JP2015524059A - 可視パターンを有する透明な又は半透明な容器を検査するための光学的方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、容器（２）を検査するための光学的な方法に関する。本方法は、各容器の少なくとも１つのイメージ（Ｉi）を撮る工程と、容器の各イメージにおける少なくとも１つの探索ゾーン（Ｚｒ）であって、少なくとも１つの可視パターン（３）が出現する探索ゾーン（Ｚｒ）を決定する工程と、少なくとも１つの可視パターン（３）を含むイメージの少なくとも１つの処理ゾーン（Ｚｔ）のためのデジタルマスク（Ｍi）を準備する工程と、少なくともイメージの処理ゾーンの各画素をデジタルマスク（Ｍi）と比較する工程と、を備える。本発明によれば、本方法は、容器に属する少なくとも１つの可視パターン（３）を選択する工程と、容器のイメージの探索ゾーン（Ｚｒ）において選択された可視パターン（３）の位置及び向きを決定する工程と、デジタルマスク（Ｍi）又は処理ゾーン（Ｚｔ）に対し、処理ステップの期間中に、マスク（Ｍi）及び処理ゾーン（Ｚｔ）をこれらが一致する位置に配置できるように、幾何学的な変換（Ｔ）を適用する工程と、処理ゾーン（Ｚｔ）の各画素にイメージ処理であって、デジタルマスク（Ｍi）の一致する画素の明度の値に従属する処理を適用する工程と、を備える。【選択図】図３

Description

本発明は、透明な又は半透明な容器の中に存在すれば、光を吸収し、及び／又は、光を屈折させ、及び／又は、光を反射させる欠陥を検出するために、その容器を光学的に検査する技術分野に関する。

本発明には、装飾、紋章（des blasons）、位置決め用の突起（des ergots）又はノッチ（des encoches）、及び／又は、型番号や製造者の商標などの識別マーク又は認証マークなどの、広義の可視パターンを含む、ガラス又はプラスチック材料でできた容器における欠陥の検出において特に有利な応用が見出される。

製造ラインにおいて、容器の一方側に配置された光源及びその容器の他方側に配置されたカメラを有するビジョンシステムを備えた光学的な検査ステーションを高速で通過して進む容器に対し自動検査を行うことが知られている。このカメラは、その容器を通過した光の結果としてのイメージを撮る。この照明技術は、「トランスミッション」と言われている。当然ながら、その容器全体を検査するために複数の検査ステーションが必要である。そのため、容器の垂直壁を検査するための６〜２４個のカメラを備えた装置を用いることが知られている。容器の底を検査するために、容器の上方にカメラが配置され、かつ、容器の底の下に光源が配置された別のビジョンシステムが準備される。容器の底のイメージは、その容器の首（le goulot）越しに撮られる。任意に構造化されてもよく、任意に視準されてもよく、任意に偏光されてもよい光を伴う、他の光学的なシステムが用いられる。

例えば、グレーズ（glaze）のような光を反射させる欠陥を検出するために、追加的な他の装置が用いられてもよい。それらの光学的な装置は全て、検査のために各容器の少なくとも一つのイメージを取得するステップを共通に有する。

一般的な態様では、容器のイメージは、そのイメージをデジタル化した後に容器における欠陥の存在を決定するためにコンピュータを用いてそれらを解析する電子処理システムによって解析される。

容器の欠陥を検出するために、この技術の状況においては、例えば、特許出願EP 1 560 018に記載されているように、デジタルマスクを準備し、撮られたイメージをそのデジタルマスクと比較することが知られている。その特許の特定の態様において、容器は対称軸に関して回転させられ、一連のイメージが撮られている。回転を伴うこの検査システムにおいて、デジタルマスクを用いる欠点は、容器における複数のパターンのように複数の特有の特徴を考慮するために複数の異なるデジタルマスクの管理が必要なときに現れる。なぜなら、イメージが撮られている期間に、物品が軸に関して回転するにつれてそれらの特徴が異なる位置で出現するからである。

