。反応生成物は、例えば、酸素の場合、COやCO2などのガスとなるため支持体への再付着がなく、表面汚染の問題がない。特に酸素をもちいた燃焼は簡便であり、好ましい。
また、金属以外でも、O2プラズマアッシングでのダメージを受けず、除去する際に導電層にダメージを与えない物質、たとえば二酸化珪素、酸化アルミニウムなどであれば、使用することが可能である。
フラーレン官能基化カーボンナノチューブ(本明細書では、CBFFCNTとも呼ぶ)は、カーボンナノチューブに共有結合した1種または複数種のフラーレンおよび/またはフラーレン系分子を含む。つまり、CBFFCNTは、フラーレンおよびフラーレン系分子からなる群から選択される1種または複数種が共有結合を介して導入されたカーボンナノチューブである。
フラーレン系分子とは、上述のフラーレンのいずれかであって、分子内の1つまたは複数の炭素原子が、1つまたは複数の、例えば、炭素原子以外の原子(例えば、ヘテロ原子)、分子、基および/または化合物で置換されている分子や、上述のフラーレン分子のいずれかであって、1つまたは複数の追加の原子(例えば、ヘテロ原子)、分子、基および/または化合物がフラーレン内に組み込まれている分子や、上述のフラーレンのいずれかであって、1つまたは複数の追加の原子(例えば、ヘテロ原子)、分子、基および/または化合物がフラーレンの表面にくっ付いている分子を意味する。
なお、1種または複数種の他のフラーレンをカーボンナノチューブ表面にくっ付けることができるという点について触れておくことができるが、これは単なる1つの非限定例である。
架橋原子団とは、カーボンナノチューブへの共有結合を可能にするのに用いられる任意の原子、元素、分子、基および/または化合物を意味する。好適な架橋原子団は、例えば、元素周期表の第IV族、第V族、第VI族の任意の元素を含むことができる。好適な架橋原子団は、例えば、酸素、水素、窒素、硫黄、アミノ基、チオール基、エーテル基、エステル基および/またはカルボン酸基および/または他の任意の好適な基および/またはそれらの誘導体を含むことができる。好適な架橋原子団は、炭素含有基を含むことができる。
また、上述したように、もう一つの選択肢として、またはこれに加えて、フラーレンおよび/またはフラーレン系分子はカーボンナノチューブへ直接共有結合してもよい。例えば、フラーレンおよび/またはフラーレン系分子は、1つまたは複数の炭素結合を介して直接共有結合してもよい。
フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、1つまたは複数のフラーレンおよび/またはフラーレン系分子を介して、1つまたは複数のカーボンナノチューブおよび/またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブに結合させることができる。言い換えれば、例えば、共通のフラーレン分子を介して、2つのフラーレン官能基化カーボンナノチューブを互いに付着することができる。
1種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造方法としては、1種または複数種の触媒粒子、炭素源および/または試薬を互いに接触させ、反応器内で加熱して、1種または複数種のカーボンナノチューブに共有結合した1種または複数種のフラーレンおよび/またはフラーレン系分子を含む1種または複数種のカーボンナノチューブを製造することを含む。
1種または複数種の触媒粒子、炭素源および/または試薬を互いに接触させるステップは、例えば、それらを互いに接触させる任意の好適な方法(例えば、混合)により実施できる。この方法は、反応器内で実施されることが好ましい。このようにして、1種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブは製造される。
フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造においては、種々の炭素含有物質を炭素源として使用できる。また、炭素源を形成する炭素含有前駆物質も使用できる。炭素源は、1種または複数種のアルカン、アルケン、アルキン、アルコール、芳香族炭化水素および任意の他の好適なグループ、化合物または材料からなる群より選択できる。また、炭素源は、例えば、気体の炭素化合物(メタン、エタン、プロパン、エチレン、アセチレン、一酸化炭素など)、液体の揮発性炭素源(ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、メタノール、エタノール、およびオクタノールなど)および他の任意の好適な化合物と、それらの誘導体からなる群より選択できる。チオフェンも炭素源として使用できる。なかでも、一酸化炭素ガスが、炭素源として好ましい。
炭素源としては、1種または複数種を使用できる。
炭素前駆物質を使用する場合、炭素前駆物質は、例えば、加熱されたフィラメントまたはプラズマを用いて、反応器中の所望の場所で活性化させることができる。
炭素源は、5〜10000ccm、好ましくは50〜1000ccm、例えば約300ccmの割合で反応器に導入することができる。この方法で用いる種々の材料(例えば、炭素源)の圧力は、0.1〜1000Pa、好ましくは1〜500Paにすることができる。
1種または複数種の試薬を、フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造において使用できる。試薬はエッチング剤であってよい。試薬は、水素、窒素、水、二酸化炭素、亜酸化窒素、二酸化窒素および酸素よりなる群から選択できる。さらに、試薬は、例えば、有機および/または無機の酸素含有化合物(オゾン(O3)など)および種々の水素化物から選択できる。この方法に用いる1種または複数種の試薬は、一酸化炭素、オクタノールおよび/またはチオフェンから選択できる。
好ましい試薬(1種または複数種)は、水蒸気および/または二酸化炭素である。また他の任意の好適な試薬も、本発明による方法に用いることができる。他の試薬および/または試薬前駆物質を炭素源として用いることもでき、その逆も同様である。そのような試薬の例は、例えば、ケトン、アルデヒド、アルコール、エステルおよび/またはエーテルおよび/または他の任意の好適な化合物である。
用いる触媒粒子は、例えば、種々の金属および/または非金属の材料を含んでよい。好ましい触媒粒子は、1種類の金属、好ましくは1種類の遷移金属および/または金属(複数種)および/または遷移金属(複数種)の組み合わせを含む。触媒粒子は、鉄、コバルト、ニッケル、クロム、モリブデン、パラジウムおよび/または他の任意の類似元素を含むことが好ましい。触媒粒子は、化学前駆物質(例えば、フェロセン)から、例えば、フェロセン蒸気の熱分解によって形成させることができる。触媒粒子は、金属または金属含有物質を加熱することにより製造できる。
