JP2015532213A - 対象物にマーキングを施すための方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (46)
- 対象物にマーキングを施す方法であって、
初期外観を有する対象物を用意し、
複数のレーザパルスグループを生成し、
前記複数のレーザパルスグループのうちの少なくとも1つのグループは、レーザパルスビームを変調して、それぞれ少なくとも1つのレーザパルスを含む複数のビームレットを形成することにより生成され、
前記複数のグループのうちの前記少なくとも1つのグループが、互いに重なり合わないスポット領域で前記対象物に当たるように、前記対象物上に前記複数のレーザパルスグループを照射し、
前記複数のグループ内のレーザパルスは、前記対象物上に可視マークを生成するように構成されており、前記マークは前記初期外観とは異なる修正外観を有している、
方法。 - 前記対象物は、基板と、該基板に隣接するパッシベーション層とを含む、請求項1の方法。
- 前記基板は金属を含む、請求項2の方法。
- 前記パッシベーション層は前記金属の酸化物を含む、請求項3の方法。
- 前記基板はアルミニウムを含む、請求項2の方法。
- 前記レーザパルスのうちの少なくとも1つのレーザパルスは、340nmよりも長い波長を有する光を含む、請求項1の方法。
- 前記レーザパルスのうちの少なくとも1つのレーザパルスは、750nmよりも長い波長を有する光を含む、請求項1の方法。
- 前記レーザパルスのうちの少なくとも1つのレーザパルスは、3000nmよりも短い波長を有する光を含む、請求項1の方法。
- 前記複数のグループのうちの前記少なくとも1つのグループは、少なくとも2つのレーザパルスを含む、請求項1の方法。
- 前記複数のグループのうちの前記少なくとも1つのグループは、多くても20個のレーザパルスを含む、請求項1の方法。
- 前記複数のグループのうちの少なくとも2つのグループは、同じ数のレーザパルスを含む、請求項1の方法。
- 前記複数のグループのうちの少なくとも2つのグループは、異なる数のレーザパルスを含む、請求項1の方法。
- 前記複数のグループのうちの前記少なくとも1つのグループ内の少なくとも2つのレーザパルスは、同時に前記対象物に当たる、請求項1の方法。
- 前記複数のグループのうちの前記少なくとも1つのグループ内の少なくとも2つのレーザパルスは、連続的に前記対象物に当たる、請求項1の方法。
- 前記複数のレーザパルスグループを前記対象物に連続的に照射する際に、
第1のレーザパルスグループを前記対象物に照射して、前記第1のグループ内のレーザパルスが第1のスポット領域セットで前記対象物に当たり、
前記第1のレーザパルスグループを照射した後に、第2のレーザパルスグループを前記対象物に照射して、前記第2のグループ内のレーザパルスが前記第1のスポット領域セットからオフセットされた第2のスポット領域セットで前記対象物に当たる、
請求項1の方法。 - 前記第2のセット内の少なくとも1つのスポット領域は、前記第1のセット内のスポット領域と重なり合う、請求項15の方法。
- 前記第2のセット内の少なくとも1つのスポット領域は、前記第1のセット内のいずれのスポット領域とも重なり合わない、請求項15の方法。
- さらに、前記第2のレーザパルスグループを照射した後に、第3のレーザパルスグループを前記対象物に照射し、第3のスポット領域セットは、前記第1の方向とは異なる第2の方向に沿って前記第1のスポット領域セットからオフセットされる、請求項15の方法。
- 前記第3のセット内の少なくとも1つのスポット領域は、前記第1のセット内のスポット領域と重なり合う、請求項18の方法。
- 前記第3のセット内の前記少なくとも1つのスポット領域と前記第2のセット内の前記少なくとも1つのスポット領域は、前記第1のセット内の異なるスポット領域と重なり合う、請求項19の方法。
- 前記第3のセット内の前記少なくとも1つのスポット領域と前記第2のセット内の前記少なくとも1つのスポット領域は、前記第1のセット内の同じスポット領域と重なり合う、請求項19の方法。
- 前記第3のセット内の少なくとも1つのスポット領域は、前記第1のセット又は前記第2のセット内のいずれのスポット領域とも重なり合わない、請求項18の方法。
- 前記複数のグループのうちの前記少なくとも1つのグループ内において、前記レーザパルスのうち少なくとも2つのレーザパルスは、前記スポット領域のうちの1つの幅よりも長い距離だけ互いに離間したスポット領域で前記対象物に当たる、請求項1の方法。