この文献によれば、デジタルマスクは、イメージ、つまり、処理対象のイメージに重ねるのに適し、処理対象のイメージにおける画素が処理されている様式を変更する画素の値を有する、値又は画素の配列であると考えられるべきである。例えば、デジタルマスクにおける画素の値は、処理対象のイメージの画素と比較される局所的なしきい値のマップとして用いられる。しかしながら、デジタルマスクの値は、処理対象のイメージにおける画素のそれぞれに利用されるフィルタサイズやゲインなどを定義することもある。

刊行物「Glass worldwide, Issue 33, 2011, 32ページ、"Quality control solution for cosmetics"」によれば、実際の生産に基づくトレーニングによってデジタルマスクを構成する、容器のイメージを解析する方法を提供することが知られており、そのトレーニングによって、例えば、物品の縁における影のように、ボトルにおいて繰り返し生じる様々な影響を考慮することが可能になる。

複数のパターンをもたらす複数の容器は、イメージを撮る瞬間に、無作為に配向されるので、この技術は、あるパターンが出現する可能性がある特定のゾーンに適用することはできない。なぜなら、トレーニングがその領域における検出感度の完全な除去につながると考えられるからである。

容器のイメージにおける特定のタイプのパターンの位置を突き止め、そのパターンを欠陥とみなすことを避けるために、それらのパターン以外にイメージ処理を適用することが知られている。しかしながら、このような事情のもとでは、そのパターン自体は、たとえそれらが実際には欠陥を含んでいたとしても、解析されない。このことは、それらのパターンに“不処理”のゾーンが位置することになる。

それらのパターンがガラスに刻まれている場合、ガラス製の容器をその製造直後に検査する場合、それらのパターンは、それらのパターンを単に単純な二元の幾何学的な形状とみなすことができない、かなり大きなコントラストの変動にも直面する。

それゆえ、例えば、紋章、又は、識別用のマーク若しくは位置決め用のマークなどの可視パターンが存在する容器における欠陥を検出することは特に難しい。イメージ処理では、撮られたイメージにおけるこのような可視パターンの存在を考慮することが必要である。容器の可視パターンに位置する欠陥の検出において大きな困難も出現する。

この技術の状況において、特許出願 WO 97/06429によれば、容器のねじ構造における欠陥を検出するのに役立つ光学的方法も知られており、その方法では、容器の多数のイメージを撮って欠陥を検出するための所定の処理ゾーンを見つけ出すことが試みられる。各処理ゾーンに対して、このゾーンにおける全ての画素がしきい値と比較されている。このしきい値は、単に、各ゾーンの全体的な統計に基づいて計算される。その技術では、複雑なイメージの精細な解析を行うこと、及び、例えば、紋章、又は、識別用のマーク若しくは位置決め用のマークなどの可視パターンが存在する容器における欠陥を検出することができない。

文献US 2005/259868には、対象物の一連のイメージを形成する工程と、得られた一連のイメージの少なくとも一つのイメージを予め記録された一連のイメージに含まれている一つのイメージと比較する工程とを備えた、対象物を検査する光学的方法が記載されている。その文献には、イメージを別のイメージと比較する前に、イメージに対して、並行移動及び／又は回転移動を含む幾何学的操作を行うことが教示されている。このような方法は、パターンが可変である場合、及び、照明及び観測装置に対する対象物の位置に応じてイメージが大きく変動する場合にも、透明な対象物によってもたらされる浮き彫りになったパターンを検査するのに適していない。なぜなら、その方法を用いて観測されるこのタイプの対象物では、屈折が起こらないからである。

本発明は、可視パターンを有する透明な又は半透明な容器を検査するための新規な光学的方法を提案することによって、先行技術の欠点を軽減しようとするものであり、その方法は、特に、その可視パターンを含む容器のゾーンにおいて欠陥を検出するように設計され、撮られたイメージにおける可視パターンの位置に関わらず検査が首尾よく行われることを可能にする。