本発明による方法に用いる触媒粒子は、種々の方法で製造できる。そのような方法の例としては、例えば、触媒前駆物質の化学蒸気分解(chemical vapor decomposition)、物理的蒸気核形成(physical vapor nucleation)がある。また、他の方法としては、触媒粒子は、例えば、エレクトロスプレー、超音波噴霧、空気噴霧などによって、例えば、金属塩溶液並びにコロイド状金属ナノ粒子溶液から作られる液滴から製造できるか、あるいは、熱乾燥および分解および/または任意の他の適用可能な方法および/またはプロセスおよび/または材料を使用して製造できる。粒子を製造するための他の任意の手順、例えば、ノズル内での断熱膨張、アーク放電および/またはエレクトロスプレーシステムも、触媒粒子の形成に使用できる。熱ワイヤー式発生器(hot wire generator)を触媒粒子の製造に使用することもできる。本発明によれば、金属蒸気を発生させるために金属を含有した塊を加熱および/または蒸発させる他の手段も可能である。
エアロゾルおよび/または表面担持の触媒粒子を、フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造に使用できる。触媒粒子前駆物質を触媒粒子の製造に使用できる。
基材担持のフラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造の場合、触媒粒子は基材上で直接製造することができ、および/または、拡散、熱泳動(thermophoresis)、電気泳動、慣性衝突および/または他の任意の手段によって気相から析出させることができる。
触媒粒子の化学的製造方法の場合、金属有機化合物、有機金属化合物および/または無機化合物、例えば、メタロセン化合物、カルボニル化合物、キレート化合物および/または他の任意の好適な化合物を、触媒前駆物質として使用できる。
本発明の方法は、1種または複数種の追加試薬を導入するステップをさらに含むことができる。追加試薬は、カーボンナノチューブの形成を促進するため、炭素源の分解速度を変化させるため、カーボンナノチューブの製造中および/または製造後の無定形炭素と反応させるため、および/または(例えば、カーボンナノチューブの精製、ドーピングおよび/またはさらなる官能基化のために)カーボンナノチューブと反応させるために使用できる。触媒粒子前駆物質、触媒粒子、炭素源、無定形炭素および/またはカーボンナノチューブ(1種または複数種のフラーレンおよび/またはフラーレン系分子が共有結合しているもの)との化学反応に関与させるための追加試薬を、本発明に従って使用できる。1種または複数種の追加試薬は、炭素源と一緒または別個に導入できる。
精製工程では、場合によっては、例えば、望ましくない無定形炭素コーティングおよび/またはCBFFCNT内に封入された触媒粒子を除去する必要がありうる。本発明では、1つまたは複数の加熱される別個の反応器/反応器セクションを設けることが可能であり、1つの反応器または反応器の1つのセクションはCBFFCNTを製造するのに使用し、残りのもの(1つまたは複数)は、例えば、さらなる精製、さらなる官能基化および/またはドーピングに使用する。上記のステップを組み合わせることも可能である。
無定形炭素を除去するための化学物質として、任意の化合物、その化合物の誘導体および/またはその化合物の分解生成物(反応器中においてその場で形成される)を使用できるが、それは好ましくは、黒鉛化炭素とではなく無定形炭素と反応する。そのような試薬の例として、1種または複数種のアルコール、ケトン、有機酸および/または無機酸を使用できる。さらに、H2O、CO2および/またはNOなどの酸化剤を使用できる。本発明によれば、他の追加試薬も可能である。
1つの実施態様では、この方法は、1種または複数種の添加剤を反応器に導入してフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料を製造するステップをさらに含む。例えば、製造されたCBFFCNTをコーティングし、および/または、CBFFCNTと混合して、CBFFCNT複合材を作るために、1種または複数種の添加剤を使用できる。添加剤の目的は、例えば、マトリックスに付着したCBFFCNTの触媒効率を増大させること、および/または、マトリックスの性質(硬さ、剛性、化学反応性、光学特性および/または熱伝導率および/または電気伝導率および/または膨張係数など)を制御することである。CBFFCNT複合材料用のコーティングまたはエアロゾル化粒子添加剤として、好ましくは1種または複数種の金属含有材料および/または有機材料(ポリマーなど)および/またはセラミック、溶剤および/またはそれらのエアロゾルを使用できる。本発明によれば、他の任意の好適な添加剤も使用できる。
得られた複合材は、例えば、直接回収し、マトリックスに付着させ、および/または表面上に付着させることができる。これは、電気力、熱泳動(thermophoretic)力、慣性力、拡散力、乱流移動(turbophoretic)力、重力および/または他の好適な力によって行って、例えば、厚膜または薄膜、糸、構造体および/または層状材料を形成させることができる。CBFFCNTは、1種または複数種の添加する固体または液体および/または固体または液体粒子によってコーティングして、CBFFCNT複合材を構成することができる。
1つの実施態様では、この方法は、固体、液体または気体の分散体(dispersion)、固体構造体、粉末、ペースト、コロイド懸濁液として、および/または表面付着物として、製造された1種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび/またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料を回収するステップをさらに含む。
1つの実施態様では、この方法は、製造されたフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび/またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料の分散体、例えば、気体分散体を、表面上および/またはマトリックスおよび/または層状構造体および/またはデバイスの中に付着させるステップをさらに含む。
種々の手段(慣性衝突、熱泳動および/または電界内での移動が含まれるが、これらに限定されない)により、合成された材料の付着の制御を行って、電気伝導率および/または熱伝導率、不透明度および/または機械的強度、硬さおよび/または延性などの所望の性質を有する、所望の形状(例えば、糸、点、膜または三次元構造体)に形成させることができる。合成された材料の付着の制御を行う手段として、電気伝導率および/または熱伝導率、不透明度および/または機械的強度、硬さおよび/または延性などの所望の性質を有する所望の形状(例えば、糸、点または膜)を形成させる、重力沈降、ファイバーおよびバリヤー濾過、慣性衝突、熱泳動および/または電界内での移動がさらにあるが、これらに限定されない。