- 前記複数のグループのうちの前記少なくとも1つのグループ内において、前記レーザパルスのうち少なくとも2つのレーザパルスは、前記スポット領域のうちの1つの幅の6倍よりも短い距離だけ互いに離間したスポット領域で前記対象物に当たる、請求項1の方法。
- 前記複数のグループのうちの前記少なくとも1つのグループ内において、前記レーザパルスのうち少なくとも2つのレーザパルスは、前記スポット領域のうちの1つの幅の2倍の距離だけ互いに離間したスポット領域で前記対象物に当たる、請求項1の方法。
- 前記スポット領域のうち少なくとも1つの幅は3μmよりも大きい、請求項1の方法。
- 前記スポット領域のうち少なくとも1つの幅は1mmよりも小さい、請求項1の方法。
- 前記スポット領域のうち少なくとも1つの幅は、5μmから350μmの範囲にある、請求項1の方法。
- 前記スポット領域のうち少なくとも1つの幅は、10μmから100μmの範囲にある、請求項1の方法。
- 前記少なくとも1つのレーザパルスグループ内の少なくとも2つのレーザパルスは、同じ幅を有するスポット領域で前記対象物に当たる、請求項1の方法。
- 前記少なくとも1つのレーザパルスグループ内の少なくとも2つのレーザパルスは、異なる幅を有するスポット領域で前記対象物に当たる、請求項1の方法。
- 前記マークは、前記初期外観の色の明るさのファクターの大きさとは異なる色の明るさのファクターの大きさL*を有する、請求項1の方法。
- 前記マークの少なくとも一部の前記色の明るさのファクターの大きさL*は、前記初期外観の色の明るさのファクターの大きさよりも小さい、請求項32の方法。
- 前記マークの少なくとも一部の前記色の明るさのファクターの大きさL*は、前記初期外観の色の明るさのファクターの大きさよりも大きい、請求項32の方法。
- 前記ビームを変調する際に、前記ビーム内の少なくとも1つのレーザパルスを回折する、請求項1の方法。
- 前記ビームを変調する際に、前記ビーム内の少なくとも1つのレーザパルスを屈折する、請求項1の方法。
- 前記ビームを変調する際に、前記ビーム内の少なくとも1つのレーザパルスを反射する、請求項1の方法。
- 対象物にマーキングを施す方法であって、
初期外観を有する対象物を用意し、
複数のレーザパルスグループを連続的に前記対象物上の対応するスポット領域セットで前記対象物上に照射し、前記レーザパルスは、前記対象物上に可視マークを生成するように構成されており、前記マークは前記初期外観とは異なる修正外観を有している、
少なくとも1つのスポット領域セット内で、隣り合うスポット領域がスポット離間ピッチだけ互いにオフセットされ、
あるのスポット領域セット内のスポット領域は、前記スポット離間ピッチよりも短いスポットピッチだけ他のスポット領域セットのスポット領域からオフセットされる、
方法。 - 対象物にマーキングを施す方法であって、
初期外観を有する対象物を用意し、
前記対象物上のスポット領域で前記対象物上にレーザパルスを照射し、前記レーザパルスは、前記対象物上に可視マークを生成するように構成され、前記マークは前記初期外観とは異なる修正外観を有しており、
前記スポット領域の少なくとも一部は、少なくとも実質的に6回回転対称性を有する構成となっている、
方法。 - 請求項1に記載された方法によりマークが形成された対象物。
- 対象物上にレーザパルスを照射するように構成されたレーザシステムと、
前記レーザシステムに連結されたコントローラであって、
請求項1のいずれか一項に記載された方法を行うように前記レーザシステムを制御する命令を実行するように構成されたプロセッサと、
前記命令を格納するように構成されたメモリと、
を備えたコントローラと、
を備える、装置。 - 前記レーザシステムは、レーザパルスビームを生成するように構成されたレーザ源を備える、請求項41の装置。
- 前記レーザシステムは、複数のレーザ源を備える、請求項42の装置。
- 前記対象物マーキングシステムは、前記レーザエネルギービームを変調してそれぞれ少なくとも1つのレーザパルスを含む複数のビームレットを形成するように構成されたビームレット生成器を備える、請求項41の装置。
- 前記ビームレット生成器は、スピンドルミラー、光回折素子、音響光学偏向器、光屈折素子、及び電気光学偏向器からなる群より選択される少なくとも1つである、請求項44の装置。
- 前記複数のレーザパルスグループは、第1のレーザパルスグループと第2のレーザパルスグループとを含み、前記第1のレーザスポットグループのビームレットの変調及び前記第2のレーザスポットグループの変調とにより、前記第1のレーザスポットグループ内のパルス数が前記第2のレーザスポットグループ内のパルス数と異なる、請求項1の装置。
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