このような目的を達成するために、本発明の光学的方法は、少なくとも１つの可視パターンを含む、透明な又は半透明な材料でできた容器を検査するためのビジョンシステムを用いようとするものである。

本発明によれば、その光学的方法は、
前記ビジョンシステムを通過して進む前記容器を照らす工程と、
前記ビジョンシステムを通過して進む各容器の少なくとも１つのイメージを形成する工程であって、各イメージが所定の数の画素を有し、かつ、各画素が個別の明度レベルを有する、工程と、
前記容器の前記イメージにおいて、検査対象の少なくとも１つの可視パターンを含む少なくとも１つの処理ゾーンと、少なくとも１つのマーカー可視パターンが出現する少なくとも１つの探索ゾーンとを決定する工程と、
少なくとも前記イメージの前記処理ゾーンのためのデジタルマスク準備する工程と、
前記容器の前記イメージにおける前記探索ゾーンの前記マーカー可視パターンの位置及び向きを決定する工程と、
前記デジタルマスク又は前記処理ゾーンに対して、前記マスク及び前記処理ゾーンが処理ステップの期間中にそれらが一致する位置に配置されるように、幾何学的な変換であって、前記マーカー可視パターンの位置及び向きの関数である変換を適用する工程と、
前記処理ゾーンの各画素に対して、前記容器における欠陥の存在を検出するために、イメージ処理であって、前記デジタルマスクの一致する画素の明度の値に従属する処理を適用する工程と、
前記デジタルマスクをアップデートする工程であって、
前記容器の少なくとも１つのイメージを考慮すること、及び
前記イメージに応じて前記デジタルマスクを変更すべきか否か決めることによって行われ、前記マスクの前記変更は、
前記イメージの前記処理ゾーンにおける検査対象の前記可視パターンの位置及び向きを決定する工程と、
前記イメージの前記処理ゾーン又は前記マスクに対して、前記マスク及び前記処理ゾーンをそれらが一致する位置に配置できるように幾何学的な変換を適用する工程と、
前記デジタルマスクをアップデートするために少なくとも前記イメージの前記処理ゾーンと前記マスクとを融合する工程と、を備える、工程と、を備える。

さらに、本発明の方法は、以下の追加的な特徴の、少なくとも一つ及び／又はいずれを、組み合わせて有していてもよい。
容器の少なくとも１つのイメージから、初期化ステップにおいて前記デジタルマスクを準備すること、
前記処理ゾーンの各画素に対して、イメージ処理であって、前記処理ゾーンの各画素が前記デジタルマスクの一致する画素と比較される処理を適用すること、
前記可視パターンにおける欠陥を検出するために前記イメージを解析すること、
前記幾何学的な変換として、平行移動及び／又は回転及び／又はアナモルフォーシス（une anamorphose）を適用すること、及び
前記処理ステップに先立って、前記容器の撮られた前記イメージにフィルタリングするステップを行い、前記マスクをアップデートする工程において、前記フィルタリングするステップが適用された前記イメージを考慮すること。

非限定的な例示として本発明の実施形態を示す、添付の図面を参照してなされる以下の説明から、様々な他の特徴が明らかになる。

図１は、少なくとも１つの可視パターンをそれぞれ含む容器の底を検査するのに特に適合されたビジョンシステムの概略図である。 図１Ａは、可視パターンが看取される容器の底のイメージの一例を示す。 図２は、少なくとも１つの可視パターンを備えた容器の壁を検査するのに特に適合されたビジョンシステムの概略図である。 図２Ａは、その壁に可視パターンを有する容器のイメージの一例を示す。 図２Ｂは、ビジョンシステムを通過して進む図２Ａに示す容器の、アナモルフィックな連結された一連のイメージ及びスナップショットを示す。 図３は、本発明に係る方法の単純化されたフローチャートを示す。