かかる装置は、触媒粒子の製造手段;1種または複数種の触媒粒子の導入手段;1種または複数種の触媒粒子前駆物質の導入手段;1種または複数種の炭素源の導入手段;1種または複数種の炭素源前駆物質の導入手段;1種または複数種の試薬の導入手段;1種または複数種の試薬前駆物質の導入手段;1種または複数種の追加試薬の導入手段;1種または複数種の添加剤の導入手段;製造された1種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび/またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料の回収手段;製造されたフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび/またはカーボンナノチューブ複合材料の分散体(例えば、気体分散体)を付着させる手段;触媒粒子の製造手段および/または反応器へエネルギーを供給する手段の、1つまたはそれ以上をさらに具備することができる。上記の種々の材料を、例えば、反応器および/または装置の他の任意の部分へ導入するのに使用される手段は、例えば、1つの同じ手段または種々の手段を具備することができる。例えば、本発明の1つの実施態様では、1種または複数種の炭素源および試薬は、1つの同じ手段を用いて反応器に導入することができる。さらに、必要に応じて,装置は反応器内に混合手段を具備することができる。
ハードコート層は、上記導電層に隣接して配置される層であり、導電層の傷付きを防止する機能を有する。ハードコート層は、上記導電層上に隣接して配置される。つまり、ハードコート層と導電層とは接している。
ハードコート層を形成することで導電性フィルムの鉛筆硬度が上昇する。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度(JIS K5400)はH以上が好ましく、更に好ましくは2H以上であり、最も好ましくは3H以上である。
ハードコート層の厚みは、0.4〜35μmが好ましく、1〜30μmがより好ましく、1.5〜20μmがさらに好ましい。
ハードコート層は1層でも複数でもかまわない。ハードコート層が複数層の場合、全てのハードコート層の膜厚の合計が上位範囲であることが好ましい。
また、必要に応じて、表面凹凸や内部散乱付与のためにハードコート層に透光性粒子を含有させることもできる。
ハードコート層形成用組成物の態様においては、後段にて詳述する。
塗布方法としては、公知の塗布方法を採用し得る。例えば、グラビアコート、ロールコート、リバースコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ワイヤーバーコート、カーテンコート、押出コート、スピナーコート等が挙げられる。
加熱処理の条件は使用される材料により異なるが、反応効率がより優れる点で、40〜200℃(好ましくは50〜150℃)で0.5分〜10分(好ましくは1分〜5分)処理することが好ましい。
また、照射条件はそれぞれのランプの条件によって異なるが、通常、照射露光量は20〜10000mJ/cm2の範囲であればよく、100〜3000mJ/cm2の範囲であることが好ましい。
なお、前述の好ましい条件の範囲内で、条件を変更しつつ、段階的な加熱処理や光照射を行なってもよい。また、シワが発生しにくいフィルム温度を制御する目的でUV照射時に接触するロールの温度を制御してもよい。
本発明において、ハードコート層は、不飽和二重結合を有する化合物、重合開始剤、必要に応じて、透光性粒子、含フッ素またはシリコーン系化合物、溶剤を含有する組成物を、導電層上に直接または他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。
以下、ハードコート層形成用組成物(その1)に含まれる各成分について説明する。
ハードコート層形成用組成物には不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を2つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。重合性不飽和基を2つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は3つ以上であることがより好ましい。これらモノマーは、1または2官能のモノマーと3官能以上のモノマーを併用して用いることもできる。
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物はハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物中、1〜90質量%が好ましく、2〜80質量%がより好ましく、5〜70質量%がさらに好ましい。
ハードコート層形成用組成物が更に、5官能以上の(メタ)アクリレートを含有する場合、5官能以上の(メタ)アクリレートは、ハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物中、1〜70質量%が好ましく、2〜60質量%がより好ましく、5〜50質量%が特に好ましい。
ハードコート層に透光性粒子を含有させることで、ハードコート層表面に凹凸形状を付与したり、内部ヘイズを付与したりすることもできる。
ハードコート層に用いることができる透光性粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子(屈折率1.49)、架橋ポリ(アクリル−スチレン)共重合体粒子(屈折率1.54)、メラミン樹脂粒子(屈折率1.57)、ポリカーボネート粒子(屈折率1.57)、ポリスチレン粒子(屈折率1.60)、架橋ポリスチレン粒子(屈折率1.61)、ポリ塩化ビニル粒子(屈折率1.60)、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子(屈折率1.68)、シリカ粒子(屈折率1.46)、アルミナ粒子(屈折率1.63)、ジルコニア粒子、チタニア粒子、または中空や細孔を有する粒子等が挙げられる。
なかでも、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、ハードコート層に好適な表面凹凸、表面ヘイズ、内部ヘイズ、全ヘイズを達成することができる。バインダー(透光性樹脂)の屈折率は、1.45〜1.70が好ましく、1.48〜1.65がより好ましい。
また、透光性粒子と、ハードコート層のバインダーとの屈折率の差(「透光性粒子の屈折率」−「透光性粒子を除くハードコート層の屈折率」)は、絶対値として、好ましくは0.05未満であり、より好ましくは0.001〜0.030、更に好ましくは0.001〜0.020である。ハードコート層中の透光性粒子とバインダーとの屈折率の差を0.05未満にすると、透光性粒子による光の屈折角度が小さくなり、散乱光が広角まで広がらず、悪化作用が無く好ましい。
好ましい第1の態様としては、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としたバインダー(硬化後の屈折率が1.50〜1.53)とアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート/スチレン重合体からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましい。低屈折率であるアクリル成分と高屈折率であるスチレン成分の組成比を調節することで、透光性粒子とバインダーとの屈折率差を0.05未満にすることが容易である。アクリル成分とスチレン成分の比率は質量比で50/50〜100/0が好ましく、更に好ましくは60/40〜100/0であり、最も好ましくは65/35〜90/10である。架橋ポリ(メタ)アクリレート/スチレン重合体からなる透光性粒子の屈折率としては、1.49〜1.55が好ましく、更に好ましくは1.50〜1.54であり、最も好ましくは1.51〜1.53である。