図１及び図２に示すように、本発明は、装飾、紋章、位置決め用の突起又はノッチ、及び／又は型番号などの識別用又は認証用のマークなどの少なくとも１つの可視パターン３を備え、ボトル（des bouteilles）、瓶（des pot）、又はガラス製のフラスコ（des flacons）などの透明な又は半透明な材料でできた容器２を検査するためのビジョンシステム１の使用に関する。このような可視パターンは、特には、成型、エッチング、又は印刷によって得られてもよい。

本発明は、少なくとも１つの可視パターン３が存在する容器のゾーンに特に位置する欠陥を検出するために、容器を検査しようとするものである。この検査方法は、より具体的には、反復的な取扱いが保証されない場合、すなわち、ビジョンシステム１に対する容器２の位置及び向きが、一の容器と別の容器とにおいて異なる可能性がある場合に、容器を検査しようとするものである。一般的に、容器２は、垂直軸に関する回転体であり、それらの対称軸に関する任意の向きで検査ステーションに現れる。

典型的には、ビジョンシステム１は、そのビジョンシステムを高速で連続的に通過して進む各容器２の１つ以上のイメージを撮るのに適合している。当然ながら、ビジョンシステム１は、容器２のイメージを撮るのに適合し又はそのように構成されており、各イメージは、検査対象の可視パターンともいえる、少なくとも１つの所定の可視パターン３が出現するところに定義された少なくとも１つの処理ゾーンＺｔを有する。処理ゾーンＺｔは、容器が適合するかどうか決定するために検査されるべき容器のゾーンに対応する。少なくとも１つの所定の可視パターン３を含むこの処理ゾーンＺｔは、可視パターン３によって覆われた領域に限られていてもよいし、可視パターン３が占めるエリアより大きいエリアを覆っていてもよい。処理ゾーンを定義する目的は、可視パターン３の範囲内及び／又はその可視パターンの近傍で検査がなされることを可能にすることである。

図１及び図１Ａは、ビジョンシステム１が容器２の底２₁を検査するのに適合している実施形態を示し、各容器は少なくとも１つの可視パターン３を含む。この例では、ビジョンシステム１は、容器２の底２₁の下方に配置された光源５及び容器２の上方に配置されたレンズを備えたカメラ６を有する。カメラ６は、そのカメラによって撮られた各容器２についてのイメージＩを取得して処理するためのユニット７につながっている。図１Ａは、少なくとも１つの所定の検査対象の可視パターン３、すなわち、製造者の商標又は内容物の表示を含む、少なくとも１つの処理ゾーンＺｔに形成された、検査対象の容器の底のイメージＩの一例を示す。

図２Ａ及び図２Ｂは、ビジョンシステム１が、容器２の壁２₂を検査するのに適合している別の実施形態を示す。この例において、処理ゾーンＺｔは、検査対象の可視パターン３として紋章が現れる壁の一部に関する。この例において、ビジョンシステム１は、少なくとも１つの光源（図示省略）と、それぞれ独自のレンズを有する一連のカメラ６とを含み、この複数のカメラは、異なるカメラによって撮られたイメージがビジョンステーション１を通過して進む各容器２の外周全体を含むように、角度的に分散配置されている。有利には、隣接する２つカメラが容器２の周り全体を確実に検査することができるように容器の共通のゾーンを担うように、複数のカメラ６が配置されている。図２Ｂは、同一の容器についての６つのサムネイルイメージＩ¹ ₁，Ｉ¹ ₂，Ｉ¹ ₃，・・・Ｉ¹ ₆の一例を示す。このサムネイルのいくつかは、検査対象の可視パターン３、すなわち、紋章を含む。

当然ながら、ビジョンシステム１は、例示以外の、適切などのような形態に製造されてよい。どのように製造されていても、ビジョンシステム１では、このビジョンシステムを通過して連続的に進む各容器２について、容器を照らして容器の少なくとも１つのイメージＩ_iを撮ることができる。撮られた各イメージＩ_iは、所定の数の画素を有し、各画素は、所定のレベルの明度を有する。