好ましい第2の態様としては、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としたバインダーに対して、1〜100nmの平均粒子サイズの無機微粒子を併用することで、モノマーと無機微粒子からなるバインダーの屈折率を調節し、既存の透光性粒子との屈折率差を調節するものである。無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの金属の酸化物、具体例としては、SiO2、ZrO2、TiO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、ITO等が挙げられる。好ましくは、SiO2、ZrO2、Al2O3などが挙げられる。これら無機粒子は、モノマーの総量に対して1〜90質量%の範囲で混合して用いることができ、好ましくは5〜65質量%である。
ここで、透光性粒子を除くハードコート層の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
透光性粒子の平均粒径の測定方法は、粒子の平均粒径を測る測定方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは透過型電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒子の観察を行い、粒子100個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とできる。
また、透光性粒子の塗布量は、好ましくは10〜2500mg/m2、より好ましくは30〜2000mg/m2、更に好ましくは100〜1500mg/m2である。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
ハードコート層形成用組成物には光重合開始剤を含有させることが好ましい。
ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、0.5〜8質量%が好ましく、1〜5質量%がより好ましい。
導電性フィルムは、タッチパネル付き表示装置の部材などに使用されるが、液晶等の劣化防止の観点から、UV硬化を阻害しない範囲でハードコート層に紫外線吸収剤を含有させることで、導電性フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。
ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、透光性粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,5−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、1,2−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン(MIBK)、2−オクタノン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は20〜80質量%の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは30〜75質量%であり、更に好ましくは40〜70質量%である。
次に、帯電防止反射防止フィルムに用いる(帯電防止性)ハードコート層形成用組成物について説明する。
以下、ハードコート層形成用組成物(その2)に含まれる各種成分について詳述する。
本ハードコート層形成用組成物は、4級アンモニウム塩基を有する化合物を含有する。
4級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型または高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型のカチオン化合物がより好ましく用いられる。
高分子型の4級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、4級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式(I)〜(III)で表される構造単位の少なくとも1つの単位を有するポリマーが好ましい。
一般式(II)中のAおよびB、並びに、一般式(III)中のDは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−R7COR8−、−R9COOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16)m−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−または−R23NHCONHR24NHCONHR25−を表す。
一般式(III)中のEは、単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−R7COR8−、−R9COOR10OCOR11−、−R12OCR13COOR14−、−R15−(OR16)m−、−R17CONHR18NHCOR19−、−R20OCONHR21NHCOR22−、−R23NHCONHR24NHCONHR25−または−NHCOR26CONH−を表す。R7、R8、R9、R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19、R20、R22、R23、R25およびR26はアルキレン基を表す。R10、R13、R18、R21およびR24は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基およびアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。mは1〜4の正の整数を表す。
X‐はアニオンを表す。
Z1、Z2は−N=C−基と共に5員または6員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡N+[X−]−なる4級塩の形でEに連結してもよい。
nは5〜300の整数を表す。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数1〜4の分岐または直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数1〜12のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数6〜15のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数2〜10のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数6〜12のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
Yは、好ましくは水素原子である。
Lは、好ましくは−COO−である。
Jは、好ましくはフェニルメチレン基、メチレン基、エチレン基、プロピレン基である。
Qは、下記一般式(VI)で表される基であり、R2、R2’およびR2’’は各々メチル基である。
X−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
pおよびqは、好ましくは0または1であり、より好ましくはp=1、q=1である。
一般式(II)中のAおよびB、並びに、一般式(III)中のDは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数2〜10の置換または無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
X−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Eは、好ましくは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
Z1、Z2が、−N=C−基と共に形成する5員または6員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
ハードコート層形成用組成物には、不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。不飽和二重結合を有する化合物としては、上述した[ハードコート層形成用組成物(その1)]にて説明した化合物と同義である。
ハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、40〜98質量%が好ましく、60〜95質量%がより好ましい。
ハードコート層形成用組成物は、光重合開始剤を含有することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、および好ましい態様、市販品などは、特開2009−098658号公報の段落[0133]〜[0151]に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
「最新UV硬化技術」{(株)技術情報協会}(1991年)、p.159、および、「紫外線硬化システム」加藤清視著(平成元年、総合技術センター発行)、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
ハードコート層形成用組成物は種々の有機溶剤を含有してもよい。
本発明においては、イオン伝導性化合物との相溶性得る観点で、親水性溶媒を含んでいることが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒などが挙げられ、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、2−エチル−1−ヘキサノール、2−メチル−1ヘキサノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルn−プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−メトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸メチル、2−エトキシ酢酸エチル、アセトン、1,2−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン等が挙げられ、1種単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層形成用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、帯電防止層の表面凹凸や塗布物のハジキを改良できることがある。更には、帯電防止化合物の分散性を向上させることで、より安定で高い導電性を発現できる場合があり好適である。
界面活性剤としては、具体的には、フッ素系界面活性剤、または、シリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。
一般式(F1)
一般式(F2)
一般式(F1−1)
界面活性剤は、ハードコート層形成用組成物の全固形分中に0.01〜0.5質量%含有されることが好ましく、0.01〜0.3質量%がより好ましい。
本発明の導電性フィルムは、上述した、支持体、導電層、および、ハードコート層を有する。
導電性フィルムのシート抵抗値は特に制限されないが、導電性がより優れる点で、10〜150Ω/□が好ましく、10〜100Ω/□がより好ましい。
シート抵抗値は、三菱ケミカルコーポレーションLoresta−GP(MCP−T600)を用いて、四探針法によりJIS K 7194に準拠して測定した値とする。
導電性フィルムは、種々の用途に適用することができ、例えば、タッチパネル用(または、タッチパネルセンサー用)などが挙げられる。
以下、使用される偏光子について詳述する。
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第5048120号公報、特許第5143918号公報、特許第5048120号公報、特許第4691205号公報、特許第4751481号公報、特許第4751486号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と1/4波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、後述する導電層との密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂(特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも1つ)を含む偏光子であることが好ましい。
なお、上記厚みは平均値であり、任意の10点の偏光子の厚みを測定して、それらを算術平均した値である。
以下、導電性フィルムをタッチパネルに適用した場合の好適態様について詳述する。
上述した導電性フィルムは、タッチパネル(好ましくは、静電容量式タッチパネル)に好適に使用できる。より具体的には、タッチパネルを構成する部材として適用することができ、導電層は、静電容量の変化を感知する検出電極(センサー電極)や、検出電極に電圧を印加するため引き出し配線(周辺配線)などに好適に適用できる。
以下、本発明の導電性フィルムを適用したタッチパネル付き表示装置の第1の実施態様について、図1を参照して説明する。図1は、本発明のタッチパネル付き表示装置の一例を示す概略断面図である。なお、図1は、タッチパネル付き表示装置の層構成に対する理解を容易にするために模式的に表したものであり、各層の配置を正確に表した図面ではない。
なお、このタッチパネル付き表示装置10においては、保護基板12表面(タッチ面)に指が近接、接触すると、指と導電性フィルム26中の検出電極との静電容量が変化する。ここで、図示しない位置検出ドライバは、指と検出電極との間の静電容量の変化を常に検出している。この位置検出ドライバは、所定値以上の静電容量の変化を検出すると、静電容量の変化が検出された位置を入力位置として検出する。このようにして、タッチパネル付き表示装置10は、入力位置を検出することができる。