本発明の検査方法は、従って、ビジョンステーション１を通過して連続的に進む一連の容器２について、少なくとも１つの検査対象の可視パターン３を含む少なくとも１つの処理ゾーンを選択する工程を備える。

さらに、図３に示すように、本発明の方法は、マーカーである可視パターン３を選択し、撮られたイメージＩ_iにおいて少なくとも１つの探索ゾーンＺｒを考慮するステップ１００を備える。探索ゾーンＺｒは、そこに現れる、少なくとも１つのマーカーである選択された可視パターン３を有する。探索ゾーンＺｒに位置する、マーカー可視パターン３は、処理ゾーンＺｔに存在する検査対象の可視パターン３に任意に対応していてもよいことに留意すべきである。図２Ａに示す例では、探索ゾーンＺｒは、容器の肩（l'epaule）に実質的に対応する、イメージの中の限られた高さのゾーンに対応し、探索ゾーンＺｒには、可視パターン３として処理ゾーンＺｔの一部をも形成する紋章が配置されている。当然ながら、上記の通り、探索ゾーンＺｒに配置されているマーカー可視パターン３は、処理ゾーンＺｔに存在している検査対象の可視パターン３に対応している必要はない。それゆえ、例えば、探索ゾーンがマーカー可視パターン３として位置決め用のノッチ４を含みつつ、処理ゾーンが検査対象の可視パターンとして紋章を含むように準備されていてもよい。好ましい実施形態において、探索ゾーンＺｒ及び処理ゾーンＺｔは共通の可視パターン３を有し、つまり、検査対象の可視パターンは、マーカー可視パターンに対応する。

本発明の方法は、選択された可視パターン３（マーカー）の探索ゾーンＺｒにおける位置を突き止めるステップ１１０を備える。換言すれば、この位置を突き止めるステップは、イメージＩ_iにおいて、マーカー可視パターン３の位置及び向きを決定する工程を備える。このステップにより、所定の座標系において、容器２の様々なイメージＩ_iに現れる可視パターン３の座標ｘ，ｙ及び向きθを決定できることが分かる。複数の容器２が、それらがビジョンシステム１に運ばれてくるとき、特にそれらのイメージが撮られている期間に、異なる位置及び／又は向きをとることを考慮すると、それらのイメージＩ_iにおける可視パターン３の位置は変化する可能性がある。

より厳密には、トレーニング段階の期間中に、この位置を突き止めるステップは、選択された可視パターン３（マーカー）の、形態的な及び／又はテキスト的な及び／又は光度的な特徴を記録する工程を備える。選択された可視パターン（マーカー）の位置を突き止めるために、本発明は、典型的な探索方法（例えば、パターンマッチングの利用）を、探索ゾーンＺｒに存在するそのような特徴を探索するように用いる工程を備える。

この位置を突き止めるステップ１１０は、処理ステップ１３０の期間中に、デジタルマスクＭ_iが撮られたイメージＩ_iに適切に適用されることを可能にするのに役立つ。それゆえ、本発明の方法は、検査対象の可視パターン３を少なくとも含むイメージにおいて、少なくとも１つの処理ゾーンＺｔのためにデジタルマスクＭ_iを用いる工程を備える。処理ゾーンＺｔは、探索ゾーンＺｒ若しくは探索ゾーンＺｒの一部のみに対応し、又は、探索ゾーンを完全に覆いつつ探索ゾーンの外側にも延びている。それゆえ、デジタルマスクＭ_iは所定の数の画素を備え、各画素は、この処理ゾーンＺｔの範囲内で所定の明度レベル（グレーレベル）を有する。デジタルマスクＭ_iの準備については、以下により詳細に説明する。

本発明の方法は、処理ステップ１３０の期間中に、デジタルマスクＭ_i及びイメージの処理ゾーンＺｔが一致して配置されるように、幾何学的な変換Ｔを適用するステップ１２０を備える。適用される幾何学的な変換Ｔは、ステップ１１０の期間中になされた可視パターン３（マーカー）の位置の突き止めの結果に起因し又は従属する。