以下、タッチパネルに含まれる各部材について詳述する。まず、導電性フィルム26について詳述する。
導電性フィルム26は、支持体20と、支持体20の一方の主面上(表面上)に配置された第1タッチパネル用導電層18Aと、第1ハードコート層16Aと、支持体20の他方の主面上(裏面上)に配置される第2タッチパネル用導電層18Bと、第2ハードコート層16Bと、さらに、フレキシブルプリント配線板38とを有し、タッチパネルセンサーとして機能する。第1タッチパネル用導電層18Aは第1検出電極30および第1引き出し配線32を有し、第2タッチパネル用導電層18Bは第2検出電極34および第2引き出し配線36を有する。
第1検出電極30、第1引き出し配線32、第2検出電極34、および、第2引き出し配線36には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。つまり、第1検出電極30、第1引き出し配線32、第2検出電極34、および、第2引き出し配線36が、上述した導電層に該当する。なお、本発明はこの態様に限定されず、第1検出電極30および第2検出電極34のみが、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層であってもよい。
また、第1ハードコート層16Aおよび第2ハードコート層16Bは、本発明の導電性フィルムに含まれるハードコート層に該当し、その態様は上述の通りである。
なお、第1検出電極30および第2検出電極34がある領域は、操作者によって入力操作が可能な入力領域EI(物体の接触を検知可能な入力領域(センシング部))を構成し、入力領域EIの外側に位置する外側領域EOには第1引き出し配線32、第2引き出し配線36およびフレキシブルプリント配線板38が配置される。
第1検出電極30は、入力領域EIに接近した操作者の指のX方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第1検出電極30は、第1方向(X方向)に延び、第1方向と直交する第2方向(Y方向)に所定の間隔をあけて配列された電極である。
第2検出電極34は、入力領域EIに接近した操作者の指のY方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第2検出電極34は、第2方向(Y方向)に延び、第1方向(X方向)に所定の間隔をあけて配列された電極である。図2においては、第1検出電極30は5つ、第2検出電極34は5つ設けられているが、その数は特に制限されず複数あればよい。
第1引き出し配線32は、外側領域EOの支持体20上に配置され、その一端が対応する第1検出電極30に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板38に電気的に接続される。
第2引き出し配線36は、外側領域EOの支持体20上に配置され、その一端が対応する第2検出電極34に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板38に電気的に接続される。
なお、図2においては、第1引き出し配線32は5本、第2引き出し配線36は5本記載されているが、その数は特に制限されず、通常、検出電極の数に応じて複数配置される。
また、保護基板12としては、偏光板、円偏光板などを用いてもよいし、複数の基板(例えば、ガラス板と偏光板)を組み合わせて使用してもよい。
表示装置24の種類は特に制限されず、公知の表示装置を使用することができる。例えば、陰極線管(CRT)表示装置、液晶表示装置(LCD)、有機発光ダイオード(OLED)表示装置、真空蛍光ディスプレイ(VFD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、表面電界ディスプレイ(SED)、電界放出ディスプレイ(FED)または電子ペーパー(E−Paper)などが挙げられる。
以下、本発明の導電性フィルムを適用したタッチパネル付き表示装置の第2の実施態様について、図4を参照して説明する。
図4に例示するように、本発明のタッチパネル付き表示装置110は、保護基板12と、上部粘着層14と、第1ハードコート層16Aと、第3タッチパネル用導電層18Cと、支持体20と、下部粘着層22と、表示装置24とをこの順で有する。第1ハードコート層16A、第3タッチパネル用導電層18C、および、支持体20は、導電性フィルム126を構成する。また、保護基板12と、上部粘着層14と、導電性フィルム126と、下部粘着層22とは、静電容量式タッチパネル128を構成する。後述するように、第3タッチパネル用導電層18Cには、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層が含まれる。つまり、上記導電性フィルム126は、本発明の導電性フィルムに該当する。
図4に示すタッチパネル付き表示装置110は、第3タッチパネル用導電層18Cの点を除いて、図1に示すタッチパネル付き表示装置10と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下、主に、第3タッチパネル用導電層18Cについて詳述する。
導電性フィルム126は、支持体20と、支持体20上に配置された第3タッチパネル用導電層18Cと、第3タッチパネル用導電層18C上に配置された第1ハードコート層16Aと、さらに、フレキシブルプリント配線板38とを有し、タッチパネルセンサーとして機能する。第3タッチパネル用導電層18Cは、第1の電極40、第2の電極42、第1の接続部44、第2の接続部46、絶縁層48、および、引き出し配線50を有する。
第1の電極40、第2の電極42および引き出し配線50には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。つまり、第1の電極40、第2の電極42および引き出し配線50が、上述した導電層に該当する。なお、本発明はこの態様に限定されず、第3タッチパネル用導電層18Cが、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を有していればよく、第1の電極40、第2の電極42および引き出し配線50以外の第1の接続部44、および、第2の接続部46にも、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれていてもよい。
なお、以下に、第3タッチパネル用導電層18Cに含まれる各部材について詳述する。
また、複数(図5では4個)の第2の電極42がx方向に直交するy方向(図5では縦方向)に直線状に並べられ、それぞれが第2の接続部46で連結され、第2の電極列をなしている。そして、この第2の電極列が支持体20上に平行に複数(図5では4列)並べられている。この第2の電極列は、いわゆる検出電極に該当する。
さらに、第1の接続部44と第2の接続部46とが重なるように上記第1の電極列と上記第2の電極列とが交差して配されているので、第1の電極40と第2の電極42とは支持体20上に格子状に配置されている。
さらに、第1の接続部44と第2の接続部46とが重なっているので、第1の接続部44と直交する第2の接続部46の導通を防止し絶縁するために、第1の接続部44と第2の接続部46との間に絶縁層48が介装されている。
さらに、第1の電極列と第2の電極列にそれぞれ接続する引き出し配線50が、支持体20上に配置されていて、これらの第1の電極40および第2の電極42とフレキシブルプリント配線板38とが引き出し配線50により接続されている。
なお、第1の電極40および第2の電極42がある領域は、操作者によって入力操作が可能な入力領域EI(物体の接触を検知可能な入力領域(センシング部))を構成し、入力領域EIの外側に位置する外側領域EOには引き出し配線50、および、フレキシブルプリント配線板38が配置される。
例えば、上述した第1の実施態様で述べた、支持体20と、支持体20の一方の主面上(表面上)に配置された第1タッチパネル用導電層18Aと、第1ハードコート層16Aとを備える片面導電層付き導電性フィルムを2枚用意して、第1タッチパネル用導電層18A中の第1検出電極30同士が直交する位置で、第1タッチパネル用導電層18A同士が対向するように、2枚の片面導電層付き導電性フィルムを粘着層にて貼り合せて得られる積層型導電性フィルムも、タッチパネルに好適に適用できる。
なお、2枚の片面導電層付き導電性フィルムを貼り合せる際には、一方の片面導電層付き導電性フィルムの第1タッチパネル用導電層18Aと、他方の片面導電層付き導電性フィルムの支持体20とが対向するように、2枚の片面導電層付き導電性フィルムを粘着層にて貼り合せてもよい。
(フラーレン官能基化カーボンナノチューブ(CBFFCNT)の合成)
触媒粒子源としてフェロセン、試薬(1種または複数種)として水蒸気および/または二酸化炭素を用い、炭素源としての一酸化炭素からのCBFFCNTの合成を行った。以下に、その条件を詳述する。
炭素源:CO。触媒粒子源:フェロセン(反応器内の蒸気分圧は0.7Pa)。使用炉温:800、1000、および、1150℃。使用流量:300ccmのCOの内部流(フェロセン蒸気を含む)および100ccmのCOの外部流。試薬:水蒸気(150および270ppm)および/または二酸化炭素(1500〜12000ppm)。
この合成は、特表2009−515804の図3(a)に示す態様で実施した。この実施態様では、触媒粒子はその場でフェロセン蒸気分解によって成長した。室温のCOを、ガスボンベ(2)から(300ccmの流量で)フェロセン粉末を満たしたカートリッジ(4)を通過させることにより、前駆物質を蒸発させた。その後、フェロセン蒸気を含んだ流れを、水冷プローブ(5)を通してセラミック管反応器の高温ゾーンに導入し、100ccmの流量の追加のCO流れ(1)と混合した。
次に、酸化エッチング剤(例えば、水および/または二酸化炭素)を、炭素源と一緒に導入した。さらに、反応器内のフェロセンの蒸気分圧を0.7Paに維持した。その後、反応器の壁の設定温度は、800℃から1150℃まで変化させた。
エアロゾル生成物は、銀円板フィルターまたは透過型電子顕微鏡(TEM)のグリッドのいずれかによって反応器の下流で回収した。これらエアロゾル生成物中に、カーボンナノチューブとフラーレンが共有結合したCBFFCNTがあることが確認された。
次に、フィルター上に配置された導電層を、支持体(市販のセルロールアシレートフィルムTD60UL(富士フイルム(株)製)、厚み:60μm)上に転写して、支持体上に導電層(厚み:9μm)を配置した。
(ハードコート層作製手順)
イルガキュア184(光重合開始剤、BASFジャパン社製)4質量部を、メチルエチルケトン(MEK)/メチルイソブチルケトン(MIBK)の混合溶剤中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が40質量%の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)とU−4HA(4官能ウレタンオリゴマー、重量平均分子量600、新中村化学社製)とU−15HA(15官能ウレタンオリゴマー、重量平均分子量2300、新中村化学社製)とポリマー(7975−D41、アクリル二重結合当量250、重量平均分子量15000、日立化成工業社製)を、固形分比で、25質量部:25質量部:40質量部:10質量部となるように添加して攪拌した。この溶液に、レベリング剤(製品名:メガファックF−477、DIC社製)を固形分比で0.2質量部添加して撹拌し、ハードコート層形成用組成物を調製した。
このハードコート層形成用組成物を、導電層上に、スリットリバースコートにより塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を70℃で1分間乾燥させた後、紫外線照射量150mJ/cm2で紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み6μmのハードコート層を形成した。
実施例1にして使用した支持体の種類を変更した以外は、実施例1と同様の手順に従って、導電性フィルムを得た。
支持体としてPET(東洋紡(株)社製コスモシャイン)基板を使用し、かつ、CBFFCNTを含む導電層を作製する代わりに、以下の手順に従って、ITO層を作製した以外は、実施例1と同様の手順に従って、導電性フィルムを得た。
PET(東洋紡(株)社製コスモシャイン)基板にAr流量300sccm、出力700V/0.05Aにてプラズマ処理を施し、スパッタリング装置内に配置し、真空排気を行いながらローラーを140℃に加熱し、圧力を2×10-1Paに保持し、アルゴンガスおよび酸素ガス流入下で、ターゲットとして質量比In2O3/SnO3=90/10の酸化物混合体を用いたスパッタリングにより、PET基板のプラズマ処理を施した面に、ITOからなる透明導電層を厚さ200オングストロームで積層して、導電層を得た。
支持体としてT25UL(セルロースアシレートフィルム、富士フイルム(株)社製、膜厚25μm)を使用し、かつ、CBFFCNTを含む導電層を作製しなかった以外は、実施例1と同様の手順に従って、導電性フィルムを得た。
作製した導電性フィルム(実施例1〜11、比較例3)を、ハードコート層を上(空気側)にして平滑な机上にセットした。上部から白色光を当てて反射法でフィルム面状を観察し、目視によりシワの有無を判別した。シワがなく、平坦性に優れる場合を「A」、シワが確認でき、平坦性に劣る場合を「B」とした。
光透過率は、ヘイズメーター(NDH2000、日本電色工業(株)製)を用いて測定した。
作製した導電性フィルムから80mm×50mmのサンプルを切り出し、三菱ケミカルコーポレーションLoresta−GP(MCP−T600)を用いて、四探針法によりJIS K 7194に準拠して、シート抵抗値を測定した。
・TD40:セルロースアシレートフィルム(フジタックTD40UC、富士フイルム(株)製)
・T25:セルロースアシレートフィルム(T25UL,富士フイルム(株)製)
・TG40:セルロースアシレートフィルム(フジタックTG40UL、富士フイルム(株)製)
・TJ25:セルロースアシレートフィルム(フジタックTJ25UL、富士フイルム(株)製)
・ZRD40:セルロースアシレートフィルム(フジタックZRD40、富士フイルム(株)製)
・アクリル:アクリルフィルム(テクノロイS001G,住友化学(株)製)