図３に示す例において、幾何学的な変換ＴはイメージＩ_iに適用される。幾何学的な変換Ｔが、イメージＩ_iに代えて、デジタルマスクＭ_iに適用される実施例を想定することができる。この幾何学的な変換Ｔのステップは、デジタルマスクＭ_iの画素が、イメージＩ_iの処理ゾーンＺｔの画素に一致させられる、又は、重ねられることを可能にする。それゆえ、一般的な態様では、デジタルマスクＭ_iの画素ｍ及び処理ゾーンＺｔの画素ｐは、その画素の座標が、それぞれ、デジタルマスクＭ_iのためのｍ（ｘ，ｙ）及び処理ゾーンＺｔのためのｐ（ｘ，ｙ）と記述されるように、共通のＸ，Ｙ座標系に配置される。以下の説明に、幾何学的な変換Ｔを例示する。

本発明の方法は、処理ステップ１３０において、イメージＩ_iに処理ゾーンＺｔの各画素にイメージ処理を適用する工程を備え、この処理は、デジタルマスクＭ_iの画素に一致する明度の値に従属する。このイメージ処理は、イメージの処理ゾーンＺｔにおける各画素ｐ（ｘ，ｙ）に対して、デジタルマスクＭ_iの対応する又は一致する画素ｍ（ｘ，ｙ）を考慮しながら、なされると考えられるべきである。

イメージ処理は、イメージの画素ｐ（ｘ，ｙ）をデジタルマスクＭ_iの画素ｍ（ｘ，ｙ）と比較するステップを少なくとも備えていてもよく、実際には以下の演算処理がなされる。
ｐ（ｘ，ｙ）−ｍ（ｘ，ｙ）
ｐ（ｘ，ｙ）／ｍ（ｘ，ｙ）
ａ＊ｐ（ｘ，ｙ）＋ｂ＊ｍ（ｘ，ｙ）、ここで、ａ及びｂは係数である。

本発明の方法は、ステップ１４０において、容器が、特に処理ゾーンＺｔにおいて、欠陥を有するかどうか決定するために、処理ステップの結果を解析する工程を備える。

本発明の方法は、ステップ１５０において、デジタルマスクＭ_iをアップデートするか否かを決定する工程を備える。ステップ１６０において、本発明の方法は、処理ゾーンＺｔの画素の明度レベルに応じてデジタルマスクＭ_iをアップデートする工程を備える。このアップデートする工程１６０は、例えば、統計的な又は数学的なルールを用いて、デジタルマスクＭ_iを多かれ少なかれ展開させる。

デジタルマスクＭ_iを変更するか否かの選択（ステップ１５０）は、考慮しているイメージのような様々な要因に従属してもよく、例えば、統計的な解析、及び／又は、多かれ少なかれ厳格な品質管理の要件によって決定されるような、容器の生産の状態に従属してもよい。本発明の単純化された第１変形例では、検査された各容器に対して、全てのイメージがデジタルマスクの展開に連続的に寄与する。別の変形例の実施形態において、デジタルマスクＭ_iは、容器の生産の開始に対応する限定された期間においてのみ展開される。別の変形例の実施形態において、デジタルマスクＭ_iは、欠陥が全くないことが観察された容器のイメージのみを考慮することによってアップデートされる。この特定の実施形態において、デジタルマスクＭ_iは、解析ステップで容器２に欠陥が全くないと決定されたとき、Ｍ_i＋１になるように変更される。このような事情のもとで、デジタルマスクＭ_iは、処理ゾーンＺｔにおける画素の明度の値の少なくとも一部を画素ごとに組み込むように変更される。それゆえ、多数の（数十の）イメージを融合することによってデジタルマスクを作成する利点は、欠陥の無い容器のイメージであると考えてもよい、容器の平均的なイメージを、自動的に取得することを可能にすることであり、これにより、局所的に変化する検出感度が自動的に実現される。

本発明の方法は、変更されている可能性があるデジタルマスクＭ_i＋１を用いて、次の容器２のために上記の処理ステップを更新する工程を備える。

それゆえ、本発明の方法は、検査中に容器のイメージと比較される予備処理イメージの蓄積の実行に頼る、欠陥を検出する仕組みを準備する。この検出の仕組みは、繰り返し発生する情報（影又はパターン）を除去して、可視パターンの存在によって阻害されている処理ゾーンにおける良好な測定感度を得るのに役立ち、場合によっては、様々な可視パターンを含む、全体の処理ゾーンに対して同一の検出基準を使用するのにも役立つ。

それゆえ、本発明の方法は、
容器２の少なくとも１つのイメージを考慮すること、
少なくとも前記イメージの探索ゾーンＺｒにおける可視パターン３（マーカー）の位置及び向きを決定すること、
前記マーカー可視パターン３の位置及び向きの関数である幾何学的な変換を、処理ゾーンＺｔ及びデジタルマスクがこれらが一致する位置に配置されるように、前記イメージの処理ゾーンＺｔ又は前記マスクに適用すること、及び
前記デジタルマスクＭ_iをアップデートするために、少なくとも前記イメージの前記処理ゾーン及びデジタルマスクを融合すること、によって
デジタルマスクＭ_iを調整する工程を備える。

上記の通り、デジタルマスクＭ_iは、イメージの処理ゾーンＺｔを融合することによって作成される。典型的には、デジタルマスクにイメージを融合する工程は、デジタルマスクの一致する画素の値を変更する工程を備える。この変更は、例えば、隣接する画素又は隣接する画素グループを考慮しながら、しきい値を伴い又はしきい値を伴わないで、デジタルマスクの画素及びイメージの画素における値のシステマティックな又は条件付きの線形結合を行うことなどの様々な形式でなされてよい。

変形例に係る実施形態において、本方法は、例えば、欠陥を全く含まない、少なくとも１つの容器のイメージから始まる初期化ステップにおいて、デジタルマスクを準備する工程を備える。

上記の記載から分かる通り、イメージの画素がデジタルマスクの画素に厳密に一致するように容器２のランダムな向き及び位置が補正される。この幾何学的な変換は様々な形式でなされてよい。

容器２の底２₁のイメージＩ_iが撮られるとき（図１及び図１Ａ）、可視パターン３の、本来の位置又は固定座標に対する回転角度及び平行移動量（de la translation）の決定に基づいて、イメージに幾何学的な変換を行うことによって、イメージが修正される。

一連のカメラ６によって容器の壁のイメージＩ_iが撮られるとき（図２、図２Ａ、及び図２Ｂ）、イメージに対する幾何学的な変換には、少なくとも１つのアナモルフォーシス処理が利用される。容器２が回転体の形状である場合、各カメラ６は、全てのスナップショットが、処理のための共通の座標系を有するように、アナモルフォーシス処理を用いる。アナモルフォーシスの計算は、典型的には円筒形状である容器の壁の平面の図を得るのに役立つ。この方法は、容器の壁全体の展開図が形成されるように、アナモルフォーシス後のスナップショット又はサムネイルをつなぎ合せることを可能にする（図２Ｂ）。その後、アナモルフォーシスがなされたサムネイルイメージのつなぎ合せの一つにおいて可視パターンの位置を突き止めることができる。

本発明の有利な特徴によれば、本方法は、処理ステップを行うのに先立って、容器の撮られたイメージをフィルタリングするステップを準備する工程を有する。それゆえ、撮られたイメージの品質を向上させるために、ヒストグラムを補正して、ローパスフィルタを用いてノイズを低減し、又は、ハイパスタイプのフィルタを用いてイメージにおける欠陥の局所的なコントラストを補強するための準備がなされてもよい。このようなフィルタリングは、幾何学的な変換のステップの前又は後に行うことができる。