・シクロオレフィン:シクロオレフィンフィルム(ZF14,日本ゼオン(株)製)
・PET:ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡(株)製コスモシャイン)
(コア層セルロースアシレートドープの作製)
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
----------------------------------------------------------------
アセチル置換度2.88のセルロースアセテート 100質量部
エステルオリゴマーA 10質量部
下記の添加剤B 4質量部
紫外線吸収剤C 2質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 430質量部
メタノール(第2溶媒) 64質量部
----------------------------------------------------------------
芳香族ジカルボン酸(アジピン酸:フタル酸比率3:7)とジオール(エチレングリコール)の共重合体(末端はアセチル基)。分子量1000
上記のコア層セルロースアシレートドープ90質量部に下記のマット剤溶液を10質量部加え、外層セルロースアセテート溶液を調製した。
----------------------------------------------------------------
平均粒子サイズ20nmのシリカ粒子
(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製)
2質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 76質量部
メタノール(第2溶媒) 11質量部
コア層セルロースアシレートドープ 1質量部
----------------------------------------------------------------
コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを3層同時に流延口から20℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略20質量%の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶剤が3〜15%の状態で、横方向に1.1倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚さ40μmのセルロースアシレートフィルム(サンプルA)を作製した。
膜厚を15μmに調整したこと以外はサンプルAと同様に製膜し、サンプルBを作製した。
下記の素材を使用し、フィルム作製を行なった。
ペレット状のアートン(JSR製、Tg 120℃) 20質量部
添加剤1(スミライザーGP(住友化学製)) 0.1質量%
マット剤1(二酸化ケイ素微粒子(粒子サイズ20nm)) 0.02質量%
なお、上記「質量%」は、添加剤1(または、マット剤1)のアートン全質量に対する、割合(質量%)を表す。
混練押出し機で、260℃で溶融し、ギアポンプから押し出された溶融樹脂は、ろ過精度5μmのリーフディスクフィルターでろ過した。続いて、スリット間隔1.0mm、260℃のハンガーコートダイから、ガラス転移温度Tgに設定したキャストロール(CR)上に溶融樹脂を押出し、クラウン形状のタッチロールを接触させた。なお、タッチロールは特開平11−235747号公報の実施例1に記載のもの(二重抑えロールと記載のあるもの)を用い、Tg−5℃に調温した(但し、薄肉金属外筒厚みは3mmとした)。この後、続けてTg+5℃、Tg−10℃に温度を設定したキャストロールを通過させた。
続いて、一対のニップロールを有する延伸ゾーンで搬送方向に延伸し、さらにTg+40℃で熱緩和した後、両端(全幅の各5%)をトリミングして、所望のフィルムを得た。なお、レタデーションは延伸温度を調整して制御した。
一方、所定の支持体を使用していない比較例1および2においては光透過性が劣っており、所定の導電層を用いていない比較例3においては平坦性に劣っていた。
実施例1の手順に従って、支持体の両面に導電層を配置した。その後、後述する手順に従って、図2に示すような、第1検出電極、第1引き出し配線、第2検出電極、および、第2引き出し配線に位置する部分の導電層のみを残して、他の導電層をエッチングにより除去した。その後、実施例1の手順に従って、パターン状の導電層上にハードコート層をそれぞれ配置して、導電性フィルムを得た。
なお、第1検出電極の長さは170mmであり、本数は32本であり、第2検出電極の長さは300mmであり、本数は56本であった。
次に、得られた導電性フィルムと共に、保護基板、上部粘着層、導電性フィルム、下部粘着層、および、液晶表示装置を用いて、図1に示すような積層順にて貼り合せて、タッチパネル付き表示装置を得た。
支持体上に配置された導電層に対して、紫外線レーザーを用いたレーザーエッチング法(例えば、WO2013/176155参照)で、所望のパターンを形成した。
12 保護基板
14 上部粘着層
16A,16B ハードコート層
18A,18B,18C タッチパネル用導電層
20 支持体
22 下部粘着層
24 表示装置
26,126 導電性フィルム
28,128 タッチパネル
30 第1検出電極
32 第1引き出し配線
34 第2検出電極
36 第2引き出し配線
38 フレキシブルプリント配線板
40 第1の電極
42 第2の電極
44 第1の接続部
46 第2の接続部
48 絶縁層
50 引き出し配線
Claims (7)
- 波長550nmにおける面内レタデーションRe(550)が10nm以下であり、波長550nmにおける厚み方向のレタデーションRth(550)が−60〜60nmである支持体と、
前記支持体の少なくとも片面上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含み、厚みが10μm未満である導電層と、
前記導電層上に隣接して配置されたハードコート層と、を有する導電性フィルム。 - シート抵抗値が10〜150Ω/□である、請求項1に記載の導電性フィルム。
- 前記支持体の厚みが10〜60μmである、請求項1または2に記載の導電性フィルム。
- 前記支持体が、セルロースアシレート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、および、シクロオレフィン系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性フィルム。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
- タッチパネルに用いられる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性フィルム。
- 請求項6に記載の導電性フィルムを有する、タッチパネル付き表示装置。
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