このフィルタリングするステップは、デジタルマスクをアップデートするときに考慮されるイメージに適用される。

本発明は、記載及び図示された例に限定されない。なぜなら、その範囲を超えることなく、様々な変更が適用されてよいからである。また、本発明は、熱い容器によって出射された放射線から直接得られた赤外イメージを解析することにも適用できる。

Claims (7)

1. 少なくとも１つの可視パターン（３）を含む、透明な又は半透明な材料でできた容器（２）を検査するためのビジョンシステム（１）を用いる光学的な方法であって、
   前記ビジョンシステム（１）を通過して進む前記容器（２）を照らす工程と、
   前記ビジョンシステム（１）を通過して進む各容器（２）の少なくとも１つのイメージ（Ｉ_i）を形成する工程であって、各イメージが所定の数の画素を有し、かつ、各画素が個別の明度レベルを有する、工程と、
   前記容器の前記イメージにおいて、検査対象の少なくとも１つの可視パターンを含む少なくとも１つの処理ゾーン（Ｚｔ）と、少なくとも１つのマーカー可視パターン（３）が出現する少なくとも１つの探索ゾーン（Ｚｒ）とを決定する工程と、
   少なくとも前記イメージの前記処理ゾーン（Ｚｔ）のためのデジタルマスク（Ｍ_i）を準備する工程と、
   前記容器の前記イメージの前記探索ゾーン（Ｚｒ）における前記マーカー可視パターン（３）の位置及び向きを決定する工程と、
   前記デジタルマスク（Ｍ_i）又は前記処理ゾーン（Ｚｔ）に対して、前記マスク（Ｍ_i）及び前記処理ゾーン（Ｚｔ）が処理ステップの期間中にそれらが一致する位置に配置されるように、幾何学的な変換であって、前記マーカー可視パターン（３）の位置及び向きの関数である変換を適用する工程と、
   前記処理ゾーン（Ｚｔ）の各画素に対して、前記容器における欠陥の存在を検出するために、イメージ処理であって、前記デジタルマスク（Ｍ_i）の一致する画素の明度の値に従属する処理を適用する工程と、
   前記デジタルマスク（Ｍ_i）をアップデートする工程であって、
   前記容器（２）の少なくとも１つのイメージ（Ｉ_i）を考慮すること、及び
   前記イメージに応じて前記デジタルマスクを変更すべきか否か決めることによって行われ、前記マスクの前記変更は、
   前記イメージの前記処理ゾーン（Ｚｔ）における検査対象の前記可視パターン（３）の位置及び向きを決定する工程と、
   前記イメージの前記処理ゾーン（Ｚｔ）又は前記マスクに対して、前記マスク（Ｍ_i）及び前記処理ゾーン（Ｚｔ）をそれらが一致する位置に配置できるように幾何学的な変換を適用する工程と、
   前記デジタルマスク（Ｍ_i）をアップデートするために少なくとも前記イメージの前記処理ゾーン（Ｚｔ）と前記マスクとを融合する工程と、を備える、工程と、を備える、
   方法。
2. 容器の少なくとも１つのイメージから、初期化ステップにおいて前記デジタルマスクを準備する工程を備える、請求項１に記載の方法。
3. 前記処理ゾーン（Ｚｔ）の各画素に対して、イメージ処理であって、前記処理ゾーン（Ｚｔ）の各画素を前記デジタルマスクの前記一致する画素と対比する処理を適用する工程を備える、請求項１又は２に記載の方法。
4. 前記可視パターンにおいて欠陥を検出するために前記イメージを解析する工程を備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. 前記幾何学的な変換として、平行移動及び／又は回転を適用する工程を備える、請求項１及び２に記載の方法。
6. 前記幾何学的な変換として、アナモルフォーシスを適用する工程を備える、請求項１及び２に記載の方法。
7. 前記処理ステップに先立って、前記容器の撮られた前記イメージに対してフィルタリングするステップを行う工程と、前記マスクをアップデートする工程において前記フィルタリングするステップが適用された前記イメージを考慮する工程と、を備える、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。

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